一種硅片加工上料裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種上料裝置，尤其是一種硅片加工上料裝置，屬于光伏元件加工設備領域。
【背景技術】
[0002]在晶體硅太陽電池的生產過程中，需要將已經經過制絨、高溫擴散和刻蝕的硅片逐塊均勻的進行傳送，使得石墨舟內的硅片能夠繼續進行后一道絲網印刷等工序的加工，傳統的硅片在水平傳送過程中，需要人工將硅片逐塊的放置在傳送帶上，隨著傳送帶的運轉將硅片進行傳送，工人的勞動強度較大，并且由于工人操作的隨意性，導致硅片不能準確均勻的進行傳送，降低了硅片傳送效率，現有的硅片加工上料裝置一般采用真空吸盤上料，但是現有吸料機構在將硅片上料的過程中，難以水平準確的將硅片吸住，導致硅片在上料過程中掉落，影響硅片上料機構的正常運行，現有的硅片傳送機構上只設置有一個硅片放置支架，難以確保硅片連續進行上料，硅片放置支架外側一般采用固定桿將硅片進行限位，導致硅片在被提升的過程中，硅片的邊緣與固定桿產生摩擦導致硅片產生破損，降低了硅片的加工效率，現有的傳送機構在將硅片水平傳送的過程中，傳送皮帶與皮帶輪產生打滑導致硅片不能高效的被進行傳送，難以滿足生產的需要。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型所要解決的技術問題是克服現有技術中所存在的上述不足，而提供一種結構設計合理，能夠快速高效的將硅片連續進行上料的硅片加工上料裝置。
[0004]為了解決上述技術問題，本實用新型所采用的技術方案是:一種硅片加工上料裝置，包括主支架、硅片傳送機構和硅片上料機構，硅片上料機構設置在硅片傳送機構上側，其特征在于:所述硅片上料機構包括平移塊、平移導向桿、升降氣缸和平移氣缸，平移塊水平設置在主支架上側，平移導向桿水平穿過平移塊且平移導向桿的兩端分別與主支架兩側固定，升降氣缸豎直向下設置在平移塊上側，升降氣缸下端水平設置有吸料機構，平移氣缸水平設置在主支架一側，平移氣缸的輸出端與平移塊一側固定；所述吸料機構包括升降板、吸料板和升降導向桿，升降板水平設置在升降氣缸下端，吸料板水平設置在升降板下側，吸料板上側豎直均勻設置有多根升降導向桿，升降導向桿豎直向上穿過升降板，升降導向桿上端設置有限位擋板，升降導向桿上設置有吸料彈簧，吸料板下側均勻設置有多個真空吸盤；所述硅片傳送機構包括傳送支架、傳送皮帶、硅片放置支架和硅片放置板，傳送支架設置有兩個，兩個傳送支架水平對稱設置在主支架上側，傳送支架兩側分別豎直轉動連接有皮帶輪，傳送皮帶水平設置在皮帶輪上，兩個傳送支架的皮帶輪之間水平設置有旋轉軸，傳送支架一側水平設置有傳送電機，傳送電機驅動皮帶輪，傳送皮帶上設置有兩個硅片放置支架，硅片放置支架下方的兩側水平對稱設置有傳送導向板，硅片放置支架下側豎直向上設置有提升氣缸，硅片放置板水平設置在提升氣缸的上側，硅片放置支架的外側豎直均勻設置有多個硅片限位機構。
[0005]進一步地，所述硅片限位機構包括支撐板、限位輪和限位皮帶，支撐板設置有兩塊，兩塊支撐板豎直對稱設置在硅片放置支架上側，支撐板上下兩側分別水平轉動連接有限位輪，限位皮帶豎直設置在限位輪上，限位皮帶表面設置有軟質橡膠層。
[0006]進一步地，所述皮帶輪外側設置有齒狀表面，傳送皮帶內側設置有與齒狀表面相適配的齒狀橡膠層。
[0007]本實用新型與現有技術相比，具有以下優點和效果:本實用新型結構簡單，通過傳送皮帶上設置有兩個硅片放置支架，利用傳送電機驅動傳送皮帶水平往復進行轉動，使得兩個硅片放置支架能夠交替連續的進行上料，確保硅片高效的進行后道工序的加工；通過兩個傳送支架的皮帶輪之間水平設置有旋轉軸，使得兩個傳送支架上的傳送皮帶能夠同步運轉，確保硅片放置支架平穩的進行傳送，利用皮帶輪外側設置有齒狀表面，傳送皮帶內側設置有與齒狀表面相適配的齒狀橡膠層，避免傳送皮帶與皮帶輪產生打滑，確保硅片高效的被進行傳送；通過硅片放置支架下側豎直向上設置有提升氣缸，硅片放置板水平設置在提升氣缸的上側，隨著硅片的不斷上料，提升氣缸驅動硅片放置板水平上升，確保硅片放置板上的硅片高效的進行上料；通過硅片放置支架的外側豎直均勻設置有多個硅片限位機構，使得硅片在提升的過程中，避免硅片由于摩擦而導致硅片的邊緣產生破損；通過升降導向桿上設置有吸料彈簧，吸料板下側均勻設置有多個真空吸盤，使得吸料機構能夠水平牢固的將硅片吸住，利用平移氣缸驅動平移塊水平沿著平移導向桿水平進行移動，使得硅片能夠快速高效的進行平移上料，提高了硅片上料的效率和質量，滿足生產的需要。
【附圖說明】
[0008]圖1是本實用新型一種硅片加工上料裝置的主視圖。
[0009]圖2是本實用新型一種硅片加工上料裝置的右視圖。
[0010]圖3是本實用新型一種硅片加工上料裝置的吸料機構的結構示意圖。
[0011]圖4是本實用新型一種硅片加工上料裝置的硅片傳送機構的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0012]為了進一步描述本實用新型，下面結合附圖進一步闡述一種硅片加工上料裝置的【具體實施方式】，以下實施例是對本實用新型的解釋而本實用新型并不局限于以下實施例。
[0013]如圖1所示，本實用新型一種硅片加工上料裝置，它包括主支架1、硅片傳送機構和硅片上料機構，硅片上料機構設置在硅片傳送機構上側。本實用新型的硅片上料機構包括平移塊2、平移導向桿3、升降氣缸4和平移氣缸5，平移塊2水平設置在主支架I上側，平移導向桿3水平穿過平移塊2且平移導向桿3的兩端分別與主支架I兩側固定，升降氣缸4豎直向下設置在平移塊2上側，升降氣缸4下端水平設置有吸料機構，平移氣缸5水平設置在主支架I 一側，平移氣缸5的輸出端與平移塊2—側固定，通過吸料機構水平牢固的將硅片吸住，利用平移氣缸5驅動平移塊2水平沿著平移導向桿3水平進行移動，使得硅片能夠快速高效的進行平移上料。
[0014]如圖3所不，本實用新型的吸料機構包括升降板6、吸料板7和升降導向桿8，升降板6水平設置在升降氣缸4下端，吸料板7水平設置在升降板6下側，吸料板7上側豎直均勻設置有多根升降導向桿8，升降導向桿8豎直向上穿過升降板6，升降導向桿8上端設置有限位擋板9，升降導向桿8上設置有吸料彈簧10，吸料板7下側均勻設置有多個真空吸盤
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[0015]如圖4所示，本實用新型的硅片傳送機構包括傳送支架1