真空鍍膜設備用抽真空裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種真空鍍膜設備用抽真空裝置，包括真空鍍膜倉，還包括兩個U型接管和真空接管，真空鍍膜倉的內壁對稱分布四個抽氣口，U型接管的兩端分別與一個抽氣口貫通，真空接管的兩端分別與U型接管的中部貫通，真空接管的中部具有抽氣接頭。本實用新型的有益效果是最大限度的減少抽真空對真空鍍膜腔內氣流分別的影響，使鍍膜層更加均勻。
【專利說明】
真空鍍膜設備用抽真空裝置
技術領域
[0001 ]本實用新型涉及一種真空鍍膜設備用抽真空裝置。
【背景技術】
[0002]在現有的技術中真空鍍膜機的真空內腔上往往設置一個抽氣口，這樣導致了真空內腔中的氣流分別不均勻，在鍍膜時鍍室內蒸發的鍍料或濺射靶濺出的原子、離子分散不均勻，極大的硬性了鍍膜的均勻性。

【發明內容】

[0003]本實用新型要解決的問題是提供一種真空鍍膜設備用抽真空裝置，克服了現有技術中的不足。
[0004]為解決上述技術問題，本實用新型采用的技術方案是:真空鍍膜設備用抽真空裝置，包括真空鍍膜倉，還包括兩個U型接管和真空接管，所述真空鍍膜倉的內壁對稱分布四個抽氣口，所述U型接管的兩端分別與一個所述抽氣口貫通，所述真空接管的兩端分別與所述U型接管的中部貫通，所述真空接管的中部具有抽氣接頭。
[0005]進一步，每個所述抽氣口上均具有緩沖箱，所述緩沖箱與所述真空鍍膜倉內部和所述U型接管的內壁均貫通。
[0006]本實用新型具有的優點和積極效果是:由于采用上述技術方案，最大限度的減少抽真空對真空鍍膜腔內氣流分別的影響，使鍍膜層更加均勻。
【附圖說明】
[0007]圖1是本實用新型的整體結構不意圖；
[0008]圖中:1-真空鍍膜倉;2-緩沖箱;3-抽氣接頭;4-U型接管;5-真空接管。
【具體實施方式】
[0009]如圖1所示，本實用新型提供一種真空鍍膜設備用抽真空裝置，包括真空鍍膜倉I，還包括兩個U型接管4和真空接管5，真空鍍膜倉I的內壁對稱分布四個抽氣口，U型接管4的兩端分別與一個抽氣口貫通，真空接管5的兩端分別與U型接管4的中部貫通，真空接管5的中部具有抽氣接頭3。
[0010]使用時，抽氣接頭3與外部真空栗相連，由于各抽氣口到真空栗的路徑均相同，且各抽氣口對稱分布于真空鍍膜倉I上，因此抽真空過程對倉內氣流的干擾被相互抵消，避免由于抽真空導致的鍍膜過程中離子氣流分別不均勻現象的發生。
[0011 ]每個抽氣口上均具有緩沖箱2，緩沖箱2與真空鍍膜倉I內部和U型接管4的內壁均貫通。緩沖箱2的設置進一步起到緩沖的作用。
[0012]以上對本實用新型的實施例進行了詳細說明，但所述內容僅為本實用新型的較佳實施例，不能被認為用于限定本實用新型的實施范圍。凡依本實用新型申請范圍所作的均等變化與改進等，均應仍歸屬于本實用新型的專利涵蓋范圍之內。
【主權項】
1.真空鍍膜設備用抽真空裝置，包括真空鍍膜倉，其特征在于:還包括兩個U型接管和真空接管，所述真空鍍膜倉的內壁對稱分布四個抽氣口，所述U型接管的兩端分別與一個所述抽氣口貫通，所述真空接管的兩端分別與所述U型接管的中部貫通，所述真空接管的中部具有抽氣接頭。2.根據權利要求1所述的真空鍍膜設備用抽真空裝置，其特征在于:每個所述抽氣口上均具有緩沖箱，所述緩沖箱與所述真空鍍膜倉內部和所述U型接管的內壁均貫通。
【文檔編號】C23C14/56GK205473968SQ201620082236
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年1月27日
【發明人】孫婧, 李衛東, 同建輝
【申請人】天津眾偉科技有限公司