高阻隔鍍鋁膜及真空鍍鋁設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于鍍鋁膜技術領域，具體涉及一種高阻隔鍍鋁膜及真空鍍鋁設備。
【背景技術】
[0002]現有市場上常見的鍍鋁膜結構為在薄膜基材表面只設置一層鍍鋁層從而使薄膜基材具有阻隔性，同時具有金屬光澤，該鍍鋁膜在真空鍍鋁設備上完成鍍鋁工序，就是在高真空狀態下通過高溫將高純度鋁絲熔化成液體鋁，而這些液體鋁在高真空下快速蒸發成鋁蒸汽，該鋁蒸汽遇到急冷的薄膜基材后凝固成很薄的鋁層。上述現有鍍鋁膜存在的問題是，僅靠一層鍍鋁層實現阻隔，阻隔效果有限，難以滿足某些特種包裝上更高的阻隔要求。
【實用新型內容】
[0003]對此，本實用新型旨在提供一種阻隔性更好的鍍鋁膜及用于制造其的真空鍍鋁設備。
[0004]實現本實用新型目的的技術方案是:
[0005]—種高阻隔鍍鋁膜，包括薄膜基材和設于所述薄膜基材上的阻隔層，所述阻隔層包括距離所述薄膜基材由近到遠依次設置的第一阻隔層、第二阻隔層和第三阻隔層;所述第一阻隔層為阻隔涂料層，所述第二阻隔層為阻隔離子層，所述第三阻隔層為鍍鋁層。
[0006]—種用于制造上述高阻隔鍍鋁膜的真空鍍鋁設備，包括在沿著膜料傳送方向上依序設置的卷繞機構、蒸鍍機構和收卷機構，所述卷繞機構與所述蒸鍍機構之間依序設置有涂覆涂料以形成所述第一阻隔層的噴涂機構和產生離子以形成所述第二阻隔層的等離子發生機構。
[0007]上述技術方案中，所述蒸鍍機構包括加熱源、鍍鋁輥和鋁絲傳送裝置，所述鍍鋁輥間隔一定距離設置在所述加熱源上方，所述鋁絲傳送裝置適于將鋁絲傳送至與所述加熱源接觸以使鋁絲受熱熔化并蒸發形成鋁蒸汽，在臨近所述加熱源的位置設有適于對所述鋁絲末端限位的限位部件。
[0008]上述技術方案中，所述限位部件為固定在所述加熱源側部的耐高溫限位管，所述耐高溫限位管具有適于所述鋁絲穿過的穿孔。
[0009]上述技術方案中，所述耐高溫限位管為陶瓷管或者玻璃纖維管。
[0010]上述技術方案中，所述鍍鋁輥軸向兩端粘附有耐高溫保護膜層。
[0011]本實用新型具有積極的效果:
[0012](I)本實用新型的鍍鋁膜中，通過設置三層阻隔層，分別為阻隔涂料層、阻隔離子層和鍍鋁層，這樣可有效提高鍍鋁膜的阻隔性，從而滿足特種包裝上更高的阻隔要求;所述阻隔離子層是經等離子發生機構而形成的微觀離子層(具有阻隔特性的金屬離子)，它的存在既能夠增加鍍鋁層的粘附力并使鍍鋁層表面更加致密，同時自身也具有很好的阻隔性；另外，本實用新型的真空鍍鋁設備中，將噴涂機構與等離子發生機構集成在真空鍍鋁設備上，從而在一臺真空鍍鋁設備上實現整個制膜工序，能夠有效提高工作效率，并保證膜質量。
[0013](2)本實用新型的真空鍍鋁設備中，蒸鍍機構的結構合理，通過限位部件對鋁絲末端形成約束，從而能有效防止鋁絲末端在加熱源上滑動，進而防止產生的鋁渣飛濺到鍍鋁膜上對鍍鋁膜產生傷害，有效保證了鍍鋁膜的生產質量。
[0014](3)本實用新型的蒸鍍機構中，限位部件為固定在所述加熱源側部的耐高溫限位管，所述耐高溫限位管具有適于所述鋁絲穿過的穿孔，所述耐高溫限位管可采用陶瓷管或者玻璃纖維管，其結構簡化可行，造價低廉，具有較高的性價比。
[0015](4)本實用新型的蒸鍍機構中，通過在鍍鋁輥軸向兩端粘附有耐高溫保護膜層，鍍鋁輥傳送塑料薄膜時，塑料薄膜的兩側邊緣落在耐高溫保護膜層上，從而能夠使鋁蒸汽覆蓋整個塑料薄膜寬度，避免了不必要的膜材浪費，同時起到保護鍍鋁輥的作用(能防止鋁蒸汽附著在鍍鋁輥上)。
【附圖說明】
[0016]圖1為本實用新型中高阻隔鍍鋁膜的剖視圖；
[0017]圖2為本實用新型中真空鍍鋁設備的工作流程框圖；
[0018]圖3為本實用新型的真空鍍鋁設備中，蒸鍍機構的結構示意圖；
[0019]圖4為本實用新型中，鍍鋁輥的正向視圖。
[0020]圖中所示附圖標記為:01_蒸鍍機構；1-加熱源；2-鍍鋁輥;3-鋁絲傳送裝置;4-鋁絲;5-耐高溫保護膜層;6-鋁蒸汽;7-鍍鋁膜;71-薄膜基材;72-阻隔層;73-第一阻隔層;74-第二阻隔層;75-第三阻隔層;8-卷繞機構;9-收卷機構；10-噴涂機構；11-等離子發生機構。
【具體實施方式】
[0021]下面結合說明書附圖對本實用新型的具體結構做以說明:
[0022]實施例1、高阻隔鍍鋁膜
[0023]—種高阻隔鍍鋁膜，其結構如圖1所示，包括薄膜基材71和設于所述薄膜基材71上的阻隔層72，所述阻隔層72包括距離所述薄膜基材71由近到遠依次設置的第一阻隔層73、第二阻隔層74和第三阻隔層75;所述第一阻隔層73為阻隔涂料層，所述第二阻隔層74為阻隔離子層，所述第三阻隔層75為鍍鋁層。本實施例的鍍鋁膜中，通過設置三層阻隔層，分別為阻隔涂料層、阻隔離子層和鍍鋁層，這樣可有效提高鍍鋁膜的阻隔性，從而滿足特種包裝上更高的阻隔要求;所述阻隔離子層是經等離子發生機構而形成的微觀離子層(具有阻隔特性的金屬離子)，它的存在既能夠增加鍍鋁層的粘附力并使鍍鋁層表面更加致密，同時自身也具有很好的阻隔性;所述阻隔涂料采購市場上具有阻隔特性的涂料即可。所述阻隔離子層為阻隔特性好的金屬離子層。
[0024]實施例2、真空鍍鋁設備
[0025]—種用于制造實施例1中所述高阻隔鍍鋁膜的真空鍍鋁設備，如圖2所示，其包括在沿著膜料傳送方向上依序設置的卷繞機構8、蒸鍍機構01和收卷機構9，所述卷繞機構8與所述蒸鍍機構01之間依序設置有涂覆涂料以形成所述第一阻隔層73的噴涂機構10和產生離子以形成所述第二阻隔層74的等離子發生機構11;本實施例的真空鍍鋁設備中，將噴涂機構10與等離子發生機構11集成在真空鍍鋁設備上，從而在一臺真空鍍鋁設備上實現整個制膜工序，能夠有效提高工作效率，并保證膜質量;所述噴涂機構10包括噴涂涂料的噴涂裝置(具有噴頭)和烘干涂料的烘干裝置，其結構為現有技術，本實施例中對其結構不做贅述;所述等離子發生機構11的工作氣體為氮氣或氬氣等氣體，在真空環境中，工作氣體高速沖擊阻隔特性好的金屬板材(如不銹鋼板、鐵板或銅板等)，從而使金屬離子飛濺出并粘附在阻隔涂層表面形成致密的阻隔離子層，并且等離子飛濺而來作用于薄膜上，阻隔離子層的存在既能夠增加鍍鋁層的粘附力并使鍍鋁層表面更加致密，同時自身也具有很好的阻隔性，并且金屬離子沖擊薄膜基材時能夠將第一阻隔層73上可能存在的灰塵彈掉，其結構以為現有技術，本實施例中不多做說明。
[0026]參看圖3，本實施例中的所述蒸鍍機構01包括加熱源1、鍍鋁輥2和鋁絲傳送裝置3，所述鍍鋁輥2間隔一定距離設置在所述加熱源1(加熱板)上方，所述鋁絲傳送裝置3適于將鋁絲4傳送至與所述加熱源I接觸以使鋁絲4受熱熔化并蒸發形成鋁蒸汽，在臨近所述加熱源I的位置設有適于對所述鋁絲4末端限位的限位部件。本實施例的蒸鍍機構的結構合理，通過限位部件對鋁絲4末端形成約束，從而能有效防止鋁絲4末端在加熱源I上滑動，進而防止產生的鋁渣飛濺到鍍鋁膜上對鍍鋁膜7產生傷害，有效保證了鍍鋁膜的生產質量。
[0027]本實施例中，所述限位部件為固定在所述加熱源I側部的耐高溫限位管，所述耐高溫限位管具有適于所述鋁絲4穿過的穿孔，進一步所述耐高溫限位管為陶瓷管、玻璃纖維管等現有技術中常見的耐高溫管材，其結構簡化可行，造價低廉，具有較高的性價比。
[0028]進一步，參看圖4，本實施例中的所述鍍鋁輥2軸向兩端粘附有耐高溫保護膜層5，參看圖2，所述鍍鋁輥2傳送塑料薄膜時，塑料薄膜的兩側邊緣落在耐高溫保護膜層5上，從而能夠使鋁蒸汽6覆蓋整個塑料薄膜寬度，避免了不必要的膜材浪費，同時起到保護鍍鋁輥2的作用(能防止鋁蒸汽6附著在鍍鋁輥2上)，結構簡化可行，造價低廉。再進一步，所述耐高溫保護膜層5為耐高溫膠帶，或者現有技術中其它的耐高溫膜材。
[0029]顯然，本實用新型的上述實施例僅僅是為清楚地說明本實用新型所作的舉例，而并非是對本實用新型的實施方式的限定。對于所屬領域的普通技術人員來說，在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動。這里無需也無法對所有的實施方式予以窮舉。而這些屬于本實用新型的實質精神所引伸出的顯而易見的變化或變動仍屬于本實用新型的保護范圍。
【主權項】
1.一種高阻隔鍍鋁膜，包括薄膜基材(71)和設于所述薄膜基材(71)上的阻隔層(72)，其特征在于，所述阻隔層(72)包括距離所述薄膜基材(71)由近到遠依次設置的第一阻隔層(73)、第二阻隔層(74)和第三阻隔層(75);所述第一阻隔層(73)為阻隔涂料層，所述第二阻隔層(74)為阻隔離子層，所述第三阻隔層(75)為鍍鋁層。2.—種用于制造權利要求1中所述高阻隔鍍鋁膜的真空鍍鋁設備，包括在沿著膜料傳送方向上依序設置的卷繞機構(8)、蒸鍍機構(Ol)和收卷機構(9)，其特征在于，所述卷繞機構(8)與所述蒸鍍機構(01)之間依序設置有涂覆涂料以形成所述第一阻隔層(73)的噴涂機構(10)和產生離子以形成所述第二阻隔層(74)的等離子發生機構(11)。3.根據權利要求2所述的真空鍍鋁設備，其特征在于，所述蒸鍍機構(01)包括加熱源(1)、鍍鋁輥(2)和鋁絲傳送裝置(3)，所述鍍鋁輥(2)間隔一定距離設置在所述加熱源(I)上方，所述鋁絲傳送裝置(3)適于將鋁絲(4)傳送至與所述加熱源(I)接觸以使鋁絲(4)受熱熔化并蒸發形成鋁蒸汽，在臨近所述加熱源(I)的位置設有適于對所述鋁絲(4)末端限位的限位部件。4.根據權利要求3所述的真空鍍鋁設備，其特征在于，所述限位部件為固定在所述加熱源(I)側部的耐高溫限位管，所述耐高溫限位管具有適于所述鋁絲(4)穿過的穿孔。5.根據權利要求4所述的真空鍍鋁設備，其特征在于，所述耐高溫限位管為陶瓷管或者玻璃纖維管。6.根據權利要求2所述的真空鍍鋁設備，其特征在于，所述鍍鋁輥(2)軸向兩端粘附有耐高溫保護膜層(5)。
【專利摘要】本實用新型公開了一種高阻隔鍍鋁膜及真空鍍鋁設備，該高阻隔鍍鋁膜包括薄膜基材和設于所述薄膜基材上的阻隔層，所述阻隔層包括距離所述薄膜基材由近到遠依次設置的第一阻隔層、第二阻隔層和第三阻隔層；所述第一阻隔層為阻隔涂料層，所述第二阻隔層為阻隔離子層，所述第三阻隔層為鍍鋁層；該真空鍍鋁設備包括在沿著膜料傳送方向上依序設置的卷繞機構、蒸鍍機構和收卷機構，所述卷繞機構與蒸鍍機構之間依序設置有涂覆涂料以形成所述第一阻隔層的噴涂機構和產生離子以形成所述第二阻隔層的等離子發生機構。本實用新型的鍍鋁膜具有極高的阻隔性，能滿足特種包裝上更高的阻隔要求；真空鍍鋁設備的結構合理，能夠有效提高工作效率，并保證膜質量。
【IPC分類】C23C14/56, C23C14/14, C23C14/24
【公開號】CN205258599
【申請號】CN201521064485
【發明人】吳明忠, 吳林海, 張孝中, 曾祥平, 熊燕斌, 吳建松, 陸志剛, 朱佳, 鄭海艷
【申請人】海寧長宇鍍鋁材料有限公司
【公開日】2016年5月25日
【申請日】2015年12月18日