用于硅片品質分選設備的上料裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型主要涉及到硅片制備設備領域，特指一種用于硅片品質分選設備的上料裝置。
【背景技術】
[0002]對疊放在一起的硅片進行品質檢測，即需要將硅片進行檢測分類或抽檢，有隱裂、崩邊以及缺角等的硅片需要重新鑄錠；其余的硅片會根據電阻率、厚度、尺寸、少子壽命、位錯、黑邊以及黑心等一系列測試參數分成不同等級，不同等級的硅片做出的太陽能電池片效率不一樣。
[0003]硅片品質分選設備則是集上料、測試以及分選于一體的設備，它主要用于檢測硅片外觀、電阻率、隱裂、少子壽命以及黑心等參數。目前，傳統的硅片品質分選設備所采用的疊片上料方式，存在生產效率低、可靠性不好、難以突破產能低的問題。
【實用新型內容】
[0004]本實用新型要解決的技術問題就在于:針對現有技術存在的技術問題，本實用新型提供一種結構簡單、生產效率高、可靠性好的用于硅片品質分選設備的上料裝置。
[0005]為解決上述技術問題，本實用新型采用以下技術方案:
[0006]—種用于硅片品質分選設備的上料裝置，包括平移組件、一個以上的上料槽以及傳送組件，所述上料槽內放置有疊好的硅片，所述平移組件上設置有一個以上的真空吸盤，所述平移組件帶著真空吸盤運動至上料槽以吸附上料槽內的硅片，然后帶著所述真空吸盤運動至傳送組件的上方放下硅片，由所述傳送組件進行硅片的傳送。
[0007]作為本實用新型的進一步改進:所述上料槽為多個，分成兩組；沿著所述平移組件的運動行程，在所述平移組件兩端分別設置一組上料槽，并在平移組件上設置兩組真空吸盤，每組真空吸盤對應一組上料槽；當其中一組真空吸盤處于吸附硅片狀態時，另外一組真空吸盤運動至傳送組件的上方處于放片狀態。
[0008]作為本實用新型的進一步改進:同一組的上料槽包括兩個，所述真空吸盤的數量為四個，同一組內的兩個上料槽呈垂直90度的方式安裝。
[0009]作為本實用新型的進一步改進:在所述上料槽處設置有風刀，所述風刀用于將堆疊在一起的娃片吹散。
[0010]作為本實用新型的進一步改進:所述上料槽內設置有料盒，所述硅片堆放于料盒中。
[0011]作為本實用新型的進一步改進:所述上料槽內具有供料盒移動的一段行程。
[0012]作為本實用新型的進一步改進:在所述料盒的下方設置有頂升部件，通過頂升部件升降裝載在料盒里面的硅片。
[0013]作為本實用新型的進一步改進:所述頂升部件的行程上設置傳感器，用來檢測頂升部件頂升的硅片停止的位置。
[0014]作為本實用新型的進一步改進:所述頂升部件為滾珠絲桿。
[0015]作為本實用新型的進一步改進:所述平移組件為電動滑臺，所述傳送組件為傳送帶。
[0016]與現有技術相比，本實用新型的優點在于:
[0017]1、本實用新型的用于硅片品質分選設備的上料裝置，結構簡單、生產效率高、可靠性好，采用平移組件與真空吸盤配合的方式，能夠自動完成硅片的吸附上料，最終實現自動上料、傳送。
[0018]2、本實用新型的用于硅片品質分選設備的上料裝置，進一步采用完全對稱的左右兩個上料單元，每一個單元有兩套獨立的由滾珠絲桿、料盒、風刀、停止傳感器等組成的送料裝置。一邊的兩個真空吸盤抓片的同時，另外一邊的兩個真空吸盤進行放片，等抓片、放片完成后，電動滑臺平移，抓片的真空吸盤進行放片，沒有抓片的真空吸盤進行抓片，從而實現不間斷送料，大大提高了生產效率。
【附圖說明】
[0019]圖1是本實用新型在具體應用實例中的立體結構示意圖。
[0020]圖2是本實用新型在具體應用實例中的側視示意圖。
[0021]圖3是本實用新型在具體應用實例中的俯視示意圖。
[0022]圖例說明:
[0023]1、電動滑臺；2、上料槽；3、風刀；4、傳感器；5、硅片；6、料盒；7、真空吸盤；8、傳送帶；9、滾珠絲桿。
【具體實施方式】
[0024]以下將結合說明書附圖和具體實施例對本實用新型做進一步詳細說明。
[0025]如圖1、圖2和圖3所示，本實用新型的用于硅片品質分選設備的上料裝置包括平移組件、一個以上的上料槽2以及傳送組件，上料槽2內放置有疊好的硅片5，平移組件上設置有一個以上的真空吸盤7，平移組件帶著真空吸盤7運動至上料槽2以吸附上料槽2內的硅片5，然后帶著真空吸盤7運動至傳送組件的上方放下硅片5，由傳送組件完成硅片5的傳送。
[0026]進一步，在較佳實施例中，在上料槽2處設置有風刀3，用于將堆疊在一起的硅片5吹散開，使得真空吸盤7能吸附硅片5，同時可防止疊片。
[0027]進一步，在較佳實施例中，上料槽2為多個，分成兩組；沿著平移組件的運動行程，在平移組件兩端分別設置一組上料槽2，并在平移組件上設置兩組真空吸盤7，每組真空吸盤7對應一組上料槽2。當其中一組真空吸盤7處于吸附硅片5狀態時，另外一組真空吸盤7運動至傳送組件的上方處于放片狀態。這樣，就能夠使兩組上料槽2交替完成上料工作，大大提高了工作效率。
[0028]進一步，在較佳實施例中，同一組的上料槽2包括兩個，此時真空吸盤7的數量為四個，以與上料槽2的數量保持一一對應。為了節約空間，將處于同一端的(單邊的)兩個上料槽2呈垂直90度的方式安裝。
[0029]本實施例中，上料槽2內設置有料盒6，硅片5堆放于料盒6中。上料槽2內具有供料盒6移動的一段行程，即可以將料盒6推送至上料槽2的上料位，或者將料盒6從上料位抽出。在料盒6的下方設置有頂升部件，通過頂升部件可以升降裝載在料盒6里面的硅片5。
[0030]進一步，可以頂升部件的行程上設置傳感器4，用來檢測頂升部件頂升的硅片5停止的位置，以保證最佳的吸附位置。
[0031]平移組件可以根據實際需要采用電動滑臺1、電動滑軌或其他方式的平移部件。傳送組件可以根據實際需要采用傳送帶8、傳送鏈板或其他方式的傳動部件。頂升部件可以根據實際需要采用滾珠絲桿9、伸縮氣缸、伸縮油缸或其他方式的頂升部件。硅片5是在切割后完成清洗的。
[0032]工作原理:首先，將4個裝滿硅片5的料盒6分別放入上料槽2中并推送至上料位，準備就緒后啟動設備運行。滾珠絲桿9將頂升硅片5至停止位，風刀3開始吹散硅片5，同時真空吸盤7產生真空，直至真空吸盤7吸附到硅片，此時關閉風刀3。
[0033]當兩個用于抓片的真空吸盤7都成功吸附硅片5后，電動滑臺1平移，將抓有硅片5的真空吸盤7移至傳送帶8上方；此時，真空吸盤7的工作模式由吸片轉換成放片，硅片5掉落在傳送帶8上，由傳送帶8進行傳輸上料。與此同時，位于另一端的真空吸盤7由放片模式轉換成吸附模式，重復之前的抓片動作。如此反復抓放片不間斷運行進行上料。
[0034]以上僅是本實用新型的優選實施方式，本實用新型的保護范圍并不僅局限于上述實施例，凡屬于本實用新型思路下的技術方案均屬于本實用新型的保護范圍。應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型原理前提下的若干改進和潤飾，應視為本實用新型的保護范圍。
【主權項】
1.一種用于硅片品質分選設備的上料裝置，其特征在于，包括平移組件、一個以上的上料槽(2)以及傳送組件，所述上料槽(2)內放置有疊好的硅片(5)，所述平移組件上設置有一個以上的真空吸盤(7)，所述平移組件帶著真空吸盤(7)運動至上料槽(2)以吸附上料槽(2)內的硅片(5)，然后帶著所述真空吸盤(7)運動至傳送組件的上方放下硅片(5)，由所述傳送組件進行硅片(5)的傳送。2.根據權利要求1所述的用于硅片品質分選設備的上料裝置，其特征在于，所述上料槽(2)為多個，分成兩組；沿著所述平移組件的運動行程，在所述平移組件兩端分別設置一組上料槽(2)，并在平移組件上設置兩組真空吸盤(7)，每組真空吸盤(7)對應一組上料槽(2);當其中一組真空吸盤(7)處于吸附硅片(5)狀態時，另外一組真空吸盤(7)運動至傳送組件的上方處于放片狀態。3.根據權利要求2所述的用于硅片品質分選設備的上料裝置，其特征在于，同一組的上料槽(2)包括兩個，所述真空吸盤(7)的數量為四個，同一組內的兩個上料槽(2)呈垂直90度的方式安裝。4.根據權利要求1或2或3所述的用于硅片品質分選設備的上料裝置，其特征在于，在所述上料槽(2 )處設置有風刀(3 )，所述風刀(3 )用于將堆疊在一起的硅片(5 )吹散。5.根據權利要求1或2或3所述的用于硅片品質分選設備的上料裝置，其特征在于，所述上料槽(2 )內設置有料盒(6 )，所述硅片(5 )堆放于料盒(6 )中。6.根據權利要求5所述的用于硅片品質分選設備的上料裝置，其特征在于，所述上料槽(2)內具有供料盒(6)移動的一段行程。7.根據權利要求5所述的用于硅片品質分選設備的上料裝置，其特征在于，在所述料盒(6 )的下方設置有頂升部件，通過頂升部件升降裝載在料盒(6 )里面的硅片(5 )。8.根據權利要求7所述的用于硅片品質分選設備的上料裝置，其特征在于，所述頂升部件的行程上設置傳感器(4)，用來檢測頂升部件頂升的硅片(5)停止的位置。9.根據權利要求7所述的用于硅片品質分選設備的上料裝置，其特征在于，所述頂升部件為滾珠絲桿(9)。10.根據權利要求1或2或3所述的用于硅片品質分選設備的上料裝置，其特征在于，所述平移組件為電動滑臺(1)，所述傳送組件為傳送帶(8)。
【專利摘要】本實用新型公開了一種用于硅片品質分選設備的上料裝置，包括平移組件、一個以上的上料槽以及傳送組件，所述上料槽內放置有疊好的硅片，所述平移組件上設置有一個以上的真空吸盤，所述平移組件帶著真空吸盤運動至上料槽以吸附上料槽內的硅片，然后帶著所述真空吸盤運動至傳送組件的上方放下硅片，由所述傳送組件進行硅片的傳送。本實用新型具有結構簡單、生產效率高、可靠性好等優點。
【IPC分類】B65G47/91
【公開號】CN205011021
【申請號】CN201520670078
【發明人】尹昊, 陳勇平, 郭立
【申請人】中國電子科技集團公司第四十八研究所
【公開日】2016年2月3日
【申請日】2015年8月31日