具緩沖區的非線性式鍍膜設備的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開一種具緩沖區的非線性式鍍膜設備，包含有一入料室、一緊鄰該入料室的鍍膜緩沖轉向裝置與多個濺鍍室，其中該入料室供置入一載具，該鍍膜緩沖轉向裝置承接來自該入料室的該載具，該入料室與該鍍膜緩沖轉向裝置為串聯排列于一第一方向，且該第一方向與一第二方向垂直，并該鍍膜緩沖轉向裝置具有至少一緩沖區與一設置于該緩沖區且供選擇于該第一方向、該第二方向進行傳送該載具的傳送機構，該濺鍍室于該第二方向緊鄰設置于該鍍膜緩沖轉向裝置，并設置于該鍍膜緩沖轉向裝置的該至少一緩沖區的兩側；本實用新型可以縮減該第一方向的長度，同時可以因應工藝需要，自由選擇需要的濺鍍室進行鍍膜，而增加濺鍍室的利用效率，以增加產能。
【專利說明】
具緩沖區的非線性式鍍膜設備
技術領域
[0001]本實用新型涉及一種鍍膜設備，尤指一種具緩沖區的非線性式鍍膜設備。
【背景技術】
[0002]真空鍍膜技術是利用物理或化學手段，于一抽真空的環境中，將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、導電和絕緣等許多優于固體材料本身的優越性能，達到提高產品質量、延長產品壽命等作用，并已應用于航空、電子、機械、化工、軍事等領域。
[0003]不同的產品，因應工藝條件的不同，如要達到最佳的鍍膜質量，其所需要的鍍膜時間會不同，甚至需要不同的鍍膜材料;而如現有中國臺灣新型專利公告第M426600號的“連續式真空鍍膜設備輸送裝置”所述的鍍膜設備，其為連續式與循環輸送設計，其一次送入進行鍍膜的產品，只能給予相同的鍍膜材料與鍍膜時間，因此為了確保鍍膜質量，其只能適用于需要相同鍍膜材料與鍍膜時間的產品，因此當有多批產品需要進行鍍膜時，其必須等待前一批產品的鍍膜程序完全處理完畢之后，才能調整工藝參數，如更換靶材，調整鍍膜時間與參數等等之后，才能進行下一批產品的鍍膜作業，顯然其濺鍍室無法有效充分利用，會減損利用效率，而減損廣能。
[0004]另，上述現有的鍍膜設備，其雖然可以不須額外設置一循環輸送設備于鍍膜設備之外，以減少占地空間，然而此類設計的鍍膜設備，雖然將循環輸送設備整合于鍍膜設備內可以減少循環輸送設備的占地空間，然而，相較于循環輸送設備來說，鍍膜設備因包含多個大型機臺，且隨著鍍膜技術、材料的演進與應用領域的增加，使鍍膜設備所占的長度會隨著為不同工藝的需求而有所變化;此外為了增加鍍膜設備的通用性，一般會傾向設計為具有較久鍍膜時間(較長的濺鍍室)或可使用鍍膜材料(較多的濺鍍室)，也就是說通用性的鍍膜設備，其鍍膜設備的長度通常都相當的長，其長度對于廠房來說，往往是一大考驗。現有廠房在沒有改建的前提下，通常難以滿足新工藝鍍膜設備的長度需求。
【實用新型內容】
[0005]本實用新型的主要目的，在于提供一種具緩沖區的非線性式鍍膜設備，解決現有鍍膜設備要增加鍍膜時間與鍍膜材料而導致長度增加，無法直接設置于現有廠房的問題。
[0006]本實用新型的次要目的，在于解決現有鍍膜設備的時間利用效率不高，無法增加產能的問題。
[0007]為達上述目的，本實用新型提供一種具緩沖區的非線性式鍍膜設備，對一載具上的一基材進行鍍膜，其包含有一入料室、一緊鄰該入料室的鍍膜緩沖轉向裝置與多個濺鍍室，其中該入料室供置入該載具，而該鍍膜緩沖轉向裝置承接來自該入料室的該載具，該入料室與該鍍膜緩沖轉向裝置為串聯排列于一第一方向，且該第一方向與一第二方向垂直，并該鍍膜緩沖轉向裝置具有至少一緩沖區與一設置于該緩沖區且供選擇于該第一方向、該第二方向進行傳送該載具的傳送機構，而該些濺鍍室于該第二方向緊鄰設置于該鍍膜緩沖轉向裝置，并該些濺鍍室設置于該鍍膜緩沖轉向裝置的該至少一緩沖區的兩側。
[0008]其中，更包含一緊鄰該鍍膜緩沖轉向裝置的緩沖輸送室，該緩沖輸送室為串聯排列于該第一方向，且該緩沖輸送室承接來自該鍍膜緩沖轉向裝置的該載具。
[0009]其中，更包含一供置放該載具的載具置放臺，該載具置放臺鄰近該入料室設置。
[0010]其中，該鍍膜緩沖轉向裝置具有一降壓腔體，該傳送機構設置于該降壓腔體內，該傳送機構具有一第一方向傳動輪與一可升降的第二方向傳動輪，該第二方向傳動輪具有一讓該載具進出該濺鍍室的升起位置，與一讓該載具接觸該第一方向傳動輪的下降位置。
[0011]其中，該第二方向傳動輪設置于一升降板上，該升降板設置于該鍍膜緩沖轉向裝置上。
[0012]其中，更包含一緊鄰該鍍膜緩沖轉向裝置的出料室，該出料室為串聯排列于該第一方向，且該出料室承接來自該鍍膜緩沖轉向裝置的該載具。
[0013]其中，該入料室具有一傳送該載具至該鍍膜緩沖轉向裝置的入料傳送輪，而該出料室具有一承接來自該鍍膜緩沖轉向裝置的該載具的出料傳送輪。
[0014]其中，該出料室具有一供放置該載具的出料升降臺，該鍍膜緩沖轉向裝置具有位于下方的一回傳輸送輪，該入料室具有一供放置該載具的入料升降臺，該出料升降臺、該回傳輸送輪與該入料升降臺構成一將該載具自該出料室傳送至該入料室的回傳裝置。
[0015]其中，該鍍膜緩沖轉向裝置更具有一降壓栗與一加熱元件。
[0016]其中，該至少一濺鍍室分別設置一具一移動自由度的濺鍍源。
[0017]綜上所述，本實用新型讓該些濺鍍室設置于該第二方向，因此可以縮減于第一方向的長度，滿足現有廠房的規格，而不需大規模改建。另，該鍍膜緩沖轉向裝置的傳送機構可以因應工藝需要，將需要鍍膜的基材的載具選擇送入特定的濺鍍室進行鍍膜，亦即不同的載具可以自由選擇需要的濺鍍室進行鍍膜，因此濺鍍室不會有空閑時間，可增加濺鍍室的利用效率，進而增加產能。
[0018]以下結合附圖和具體實施例對本實用新型進行詳細描述，但不作為對本實用新型的限定。
【附圖說明】
[0019]圖1為本實用新型的設備配置前視示意圖。
[0020]圖2為本實用新型的設備配置俯視示意圖。
[0021 ]圖3為本實用新型鍍膜緩沖轉向裝置結構圖。
[0022]圖4A?圖4C為本實用新型使用示意圖。
[0023]圖5為本實用新型另一實施的設備配置俯視示意圖。
[0024]其中，附圖標記:
[0025]10、10A、10B、10C、10D、10E 載具
[0026]11基材
[0027]20載具置放臺
[0028]30入料室
[0029]31入料傳送輪
[0030]32入料升降臺
[0031]40鍍膜緩沖轉向裝置
[0032]401降壓腔體
[0033]41緩沖區
[0034]42傳送機構
[0035]421第一方向傳動輪
[0036]422第二方向傳動輪
[0037]43升降板
[0038]44回傳輸送輪
[0039]45降壓栗
[0040]46加熱元件[0041 ]50出料室
[0042]51出料傳送輪
[0043]52出料升降臺
[0044]60A、60B、60C、60D 濺鍍室
[0045]61濺鍍源
[0046]70回傳裝置
[0047]80清潔室
[0048]90緩沖輸送室
[0049]91緩沖傳送輪
【具體實施方式】
[0050]有關本實用新型的詳細說明及技術內容，現就配合圖式說明如下:
[0051]請參閱圖1、圖2與圖3所示，本實用新型為一種具緩沖區的非線性式鍍膜設備，對一載具10上的一基材11(為求圖面的簡潔，僅繪制于部分的載具10)進行鍍膜，其包含有一供置放該載具10的載具置放臺20、一入料室30、一緊鄰該入料室30的鍍膜緩沖轉向裝置40、一緊鄰該鍍膜緩沖轉向裝置40的出料室50與多個緊鄰該鍍膜緩沖轉向裝置40的濺鍍室60A、60B、60C、60D，其中該入料室30供置入該載具10，該載具置放臺20鄰近該入料室30設置，以方便讓該載具1移載至該入料室30，而該鍍膜緩沖轉向裝置40承接來自該入料室30的該載具10，該出料室50則承接來自該鍍膜緩沖轉向裝置40的該載具10，該入料室30可以具有一傳送該載具10至該鍍膜緩沖轉向裝置40的入料傳送輪31，而該出料室50可以具有一承接來自該鍍膜緩沖轉向裝置40的該載具10的出料傳送輪51。
[0052]該入料室30、該鍍膜緩沖轉向裝置40與該出料室50為串聯排列于一第一方向，且該第一方向與一第二方向垂直，并該鍍膜緩沖轉向裝置40具有至少一緩沖區41與一設置于該緩沖區41且供選擇于該第一方向、該第二方向進行傳送該載具的傳送機構42，而該些濺鍍室6(^、608、60(:、600于該第二方向緊鄰設置于該鍍膜緩沖轉向裝置40設置，該些濺鍍室60A、60B、60C、60D設置于該鍍膜緩沖轉向裝置40的該至少一緩沖區41的兩側，較佳的，該至少一濺鍍室60A、60B、60C、60D可以分別設置于該鍍膜緩沖轉向裝置40的上下兩側，且可并排設置，如圖所示，為四個濺鍍室60A、60B、60C、60D的實施樣態;并該傳送機構42為于該鍍膜緩沖轉向裝置40及該濺鍍室60A、60B、60C、60D之間傳送該載具10，且值得一提的是，該至少一緩沖區41與該至少一濺鍍室60A、60B、60C、60D的數量為相互對應的，每一緩沖區41至多可以對應兩個濺鍍室60A、60B、60C、60D，而如圖所示，為二個緩沖區41的實施樣態。
[0053]又，該鍍膜緩沖轉向裝置40可以具有一降壓腔體401，該傳送機構42設置于該降壓腔體401內，該傳送機構42具有一第一方向傳動輪421與一可升降的第二方向傳動輪422，該第二方向傳動輪422具有一讓該載具10進出該濺鍍室60A、60B、60C、60D的升起位置，與一讓該載具10接觸該第一方向傳動輪421的下降位置，該第一方向傳動輪421為傳送該載具10沿該第一方向移動，而該第二方向傳動輪422則傳送該載具10沿該第二方向移動。在實施上，該第二方向傳動輪422可以設置于一升降板43上，讓該升降板43設置于該鍍膜緩沖轉向裝置40上，借由該升降板43的升降，即可讓該第二方向傳動輪422轉換為升起位置或下降位置。
[0054]另，為了操作上的便利性，該出料室50更可以具有一供放置該載具10的出料升降臺52，該鍍膜緩沖轉向裝置40具有位于下方的一回傳輸送輪44，該入料室30具有一供放置該載具10的入料升降臺32，該出料升降臺52、該回傳輸送輪44與該入料升降臺32，構成一將該載具10自該出料室50傳送至該入料室30的回傳裝置70，如此即可將該載具10回送至該入料室30。
[0055]此外，為了提升工藝良率，該入料室30與該鍍膜緩沖轉向裝置40之間可以設置一清潔室80，借以清潔該載具10上的該基材11，且該鍍膜緩沖轉向裝置40更可以具有一降壓栗45與一加熱元件46，該降壓栗45可抽真空，該加熱元件46可以進行加熱，借以進行初期降壓與加熱等處理，進一步提高工藝的良率。另該至少一濺鍍室60A、60B、60C、60D可以分別設置一具一移動自由度的濺鍍源61，其可增加該基材11的鍍膜均勻度。
[0056]請再一并參閱圖4A?圖4C所示，為本實用新型的使用示意圖，首先如圖4A，多個載具10A、10B、10CU0D為經過該入料室30、該鍍膜緩沖轉向裝置40而進入該些濺鍍室60A、60B、60C、60D，以進行鍍膜。而該些濺鍍室60A、60B、60C、60D可以進行相同的鍍膜材料，但可依據該載具1A、1B、1C、1D的基材11特性改變鍍膜時間。因此，如圖4B所示，濺鍍室60A內先完成鍍膜的該載具1A，可以先經由該出料室50與該回傳裝置70回傳至該入料室30，以供取出。接著，如圖4C所示，可再置入新的該載具1E進入該濺鍍室60A。如此即可充分利用該些濺鍍室6(^、6(?、60(:、600，充分發揮該些濺鍍室6(^、608、60(:、600的利用效率，以增加產會K。
[0057]請再一并參閱圖5所示，此外，緊鄰該鍍膜緩沖轉向裝置40的出料室50，亦可改為設置為一緊鄰該鍍膜緩沖轉向裝置50的緩沖輸送室90，該緩沖輸送室90同樣為串聯排列于該第一方向，且該緩沖輸送室90承接來自該鍍膜緩沖轉向裝置40的該載具10，且該緩沖輸送室90可以具有一承接來自該鍍膜緩沖轉向裝置40的該載具10的緩沖傳送輪91。據此，于本實施例中，鍍完膜的該載具10可以暫存于該緩沖輸送室90，當在該鍍膜緩沖轉向裝置40(緩沖區41)、清潔室80、入料室30皆沒有該載具10時，即可利用該鍍膜緩沖轉向裝置40(緩沖區41)反向傳送該緩沖輸送室90上的該載具1，讓該載具1回到該入料室30，以方便取放該載具10，其充分利用該鍍膜緩沖轉向裝置40(緩沖區41)，可以節省設備成本(即設置該回傳裝置70的成本)，對于鍍膜時間長的工藝來說，相當的適合使用。
[0058]綜上所述，本實用新型具有以下特點:
[0059]—、通過讓該至少一濺鍍室設置于該第二方向，因此可以縮減于第一方向的長度，滿足現有廠房的規格。
[0060]二、充分利用濺鍍室，可減少濺鍍室的設置數量，減少設備的占用面積。
[0061]三、不同的載具可以因應工藝需要，自由選擇需要的濺鍍室進行鍍膜，同時增加濺鍍室的利用效率，以增加產能。
[0062]四、借由回傳裝置或緩沖輸送室的設置，讓工作人員于該載具置放臺處，即可取出基材已鍍好膜的該載具，以節省人力配置。
[0063]五、于該鍍膜緩沖轉向裝置的降壓腔體即可進行初期降壓，可提高工藝的良率。
[0064]當然，本實用新型還可有其它多種實施例，在不背離本實用新型精神及其實質的情況下，熟悉本領域的技術人員可根據本實用新型作出各種相應的改變和變形，但這些相應的改變和變形都應屬于本實用新型權利要求的保護范圍。
【主權項】
1.一種具緩沖區的非線性式鍍膜設備，對一載具上的一基材進行鍍膜，其特征在于，包含有: 一入料室，該入料室供置入該載具； 一緊鄰該入料室的鍍膜緩沖轉向裝置，該鍍膜緩沖轉向裝置承接來自該入料室的該載具，該入料室與該鍍膜緩沖轉向裝置為串聯排列于一第一方向，且該第一方向與一第二方向垂直，并該鍍膜緩沖轉向裝置具有至少一緩沖區與一設置于該緩沖區且供選擇于該第一方向、該第二方向進行傳送該載具的傳送機構；以及 多個于該第二方向緊鄰設置于該鍍膜緩沖轉向裝置的濺鍍室，該濺鍍室設置于該鍍膜緩沖轉向裝置的該至少一緩沖區的兩側。2.根據權利要求1所述的具緩沖區的非線性式鍍膜設備，其特征在于，更包含一緊鄰該鍍膜緩沖轉向裝置的緩沖輸送室，該緩沖輸送室為串聯排列于該第一方向，且該緩沖輸送室承接來自該鍍膜緩沖轉向裝置的該載具。3.根據權利要求1所述的具緩沖區的非線性式鍍膜設備，其特征在于，更包含一供置放該載具的載具置放臺，該載具置放臺鄰近該入料室設置。4.根據權利要求1所述的具緩沖區的非線性式鍍膜設備，其特征在于，該鍍膜緩沖轉向裝置具有一降壓腔體，該傳送機構設置于該降壓腔體內，該傳送機構具有一第一方向傳動輪與一能升降的第二方向傳動輪，該第二方向傳動輪具有一讓該載具進出該濺鍍室的升起位置，與一讓該載具接觸該第一方向傳動輪的下降位置。5.根據權利要求4所述的具緩沖區的非線性式鍍膜設備，其特征在于，該第二方向傳動輪設置于一升降板上，該升降板設置于該鍍膜緩沖轉向裝置上。6.根據權利要求1所述的具緩沖區的非線性式鍍膜設備，其特征在于，更包含一緊鄰該鍍膜緩沖轉向裝置的出料室，該出料室為串聯排列于該第一方向，且該出料室承接來自該鍍膜緩沖轉向裝置的該載具。7.根據權利要求6所述的具緩沖區的非線性式鍍膜設備，其特征在于，該入料室具有一傳送該載具至該鍍膜緩沖轉向裝置的入料傳送輪，而該出料室具有一承接來自該鍍膜緩沖轉向裝置的該載具的出料傳送輪。8.根據權利要求6所述的具緩沖區的非線性式鍍膜設備，其特征在于，該出料室具有一供放置該載具的出料升降臺，該鍍膜緩沖轉向裝置具有位于下方的一回傳輸送輪，該入料室具有一供放置該載具的入料升降臺，該出料升降臺、該回傳輸送輪與該入料升降臺構成一將該載具自該出料室傳送至該入料室的回傳裝置。9.根據權利要求1所述的具緩沖區的非線性式鍍膜設備，其特征在于，該鍍膜緩沖轉向裝置更具有一降壓栗與一加熱元件。10.根據權利要求1所述的具緩沖區的非線性式鍍膜設備，其特征在于，該至少一濺鍍室分別設置一具一移動自由度的濺鍍源。
【文檔編號】C23C14/34GK205603665SQ201620452267
【公開日】2016年9月28日
【申請日】2016年5月17日
【發明人】楊智仁, 林忠炫, 余端仁
【申請人】友威科技股份有限公司