涂布系統和涂布方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示技術領域，特別涉及一種涂布系統和涂布方法。
【背景技術】
[0002]目前，在顯示裝置(例如:TFT-1XD和AMOLED)制造工藝中，尤其是彩膜基板制造工藝中，涂布工藝是最重要的一段工藝制程。涂布工藝的作用是將涂布材料極度均勻的涂覆在基板表面以在基板表面形成薄膜。由于薄膜的膜厚會影響產品的質量，因此顯示裝置的制造工藝對薄膜的厚度要求特別高。在涂布工藝中，涂布的均勻性決定了涂布工藝的優劣，而涂布的均勻性又會影響薄膜的膜厚。
[0003]現有技術中存在多種控制膜厚的方法，但是現有技術中還沒有一種方案能夠實現實時調整膜厚。
【發明內容】
[0004]本發明提供一種涂布系統和涂布方法，用于實現實時調整膜厚。
[0005]為實現上述目的，本發明提供了一種涂布系統，包括:涂布設備、檢測裝置和調節裝置；
[0006]所述涂布設備，用于以設定速度將涂布材料涂布于基板上；
[0007]所述檢測裝置，用于在所述涂布設備涂布時檢測所述涂布材料的測量點的膜厚，并將檢測出的膜厚發送給所述調節裝置；
[0008]所述調節裝置，用于根據所述膜厚生成設定速度，并將所述設定速度發送給所述涂布設備。
[0009]可選地，所述檢測裝置包括光源、發射端、接收端和信號處理模塊，所述發射端和所述接收端分別位于基板的兩側且相對設置；
[0010]所述光源，用于向所述發射端提供照射光；
[0011]所述發射端，用于向所述基板發射所述照射光以使所述照射光透過所述基板和所述涂布材料；
[0012]所述接收端，用于接收透過所述基板和所述涂布材料的照射光，并將照射光發送至所述信號處理模塊；
[0013]所述信號處理模塊，用于根據接收到的照射光生成所述膜厚。
[0014]可選地，所述信號處理模塊包括光譜儀和第一計算模塊；
[0015]所述光譜儀，用于將接收到的照射光轉換成光譜線；
[0016]所述第一計算模塊，用于對所述光譜線計算處理，生成所述膜厚。
[0017]可選地，所述涂布設備包括平臺、泵浦和噴嘴，所述噴嘴位于所述基板的上方，所述平臺中設置有鏤空結構，所述發射端位于所述鏤空結構中；
[0018]所述平臺，用于承載所述基板；
[0019]所述泵浦，用于以所述設定速度驅動所述噴嘴；
[0020]所述噴嘴，用于將涂布材料涂布于基板上。
[0021]可選地，所述平臺中位于發射端和基板之間的部分結構的材料為透明材料。
[0022]可選地，所述涂布設備還包括:設置于所述基板上方的移動裝置，所述接收端和所述噴嘴位于所述移動裝置上，且所述發射端和所述接收端位于所述噴嘴的后方；
[0023]所述移動裝置在所述基板上方移動，以使所述接收端與所述噴嘴同步移動；
[0024]所述發射端在所述基板下方以與所述接收端相同的移動，以使所述發射端和所述接收端與所述噴嘴同步移動。
[0025]可選地，所述調節裝置包括:判斷模塊和第二計算模塊；
[0026]所述判斷模塊，用于判斷I (Τ1_Τ2)/Τ1 I是否小于或者等于設定差值；
[0027]所述第二計算模塊，用于若所述判斷模塊判斷出I (Τ1_Τ2)/Τ1|大于設定差值時，根據公式[1+(T1_T2)/T1]V計算出設定速度，并將設定速度發送至所述涂布設備；
[0028]其中，Tl為標準膜厚，T2為檢測出的膜厚，V為原始速度。
[0029]為實現上述目的，本發明提供了一種涂布方法，包括:
[0030]檢測裝置在涂布設備將涂布材料涂布于基板上時檢測所述涂布材料的測量點的膜厚，并將檢測出的膜厚發送給所述調節裝置；
[0031]調節裝置根據所述膜厚生成設定速度，并將所述設定速度發送給所述涂布設備；
[0032]所述涂布設備以設定速度將涂布材料涂布于基板上。
[0033]可選地，所述檢測裝置包括光源、發射端、接收端和信號處理模塊，所述發射端和所述接收端分別位于基板的兩側且相對設置；
[0034]所述光源向所述發射端提供照射光；
[0035]所述發射端向所述基板發射所述照射光以使所述照射光透過所述基板和所述涂布材料；
[0036]所述接收端接收透過所述基板和所述涂布材料的照射光，并將照射光發送至所述信號處理模塊；
[0037]所述信號處理模塊根據接收到的照射光生成所述膜厚。
[0038]可選地，所述調節裝置包括:判斷模塊和第二計算模塊；
[0039]所述判斷模塊判斷I (Τ1_Τ2)/Τ1 I是否小于或者等于設定差值；
[0040]若所述判斷模塊判斷出I (Τ1_Τ2)/Τ1|大于設定差值時，所述第二計算模塊根據公式[1+(T1-T2)/T1]V計算出設定速度，并將設定速度發送至所述涂布設備；
[0041]其中，Tl為標準膜厚，T2為檢測出的膜厚，V為原始速度。
[0042]本發明具有以下有益效果:
[0043]本發明提供的涂布系統和涂布方法中，檢測裝置在涂布設備涂布時檢測涂布材料的測量點的膜厚，調節裝置根據膜厚生成設定速度，涂布設備根據設定速度將涂布材料涂布于基板上，從而實現了實時調整膜厚。
【附圖說明】
[0044]圖1為本發明實施例一提供的一種涂布系統的結構示意圖；
[0045]圖2為圖1中涂布系統的平面示意圖；
[0046]圖3為本發明實施例二提供的一種涂布方法的流程圖。
【具體實施方式】
[0047]為使本領域的技術人員更好地理解本發明的技術方案，下面結合附圖對本發明提供的涂布系統和涂布方法進行詳細描述。
[0048]圖1為本發明實施例一提供的一種涂布系統的結構示意圖，圖2為圖1中涂布系統的平面示意圖，如圖1和圖2所示，該涂布系統包括:涂布設備1、檢測裝置2和調節裝置3。涂布設備I用于以設定速度將涂布材料4涂布于基板5上；檢測裝置2用于在涂布設備I涂布時檢測涂布材料的測量點的膜厚，并將檢測出的膜厚發送給調節裝置3 ;調節裝置3用于根據膜厚生成設定速度，并將設定速度發送給涂布設備I。
[0049]檢測裝置2在涂布過程中實時檢測出某一測量點的膜厚，其中，該某一測量點的位置可以預先設置。調節裝置3根據檢測出的該測量點的膜厚計算出設定速度，并將該設定速度發送給涂布設備I以供涂布設備I根據該設定速度進行涂布工藝，從而實現對后續涂布材料膜厚的控制。進而，檢測裝置2可繼續進行下一個測量點的膜厚的檢測，實現在一次涂布工藝中對膜厚的實時且持續的調整。每個測量點之間的距離可根據生產需要進行設置。
[0050]檢測裝置2包括光源21、發射端22、接收端23和信號處理模塊24，發射端22和接收端23分別位于基板的兩側且相對設置。光源21用于向發射端22提供照射光；發射端22用于向基板5發射照射光以使照射光透過基板5和涂布材料4 ;接收端23用于接收透過基板5和涂布材料4的照射光，并將照射光發送至信號處理模塊24 ;信號處理模塊24用于根據接收到的照射光生成膜厚。其中，光源21可通過光纖與發射端22連接。
[0051]具體地，信號處理模塊24包括光譜儀241和第一計算模塊242。光譜儀241用于將接收到的照射光轉換成光譜線；第一計算模塊242用于對光譜線計算處理，生成膜厚。具體地，可采用現有技術中的計算方法計算出膜厚，此處不再具體描述。其中，光譜儀241可通過光纖與接收端23連接。
[0052]具體地，涂布設備I包括平臺11、泵浦12和噴嘴13，噴嘴13位于基板5的上方，平臺11中設置有鏤空結構111，發射端22位于鏤空結構111中。平臺11用于承載基板5 ;泵浦12用于以設定速度驅動噴嘴13 ;噴嘴13用于將涂布材料涂布于基板5上。發射端22位于鏤空結構111可有效節省空間。優選地，鏤空結構111中設置有導軌，發射端22設置于導軌上并沿導軌滑動，導軌在圖中未具體畫出。
[0053]優選地，平臺11中位于發射端22和基板5之間的部分結構112的材料為透明材料。采用透明材料可有效保證發射端22發射的照射光透過。在實際應用中，可通過多次實驗和調試選擇出透光率較高的透明材料，以提高照射光的透過率。
[0054]進一步地，涂布設備I還包括設置于基板5上方的移動裝置14，接收端23和噴嘴13位于移動裝置14上，且發射端22和接收端23位于噴嘴13的后方。移動裝置14在基板5上方移動，以使接收端23與噴嘴13同步移動；發射端22在基板5下方以與接收端23相同的速度移動，以使發射端22和接收端23與噴嘴13同步移動。優選地，移動裝置14可以為龍門結構(Gantry)。優選地，如圖2所示，該涂布系統可包括控制裝置4，該控制裝置4分別與發射端22、移動裝置14和噴嘴13連接，控制裝置4可用于控制發射端22、移動裝置14和噴嘴13移動。其中，控制裝置4可通過電力線(cable)與發射端22、移動裝置14、噴嘴13連接。
[0055]進一步地，該涂布設備還包括位于平臺11兩側的導軌15，移動裝置14位于導軌15之上。該移動裝置14與控制裝置4連接，控制裝置4可用于控