一種鍍膜設備及鍍膜方法
【專利摘要】本發明涉及溶液鍍膜技術領域，尤其涉及一種鍍膜設備，包括儲備池、工作池、過濾池、提拉機構和控制單元，所述儲備池用于配備合格鍍膜液并將合格鍍膜液流入工作池，工作池用于進行鍍膜作業并將不合格鍍膜液流入過濾池，過濾池接收來自工作池的不合格鍍膜液并進行過濾處理成合格鍍膜液后重新輸送至工作池，提拉機構設置在工作池中，用于對工件進行上下提拉進行鍍膜作業，工作池中設置有對溫度、黏度、電導率、配比進行監控的控制單元。與現有技術相比，本發明的鍍膜設備可以及時檢測出鍍膜液的性質變化，并且能及時改變鍍膜液的相關性質，使鍍膜液的性質保持在合格狀態進行鍍膜，保證鍍膜質量良好。
【專利說明】
_種鍍膜設備及鍍膜方法
【技術領域】
[0001 ]本發明涉及溶液鍍膜技術領域，尤其涉及一種鍍膜設備及鍍膜方法。
【【背景技術】】
[0002]溶液鍍膜是指在溶液中利用化學反應或電化學等化學方法在基體表面沉積薄膜的技術。溶液鍍膜技術不需要真空條件，設備簡單，可以在各種基體表面成膜，原料易得，在電子元器件、各種表面涂覆工藝與裝飾行業等方面廣泛應用。溶液鍍膜技術主要包括溶膠凝膠技術、化學反應沉積技術、陽極氧化技術、電鍍技術。其中溶膠凝膠技術因其易于控制薄膜組分，可在分子水平控制摻雜，工藝簡單，可獲得理想厚度和組分。
[0003]涂膠方法是溶膠凝膠技術中的關鍵技術之一，主要方式為旋涂法與浸漬提拉法。旋涂法主要是采用電機驅動水平放置的平面鍍膜件，將附著于水平鍍膜件表面的鍍膜液在離心力作用下平鋪于鍍膜件表面，隨著鍍膜液中溶劑揮發，在鍍膜件表面生長一層凝膠膜，再進行后期處理，便得到所需薄膜。提拉法是將鍍膜件浸漬于鍍膜液中，然后通過一定的速度，將鍍膜件從鍍膜液中向上提拉出鍍膜液，鍍膜液便在鍍膜件表面形成凝膠薄膜。
[0004]在鍍膜過程中，鍍膜液的各種性質容易發生變化，當鍍膜液的性質變化超出一定范圍時，將會導致鍍膜質量大打折扣。因此，為了保證鍍膜質量良好，急需提供一種鍍膜設備，可以及時檢測出鍍膜液的性質變化，并且能及時改變鍍膜液的相關性質，使鍍膜液的性質保持在合格狀態進行鍍膜，保證鍍膜質量良好。
【
【發明內容】
】
[0005]為克服現有鍍膜設備難以實時監測并保持鍍膜液性質的缺點，本發明提供了一種可實時監控并保持鍍膜液性質的鍍膜設備。
[0006]本發明解決技術問題的方案是提供一種鍍膜設備，包括儲備池、工作池、過濾池、提拉機構和控制單元，所述儲備池用于配備合格鍍膜液并將合格鍍膜液流入工作池，工作池用于進行鍍膜作業并將不合格鍍膜液流入過濾池，過濾池接收來自工作池的不合格鍍膜液并進行過濾處理成合格鍍膜液后重新輸送至工作池，提拉機構設置在工作池中，用于對工件進行上下提拉進行鍍膜作業，工作池中設置有對溫度、黏度、電導率、配比進行監控的控制單元。
[0007]優選地，所述鍍膜設備進一步包括補料池，補料池提供合格的鍍膜液進入循環池。
[0008]優選地，所述提拉機構包括水平支撐桿和鍍膜基體，水平支撐桿用于提拉鍍膜基體，控制單元將鍍膜基體的提拉速度控制在0.01mm/s?1cm/s。
[0009]優選地，所述提拉機構進一步包括滑輪和卷料鍍膜基體，滑輪用于傳動卷料鍍膜基體，控制單元將卷料鍍膜基體的傳動速度控制在I Ocm/s內。
[0010]優選地，所述工作池內設置一個或多個滑輪，多個滑輪在鍍膜液液面上下間隔設置。
[0011]優選地，所述一種使用所述設備進行的鍍膜方法，包括步驟S1:在儲備池中配制合格的鍍膜液;步驟S2:提拉機構在工作池中上下反復平動，對待鍍膜工件進行鍍膜;步驟S3:鍍膜控制裝置對工作池中的鍍膜液性質進行檢測控制及步驟S4:當檢測到工作池中鍍膜液不合格時，則控制工作池中不合格鍍膜液進入過濾池，經過過濾池過濾處理成合格鍍膜液后重新進入工作池中。
[0012]優選地，所述控制單元將鍍膜液溫度控制在-40°C?40°C。
[0013]優選地，所述控制單元將鍍膜液的黏度控制在200cp?650cp。
[0014]優選地，所述控制單元將鍍膜液的導電率控制在lmS/cm?7mS/cm。
[0015]優選地，所述鍍膜液的組分包括高分子材料、有機溶劑和電解液，所述控制單元將高分子材料、有機溶劑和電解液之間的比例控制在高分子材料:有機溶劑:電解液=(2 %?12% ):(30% ?98% ):(4% ?20%)。
[0016]優選地，所述一種使用所述設備進行鍍膜方法，包括步驟S1:在儲備池中配制合格的鍍膜液;步驟S2:提拉機構在工作池中上下反復平動，對待鍍膜工件進行鍍膜;步驟S3:鍍膜控制裝置對工作池中的鍍膜液性質進行檢測控制及步驟S4:當檢測到工作池中鍍膜液不合格時，則控制工作池中不合格鍍膜液進入過濾池，經過過濾池過濾處理成合格鍍膜液后重新進入工作池中。
[0017]與現有技術相比，本發明提供的鍍膜設備，包括儲備池、工作池、過濾池、循環池和提拉機構，用于將基體在鍍膜液中鍍膜，所述儲備池將鍍膜液流入工作池，工作池將不合格鍍膜液流入過濾池，過濾池將不合格的鍍膜液過濾后流入循環池，循環池將合格的鍍膜液栗送至工作池，提拉機構設置在工作池中，上下提拉進行鍍膜作業，工作池中設置有對溫度、黏度、電導率、配比、攪拌器、提拉速度和轉動速度進行監控的控制單元。補料池對循環池中的鍍膜液進行補料，儲備池中設置第一控制單元，工作池中設置第二控制單元，循環池中設置第三控制單元，第一控制單元、第二控制單元、第三控制單元分別包括溫度控制單元、黏度控制單元、電導率控制單元、配比控制單元和攪拌器控制單元，第二控制單元還包括提拉速度控制單元或轉動速度控制單元，第三控制單元還包括栗送速度控制單元。其中，溫度控制單元將鍍膜液溫度控制在_40°C?40°C，黏度控制單元將鍍膜液的黏度控制在200cp?650cp，導電率控制單元將鍍膜液的導電率控制在lmS/cm?7mS/cm，配比控制單元將高分子材料、有機溶劑和電解液之間的比例控制在高分子材料:有機溶劑:電解液=(2%?12%): (30%?98%): (4%?20%)，對鍍膜液性質的實時監控使得鍍膜過程始終處于最適宜的環境與條件下進行，有效地保證了鍍膜作業的質量。該鍍膜設備結構簡潔，自動化程度高，減少了大量的人力勞動，節約成本。
【【附圖說明】】
[0018]圖1是本發明第一實施例中鍍膜設備模塊結構圖；
[0019]圖2是本發明第一實施例中鍍膜設備的第一控制單元模塊組成圖；
[0020]圖3是本發明第一實施例中鍍膜設備的第二控制單元模塊組成圖；
[0021]圖4是本發明第一實施例中鍍膜設備的第三控制單元模塊組成圖；
[0022]圖5是本發明第二實施例中鍍膜設備模塊結構圖；
[0023]圖6是本發明第二實施例中鍍膜設備的滑輪設置方式圖。【【具體實施方式】】
[0024]為了使本發明的目、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施實例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。
[0025]請參閱圖1，本發明的第一實施例中，該鍍膜設備I包括儲備池11、工作池12、過濾池13、循環池14、補料池15、豎直桿16、水平支撐桿17、鍍膜基體18、栗機19、管道(圖未標)及閥門(圖未標)。工作池12是進行鍍膜的主要場所。儲備池11設置在工作池12的側上方(在所有實施例中，上、下、左、右、內、外等位置限定詞僅限于指定視圖上的相對位置，而非絕對位置)，用于配置并儲備合格的鍍膜液，儲備池11底部與工作池12的側壁上部通過管道相連通，管道上安裝閥門，控制鍍膜液的流通。儲備池11的底部高于工作池12的頂部，當閥門開啟時，儲備池11內的鍍膜液能夠在重力作用下流入工作池12 ο豎直桿16、水平支撐桿17、鍍膜基體18構成提拉機構(圖未標)，提拉機構設置于工作池12內，進行鍍膜作業。
[0026]工作池12的下方設置過濾池13，工作池12的底部與過濾池13的頂部通過管道相連通，管道上安裝閥門，當閥門開啟時，工作池12內的鍍膜液能夠在重力作用下流入過濾池13，過濾池13對鍍膜液的雜質進行過濾。過濾池13側下方設置循環池14，過濾池13的側壁底部與循環池14的頂部通過管道相連通，管道上安裝閥門，過濾池13的的底部高于循環池14的頂部，當閥門開啟時，過濾池13內的鍍膜液能夠在重力作用下流入循環池14。循環池14與工作池12的側壁上方通過管道相連通，管道上安裝閥門與栗機19。循環池14能夠將經過鍍膜過程的鍍膜液重新調配成合格的鍍膜液，再通過栗機19將合格的鍍膜液重新栗送至工作池12。循環池14的上方設置補料池15，補料池15內儲存有鍍膜液所需各漿料組分，補料池15的底部與循環池14的頂部通過管道相連通，管道上安裝閥門，補料池15的底部高于循環池14的頂部，當閥門開啟時，補料池15內的漿料組分在重力作用下進入循環池14，補充鍍膜液中缺乏的漿料組分。工作池12內設置豎直桿16，豎直桿16從工作池12底部一直延伸到工作池12頂部以外，與豎直桿16垂直相交設置一水平支撐桿17，該水平支撐桿17沿著桿長方向均勻吊設多個鍍膜基體18，水平支撐桿17可以沿著豎直桿16上下平動，豎直桿16起到導軌的作用。
[0027]儲備池11中設置第一控制單元111和攪拌器(圖未標)，第一控制單元111可以檢測儲備池11內的鍍膜液性質，第一控制單元111也可以控制儲備池11中的攪拌器工作狀態，調整攪拌速率，以便達到最佳的攪拌效果。
[0028]工作池12中設置第二控制單元121和攪拌器，第二控制單元121可以檢測工作池12內的鍍膜液性質，也可以控制工作池12內攪拌器的工作狀態，調整攪拌速率，以便達到最佳的攪拌效果。此外，第二控制單元121還可以控制水平支撐桿17上下平動的速率，以滿足不同鍍膜液對鍍膜時間的要求。
[0029 ] 循環池14中設置第三控制單元141和攪拌器，第三控制單元141可以檢測循環池14內的鍍膜液性質，控制循環池14內攪拌器的工作狀態，調整攪拌速率，以達到最佳的攪拌效果。第三控制單元141還可以控制栗機19的栗送速度。
[0030]其中，儲備池11、工作池12、過濾池13、循環池14和補料池15相互之間獨立設置，彼此在空間上不存在依附關系，其相對位置也不受限制，只需在相互連通的管道上裝上栗機19，其相對位置可任意變化，可以實現鍍膜作業。另外，儲備池11、工作池12、過濾池13、循環池14和補料池15的形狀尺寸可任意變化，以適應不同的使用場所、適應不同的鍍膜作業規模。儲備池11、工作池12、過濾池13、循環池14和補料池15均設置有密封結構(圖未示)，密封結構可以使儲備池11、工作池12、過濾池13、循環池14和補料池15呈密封狀態，最大限度地減少易揮發物質的損失，防止外界雜質混入鍍膜液中，影響鍍膜質量，同時也可以減少有害物質對人體的直接傷害。
[0031]請參閱圖2，第一控制單元111包括第一溫度控制單元1111、第一黏度控制單元1112、第一電導率控制單元1113、第一配比控制單元1114和第一攪拌器控制單元1115。第一溫度控制單元1111可以對在儲備池11中新配制的鍍膜液溫度進行檢測，使鍍膜液的溫度保持在一定范圍內，適合鍍膜作業的進行，該溫度范圍優選為-40°C?40°C。第一黏度控制單元1112可以對儲備池11中新配制的鍍膜液黏度進行檢測，使鍍膜液的黏度保持在一定范圍內，保證鍍膜質量，該黏度范圍優選為200cp?650cp。第一電導率控制單元1113可以對儲備池11中新配制的鍍膜液電導率進行檢測，使鍍膜液的電導率保持在一定范圍，提高鍍膜的成功率和鍍膜質量，該電導率范圍優選為11115/(31]1?71]15/(31]1。第一配比控制單元1114可以對儲備池11中新配制的鍍膜液各組分比例進行檢測，方便控制鍍膜液各組分比例保持在合格范圍。鍍膜液內重要組分為高分子材料、有機溶劑和電解液，三組分的百分比例優選為高分子材料:有機溶劑:電解液= (2%?12%):(30%?98 %):(4%?20%)。其中，電解液為Imol的六氟磷酸鋰，碳酸乙烯酯:碳酸二甲酯:碳酸二乙酯= 1:1:1，也可以是Imol的雙三氟甲烷磺酰亞胺鋰，碳酸乙烯酯:I，4_丁內酯:碳酸二乙酯= 1:1:3，或者其他電解液配方。儲備池11內還設置有第一攪拌器控制單元1115，可以對儲備池11內攪拌器的攪拌速度、攪拌時間進行控制，確保攪拌質量。
[0032]請參閱圖3，第二控制單元121包括第二溫度控制單元1211、第二黏度控制單元1212、第二電導率控制單元1213、第二配比控制單元1214和第二攪拌器控制單元1215。其中，第二溫度控制單元1211、第二黏度控制單元1212、第二電導率控制單元1213、第二配比控制單元1214和第二攪拌器控制單元1215分別與第一溫度控制單元1111、第一黏度控制單元1112、第一電導率控制單元1113、第一配比控制單元1114和第一攪拌器控制單元1115具有相同的控制功能。另外，第二控制單元121還包括提拉速度控制單元1216，該提拉速度控制單元1216對水平支撐桿17的上下平動速度進行控制，從而間接控制鍍膜基體18在工作池12中的鍍膜時間，在不影響鍍膜效率的前提下盡可能使得鍍膜基體18具有良好的浸潤性，提高鍍膜的質量。
[0033]請參閱圖4，第三控制單元141包括第三溫度控制單元1411、第三黏度控制單元1412、第三電導率控制單元1413、第三配比控制單元1414和第三攪拌器控制單元1415。其中，第三溫度控制單元1411、第三黏度控制單元1412、第三電導率控制單元1413、第三配比控制單元1414和第三攪拌器控制單元1415分別與第一溫度控制單元1111、第一黏度控制單元1112、第一電導率控制單元1113、第一配比控制單元1114和第一攪拌器控制單元1115具有相同的控制功能。另外，第三控制單元141還包括栗送速度控制單元1416，可以對循環池14與工作池12連接管道之間的栗機19起到控制作用，控制栗機19的栗送速度與栗送時間，使得循環池14與儲備池11相配合，共同保持工作池12內鍍膜液供應充足，確保鍍膜過程可以連續進行。第一黏度控制單元1112、第二黏度控制單元1212、第三黏度控制單元1412均為豎直設置，且沿著豎直方向均設置有黏度傳感器(圖未示)，黏度傳感器在按一定距離分布，每個黏度傳感器可以檢測到其所在位置的鍍膜液黏度，所有的黏度傳感器檢測到的數據反映成一條曲線，如果曲線波動很大表明豎直方向上黏度差異很大。
[0034]采用鍍膜設備I進行鍍膜的方法，主要包括以下步驟:
[0035]步驟S1:將鍍膜基體18懸掛于水平支撐桿17上，在儲備池11中進行鍍膜液的配制，啟動儲備池11內的攪拌器，將新配制的鍍膜液攪拌均勻。當第一控制單元111檢測所得該鍍膜液的溫度、黏度、導電率、組分配比均合格以后，關閉攪拌器，打開儲備池11與工作池12之間的閥門，鍍膜液從儲備池11進入工作池12，準備鍍膜。
[0036]步驟S2:通過工作池12中的提拉速度控制單元1216控制水平支撐桿17往下平動，速度設置在0.0lmm/s?lOcm/s，優選為lmm/s，在該速度范圍下，使得鍍膜基體18不會對鍍膜液產生有害性擾動(不利于鍍膜作業的擾動)，又能讓鍍膜作業保持一個較高的效率，并且鍍膜基體18中先進入鍍膜液的部分與后進入鍍膜液的部分鍍膜厚度不產生偏差。當鍍膜基體18完全浸潤鍍膜液后，保持Os?30s，讓鍍膜基體18有良好的浸潤性，使得鍍膜基體18充分鍍膜。充分鍍膜后，提拉速度控制單元1216控制水平支撐桿17往上平動，當鍍膜基體18完全離開鍍膜液后，鍍膜基體18表面覆蓋上一層厚度為1um?30um的薄膜。本實施例中，提拉速度控制單元1216可以控制水平支撐桿17上下反復平動，從而實現鍍膜基體18多次浸潤鍍膜液，其中，每兩次浸潤的時間間隔范圍優選為5min?5h，具體時間間隔根據不同鍍膜液的性質而定。
[0037]步驟S3:鍍膜過程中，工作池12中的第二控制單元121始終對鍍膜液的溫度、黏度、導電率、組分配比進行實時檢測，當溫度不合格時，第二溫度控制單元1211對鍍膜液進行加熱或冷凝。當黏度在豎直方向差異很大時，第二攪拌器控制單元1215控制攪拌器啟動(此時鍍膜作業處于停止狀態)。
[0038]步驟S4:當電導率、組分配比不合格時，不合格鍍膜液從工作池12進入過濾池13，儲備池11和循環池14中的合格鍍膜液進入工作池12，保證鍍膜液的供應充足。過濾池13將鍍膜液中從鍍膜基體18上掉落的顆粒物質或其他顆粒性雜質過濾掉，進入循環池14。
[0039]步驟S5:循環池14內的鍍膜液為無雜質鍍膜液，但其組分配比不合格，因此，補料池15可以對其進行組分的補充。當循環池14中的第三控制單元141檢測到其中的鍍膜液溫度、黏度、導電率、組分配比均合格時，由栗送速度控制單元1416控制栗機19將鍍膜液栗送至工作池12中。
[0040]請參閱圖5，在本發明的第二實施例中，該鍍膜設備2同樣包括儲備池21、工作池22、過濾池23、循環池24、補料池25、栗機29、管道(圖未標)及閥門(圖未標)，并且儲備池21、工作池22、循環池24中分別設置有第一控制單元211、第二控制單元221和第三控制單元241，與第一實施例中具有相同的功能。不同的是，第二實施例中的鍍膜設備2通過設置卷料鍍膜基體27、卷料固定桿26、多個滑輪28、和牽引裝置30來代替第一實施例中的鍍膜基體18、豎直桿16和水平支撐桿17，第二控制單元221內的轉動速度控制單元(圖未示)代替第一實施例中的提拉速度控制單元1216，對滑輪28的轉動進行控制，該轉動速度控制單元可以將滑輪28的轉動速度控制在0.01r/min?100r/min，從而使得卷料鍍膜基體27的傳動速度小于lOcm/s，有利于卷料鍍膜基體27充分浸潤鍍膜液，充分鍍膜。卷料鍍膜基體27呈卷狀固定在卷料固定桿26上，卷料鍍膜基體27依次繞著多個滑輪28相切穿設，并且卷料鍍膜基體27與相鄰兩個滑輪的相切位置不在同一側，這樣有利于卷料鍍膜基體27在滑輪之間具有足夠的張力，可以充分展開，有利于鍍膜作業的進行。牽引裝置30為卷料鍍膜基體27提供牽引力，使得卷料鍍膜基體27可以沿著滑輪連續移動。多個滑輪28呈“V”字形設置，其中須有至少一個滑輪28設置在工作池22的鍍膜液液面以下，以保證卷料鍍膜基體27可以完全浸潤在鍍膜液里，充分鍍膜。
[0041 ]請參閱圖6，當工作池22內設置一個滑輪28時，該卷料鍍膜基體27只一次經過鍍膜液，圖中所示在工作池22內設置三個滑輪28，兩個滑輪28在鍍膜液液面以下，一個滑輪28在鍍膜液液面以上，三個滑輪28呈三角形，如此設置可以使得該卷料鍍膜基體27兩次經過鍍膜液，從而實現一次鍍膜過程鍍膜兩層，大大提高效率。當設備占用空間允許時，工作池22內可設置多于三個滑輪28，多個滑輪28在在鍍膜液液面上下間隔設置，實現一次鍍膜過程多層多次鍍膜。
[0042]與現有技術相比，本發明提供的鍍膜設備I，包括儲備池11、工作池12、過濾池13、循環池14和提拉機構，用于將基體在鍍膜液中鍍膜，所述儲備池11將鍍膜液流入工作池12，工作池12將不合格鍍膜液流入過濾池13，過濾池13將不合格的鍍膜液過濾后流入循環池14，循環池14將合格的鍍膜液栗送至工作池12，提拉機構設置在工作池12中，上下提拉進行鍍膜作業，工作池12中設置有對溫度、黏度、電導率、配比、攪拌器、提拉速度和轉動速度進行監控的控制單元。補料池15對循環池14中的鍍膜液進行補料，儲備池11中設置第一控制單元111，工作池12中設置第二控制單元121，循環池14中設置第三控制單元141，第一控制單元111、第二控制單元121、第三控制單元141分別包括溫度控制單元、黏度控制單元、電導率控制單元、配比控制單元和攪拌器控制單元，第二控制單元121還包括提拉速度控制單元1216或轉動速度控制單元，第三控制單元141還包括栗送速度控制單元1416。其中，溫度控制單元將鍍膜液溫度控制在-40 °C?40 °C，黏度控制單元將鍍膜液的黏度控制在200cp?650cp，導電率控制單元將鍍膜液的導電率控制在lmS/cm?7mS/cm，配比控制單元將高分子材料、有機溶劑和電解液之間的比例控制在高分子材料:有機溶劑:電解液=(2%?12% ):(30%?98%): (4%?20%)，對鍍膜液性質的實時監控使得鍍膜過程始終處于最適宜的環境與條件下進行，有效地保證了鍍膜作業的質量。該鍍膜設備I結構簡潔，自動化程度高，減少了大量的人力勞動，節約成本。
[0043]以上所述僅為本發明的較佳實施例而已，并不用以限制本發明，凡在本發明的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。
【主權項】
1.一種鍍膜設備，其特征在于:包括儲備池、工作池、過濾池、提拉機構和控制單元，所述儲備池用于配備合格鍍膜液并將合格鍍膜液流入工作池，工作池用于進行鍍膜作業并將不合格鍍膜液流入過濾池，過濾池接收來自工作池的不合格鍍膜液并進行過濾處理成合格鍍膜液后重新輸送至工作池，提拉機構設置在工作池中，用于對工件進行上下提拉進行鍍膜作業，工作池中設置有對溫度、黏度、電導率、配比進行監控的控制單元。2.如權利要求1中所述的鍍膜設備，其特征在于:所述鍍膜設備進一步包括補料池和循環池，補料池與循環池相連通，補料池提供合格的鍍膜液進入循環池。3.如權利要求2中所述的鍍膜設備，其特征在于:所述提拉機構包括水平支撐桿和鍍膜基體，水平支撐桿用于提拉鍍膜基體，控制單元將鍍膜基體的提拉速度控制在0.0lmm/s?10cm/so4.如權利要求2中所述的鍍膜設備，其特征在于:所述提拉機構進一步包括滑輪和卷料鍍膜基體，滑輪用于傳動卷料鍍膜基體，控制單元將卷料鍍膜基體的傳動速度控制在1cm/8內。5.如權利要求4中所述的鍍膜設備，其特征在于:所述工作池內設置一個或多個滑輪，多個滑輪在鍍膜液液面上下間隔設置。6.—種使用權利要求1所述設備進行的鍍膜方法，其特征在于:包括步驟S1:在儲備池中配制合格的鍍膜液；步驟S2:提拉機構在工作池中上下反復平動，對待鍍膜工件進行鍍膜;步驟S3:鍍膜控制裝置對工作池中的鍍膜液性質進行檢測控制及步驟S4:當檢測到工作池中鍍膜液不合格時，則控制工作池中不合格鍍膜液進入過濾池，經過過濾池過濾處理成合格鍍膜液后重新進入工作池中。7.如權利要求6中所述的鍍膜方法，其特征在于:所述控制單元將鍍膜液溫度控制在-40°C?40°C。8.如權利要求6中所述的鍍膜方法，其特征在于:所述控制單元將鍍膜液的黏度控制在200cp?650cp。9.如權利要求6中所述的鍍膜方法，其特征在于:所述控制單元將鍍膜液的導電率控制在ImS/cm?7mS/cm。10.如權利要求6中所述的鍍膜方法，其特征在于:所述鍍膜液的組分包括高分子材料、有機溶劑和電解液，所述控制單元將高分子材料、有機溶劑和電解液之間的比例控制在高分子材料:有機溶劑:電解液=(2 %?12 % ): (30 %?98 % ): (4 %?20 % )。
【文檔編號】C25D17/00GK105887172SQ201610202869
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年3月31日
【發明人】彭曉麗, 向勇, 牟成旭, 夏立, 蒲萬錦, 賀金味, 蘇興
【申請人】成都國珈星際固態鋰電科技有限公司