改進型光學鏡片真空鍍膜裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，包括：真空鍍膜室、高真空閥、低溫冷阱、油擴散泵、以及機械真空泵，其特征在于，所述高真空閥設置于所述真空鍍膜室的一側，所述低溫冷阱一端與所述高真空閥連接，另一端與所述油擴散泵連接，所述油擴散泵跟所述真空鍍膜室和所述機械真空泵之間設有控流檢測系統，其用于配合所述機械真空泵控制檢測所述真空鍍膜室和所述油擴散泵的真空氣壓。本實用新型通過控流檢測系統實現了整個改進型光學鏡片真空鍍膜裝置的連接、控制結構更加簡單、緊湊，從而能夠大大地降低空間的占用率。
【專利說明】
改進型光學鏡片真空鍍膜裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及光學鏡片鍍膜制造技術領域，具體來說是涉及一種改進型光學鏡片真空鍍膜裝置。
【【背景技術】】
[0002]隨著人們生活水平和安全意識的不斷提高，手機、行車記錄儀、安全攝像頭等普及率也隨之提高，然而光學鏡片是其手機、行車記錄儀、安全攝像頭等作為對光折射成像的重要部件，必然也導致光學鏡片需求日益增多，而光學鏡片鍍膜生產過程中，其真空鍍膜是一項重要的生產工藝技術，對于光學鏡片的生產是否合格起著決定性的作用，但是現有的真空鍍膜設備存在有結構較為復雜、空間龐大的問題，對于設備生產企業來說無疑是大大地增加企業的經濟成本，對于設備使用企業來說則是增加設備了成本以及企業車間的空間浪費，所以現有的產品不利于提高市場競爭力，于此，如何提供一種結構簡單、空間更加緊湊的改進型光學鏡片真空鍍膜裝置是本領域技術人員一直研究的方向。
【【實用新型內容】】
[0003]本實用新型主要解決的技術問題是:提供一種改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，通過控流檢測系統實現整個改進型光學鏡片真空鍍膜裝置的連接、控制結構更加簡單、緊湊，從而大大地降低空間的占用率，同時減少企業的經濟成本。
[0004]為解決上述技術問題，本實用新型是通過以下技術方案實現:
[0005]改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，包括:真空鍍膜室、高真空閥、低溫冷阱、油擴散栗、以及機械真空栗，其特征在于，所述高真空閥設置于所述真空鍍膜室的一側，所述低溫冷阱一端與所述高真空閥連接，另一端與所述油擴散栗連接，所述油擴散栗跟所述真空鍍膜室和所述機械真空栗之間設有控流檢測系統，其用于配合所述機械真空栗控制檢測所述真空鍍膜室和所述油擴散栗的真空氣壓。
[0006]如上所述的改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，其特征在于:所述控流檢測系統包括:
[0007]第一管道，其設置于所述真空鍍膜室和所述機械真空栗之間；
[0008]第二管道，其設置于所述油擴散栗和所述第一管道之間；
[0009]低真空閥門，其設置于所述第一管道和第二管道之上，用于控制所述改進型光學鏡片真空鍍膜裝置內部氣流方向和調節氣流大小，使得管道處于切斷或接通狀態；
[0010]熱偶真空規管，其設置于所述第一管道和第二管道之上，用于測量所述改進型光學鏡片真空鍍膜裝置內部低真空度。
[0011]如上所述的改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，其特征在于:所述低真空閥門包括第一低真空閥門、第二低真空閥門以及第三低真空閥門，所述第一低真空閥門設置于所述第一管道的中部，所述第二低真空閥門設置于所述第一管道與所述機械真空栗連接的連接處，所述第三低真空閥門設置于所述第二管道與所述第一管道連接的連接處，位于所述第一低真空閥門與所述第二低真空閥門之間；
[0012]當所述第一低真空閥門和所述所述第二低真空閥門開啟時，其兩者配合所述機械真空栗對所述真空鍍膜室進行低真空處理，為所述油擴散栗對所述真空鍍膜室進行高真空處理制備低真空基礎；
[0013]當所述所述第二低真空閥門和所述第三低真空閥門開啟時，其兩者配合所述機械真空栗為所述油擴散栗排泄氣體于所述改進型光學鏡片真空鍍膜裝置之外，使得所述油擴散栗能夠正常工作。
[0014]如上所述的改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，其特征在于:所述熱偶真空規管包括第一熱偶真空規管和第二熱偶真空規管，所述第一熱偶真空規管設置于所述第一管道上，位于所述第一低真空閥門和所述真空鍍膜室之間；所述第二熱偶真空規管設置于所述第二管道上。
[0015]如上所述的改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，其特征在于:所述控流檢測系統還包括有設置于所述真空鍍膜室上的電離真空規管，用于測量所述真空鍍膜室的高真空度。
[0016]如上所述的改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，其特征在于:所述機械真空栗為旋片式機械真空栗。
[0017]與現有技術相比，上述實用新型有如下優點:
[0018]1、本實用新型通過控流檢測系統實現了整個改進型光學鏡片真空鍍膜裝置的連接、控制結構更加簡單、緊湊，從而能夠大大地降低空間的占用率；
[0019]2、本實用新型通過低真空閥門配合機械真空栗，既能夠完成對真空鍍膜室低真空處理，為油擴散栗對真空鍍膜室高真空處理制備低真空基礎，又能夠為油擴散栗排氣于大氣，保證油擴散栗的正常工作；
[0020]3、本實用新型通過結構簡單，制作方便，從而可以最大限度的減少企業經濟成本。【【附圖說明】】
[0021 ]圖1是本實用新型改進型光學鏡片真空鍍膜裝置的結構示意圖。
【【具體實施方式】】
[0022]改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，包括:真空鍍膜室1、高真空閥2、低溫冷阱3、油擴散栗4、以及機械真空栗5，所述高真空閥2設置于所述真空鍍膜室I的一側，所述低溫冷阱3一端與所述高真空閥2連接，另一端與所述油擴散栗4連接，所述油擴散栗4跟所述真空鍍膜室I和所述機械真空栗5之間設有控流檢測系統6，其用于配合所述機械真空栗5控制檢測所述真空鍍膜室I和所述油擴散栗4的真空氣壓。
[0023]具體地，所述控流檢測系統6包括:
[0024]第一管道61，其設置于所述真空鍍膜室I和所述機械真空栗5之間；
[0025]第二管道62，其設置于所述油擴散栗4和所述第一管道61之間；
[0026]低真空閥門63，其設置于所述第一管道61和第二管道62之上，用于控制所述改進型光學鏡片真空鍍膜裝置內部氣流方向和調節氣流大小，使得管道處于切斷或接通狀態；
[0027]熱偶真空規管64，其設置于所述第一管道61和第二管道62之上，用于測量所述改進型光學鏡片真空鍍膜裝置內部低真空度。
[0028]進一步地，所述低真空閥門63包括第一低真空閥門631、第二低真空閥門632以及第三低真空閥門633，所述第一低真空閥門631設置于所述第一管道61的中部，所述第二低真空閥門632設置于所述第一管道61與所述機械真空栗5連接的連接處，所述第三低真空閥門633設置于所述第二管道62與所述第一管道61連接的連接處，位于所述第一低真空閥門631與所述第二低真空閥門632之間。
[0029]更進一步地，所述熱偶真空規管64包括第一熱偶真空規管641和第二熱偶真空規管642，所述第一熱偶真空規管641設置于所述第一管道61上，位于所述第一低真空閥門631和所述真空鍍膜室I之間；所述第二熱偶真空規管642設置于所述第二管道62上。
[0030]當所述第一低真空閥門631和所述第二低真空閥門632開啟時，其兩者配合所述機械真空栗5對所述真空鍍膜室I進行低真空處理，同時所述第一熱偶真空規管641時刻測量著所述第一管道61以及所述真空鍍膜室I的低真空度，為所述油擴散栗4對所述真空鍍膜室I進行高真空處理制備低真空基礎；
[0031]當所述所述第二低真空閥門632和所述第三低真空閥門633開啟時，其兩者配合所述機械真空栗5為所述油擴散栗4排泄氣體于所述改進型光學鏡片真空鍍膜裝置之外，同時所述第二熱偶真空規管642時刻測量著所述第二管道62以及所述油擴散栗4的低真空度，使得所述油擴散栗4能夠正常工作。
[0032]更進一步地，所述控流檢測系統6還包括有設置于所述真空鍍膜室I上的電離真空規管7，用于測量所述真空鍍膜室I的高真空度。其優點在于體積小、靈敏度高。
[0033]更進一步地，所述機械真空栗5為旋片式機械真空栗。其優點在于該旋片式機械真空栗體積小、重量輕、啟動簡便，符合本裝置的需求。
[0034]綜上所述對本實用新型的實施方式作了詳細說明，但是本實用新型不限于上述實施方式。即使其對本實用新型作出各種變化，則仍落入在本實用新型的保護范圍。
【主權項】
1.改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，包括:真空鍍膜室(I)、高真空閥(2)、低溫冷阱(3)、油擴散栗(4)、以及機械真空栗(5)，其特征在于，所述高真空閥(2)設置于所述真空鍍膜室(I)的一側，所述低溫冷阱(3)—端與所述高真空閥(2)連接，另一端與所述油擴散栗(4)連接，所述油擴散栗(4)跟所述真空鍍膜室(I)和所述機械真空栗(5)之間設有控流檢測系統(6)，其用于配合所述機械真空栗(5)控制檢測所述真空鍍膜室(I)和所述油擴散栗(4)的真空氣壓。2.根據權利要求1所述的改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，其特征在于:所述控流檢測系統(6)包括: 第一管道(61)，其設置于所述真空鍍膜室(I)和所述機械真空栗(5)之間； 第二管道(62)，其設置于所述油擴散栗(4)和所述第一管道(61)之間； 低真空閥門(63)，其設置于所述第一管道(61)和第二管道(62)之上，用于控制所述改進型光學鏡片真空鍍膜裝置內部氣流方向和調節氣流大小，使得管道處于切斷或接通狀態； 熱偶真空規管(64)，其設置于所述第一管道(61)和第二管道(62)之上，用于測量所述改進型光學鏡片真空鍍膜裝置內部低真空度。3.根據權利要求2所述的改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，其特征在于:所述低真空閥門(63)包括第一低真空閥門(631)、第二低真空閥門(632)以及第三低真空閥門(633)，所述第一低真空閥門(631)設置于所述第一管道(61)的中部，所述第二低真空閥門(632)設置于所述第一管道(61)與所述機械真空栗(5)連接的連接處，所述第三低真空閥門(633)設置于所述第二管道(62)與所述第一管道(61)連接的連接處，位于所述第一低真空閥門(631)與所述第二低真空閥門(632)之間； 當所述第一低真空閥門(631)和所述所述第二低真空閥門(632)開啟時，其兩者配合所述機械真空栗(5)對所述真空鍍膜室(I)進行低真空處理，為所述油擴散栗(4)對所述真空鍍膜室(I)進行高真空處理制備低真空基礎； 當所述所述第二低真空閥門(632)和所述第三低真空閥門(633)開啟時，其兩者配合所述機械真空栗(5)為所述油擴散栗(4)排泄氣體于所述改進型光學鏡片真空鍍膜裝置之外，使得所述油擴散栗(4)能夠正常工作。4.根據權利要求2所述的改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，其特征在于:所述熱偶真空規管(64)包括第一熱偶真空規管(641)和第二熱偶真空規管(642)，所述第一熱偶真空規管(641)設置于所述第一管道(61)上，位于所述第一低真空閥門(631)和所述真空鍍膜室(I)之間；所述第二熱偶真空規管(642)設置于所述第二管道(62)上。5.根據權利要求2所述的改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，其特征在于:所述控流檢測系統(6)還包括有設置于所述真空鍍膜室(I)上的電離真空規管(7)，用于測量所述真空鍍膜室(I)的高真空度。6.根據權利要求3所述的改進型光學鏡片真空鍍膜裝置，其特征在于:所述機械真空栗(5)為旋片式機械真空栗。
【文檔編號】C23C14/54GK205662596SQ201620480030
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年5月23日
【發明人】楊嘉嘉, 楊文志, 陳招燕, 程亞麗
【申請人】中山市萬物文化發展有限公司