簾幕涂布機器和簾幕涂布方法
【技術領域】
[0001] 本發明涉及狹縫式簾幕涂布（slotcurtaincoating)機器和簾幕涂布方法。
【背景技術】
[0002] 存在一種提出的狹縫式簾幕涂布機器，其包括這樣的方法，即在不改變從狹縫壓 膜有待排出的涂布液體的排出寬度，但帶有在下落簾幕薄膜的寬度內插入的簾幕薄膜分離 液體容器盤且包括簾幕薄膜分離板的情況下，通過從簾幕薄膜的兩個邊緣取出涂布液體并 從簾幕薄膜的中心涂布部分分離兩個邊緣處的取出的部分來改變簾幕涂布寬度，從而當 涂布液體被排出時使落在支撐構件上的部分的寬度小于涂布液體的寬度（參見PTLl和 PTL2)〇
[0003] 然而，提出的技術需要取出涂布液體，且需要循環設備再循環取出的涂布液體。為 了循環涂布液體，需要去除涂布液體的泡沫。當涂布液體的黏度高時或當涂布液體的黏度 可通過剪切大大地降低時，去除涂布液體的泡沫是非常困難的。當不能夠從涂布液體移除 泡沫時，可能存在這樣的問題，即由于涂布液體中的泡沫，涂布缺陷發生。當通過取出并循 環涂布液體而繼續生產時，可能存在這樣的問題，即涂布液體的固體含量改變并降低涂覆 的薄膜的質量。例如，當涂布液體為具有高固體含量的丙烯酸乳液時，涂布液體的固化產品 可分開。當固化產品分開時，不僅涂布缺陷可發生，而且簾幕薄膜可破裂或撕裂。撕裂的簾 幕薄膜可污染環境，或當薄膜由于其厚度不均勻被纏住時，撕裂的簾幕薄膜可引起差錯，從 而在最壞的情況下可使生產停止。
[0004] 如圖1所示的這種簾幕涂布機器投放在市場中，其包括作為簾幕薄膜涂布寬度改 變裝置、定邊裝置和導邊器被整合在其中的結構。該簾幕涂布機器能夠在不取出涂布液體 的情況下容易地改變簾幕薄膜的涂布寬度，這已經成為PTLl和PTL2中所描述的發明的問 題。
[0005] 然而，因為作為排出寬度調節構件的定邊裝置201和作為導引構件的導邊器202 被整合，圖1所示的簾幕涂布機器引起涂布液體在涂布操作開始時從狹縫壓膜的排出口以 蜂窩狀形狀下落，在涂布操作開始時，涂布液體的流率低。在這種情況下，由于諸如風的外 部干擾、涂布液體的流率變化等，涂布液體容易左右搖擺。通過搖擺，涂布液體可粘附到導 邊器的向下流動表面，且照這樣，涂布液體可順著向下流動表面向下流動從而部分污染或 整體污染向下流動表面。向下流動表面的污染妨礙導邊器促進水的向下流動，從而減緩簾 幕薄膜的邊緣部分的下落速度并引起薄膜厚度均勻性差的問題。
[0006] 此外，在形成簾幕薄膜同時導邊器依然被污染時，簾幕薄膜不會豎直下落而是彎 曲，從而可產生條痕，該條痕從簾幕薄膜接觸導邊器的地方到簾幕薄膜碰撞在支撐構件上 的地方畫弧線。簾幕薄膜在碰撞部分處可為波狀的，從而引起薄膜厚度均勻性差的問題。
[0007] 此外，當沒有致動涂布操作時，狹縫壓膜的狹縫使用具有條帶形狀的清洗薄膜來 清洗，所述清洗薄膜被插入狹縫中。由于定邊裝置201和導邊器202被整合在圖1所示的 簾幕涂布機器中，清洗導邊器及其周圍是困難的。因此，在清洗期間，涂布液體、清洗液體等 可飛濺并污染導邊器。
[0008] 因此，要求提供狹縫簾幕涂布機器，其能夠在使涂布液體等不污染被提供為導引 構件的導邊器的情況下容易地改變簾幕薄膜涂布寬度。
[0009] 引文列表
[0010] 專利文獻
[0011] PTL1 美國專利No. 6, 709, 517
[0012] PTL2 日本專利申請特開（JP-A)No. 2009-18285

【發明內容】

[0013] 技術問題
[0014] 本發明涉及狹縫式簾幕涂布機器，在使涂布液體等不污染被提供為導引構件的導 邊器的情況下，所述狹縫式簾幕涂布機器能夠容易地改變簾幕薄膜涂布寬度。
[0015] 問題的解決方案
[0016] 作為用于解決上述問題的方法，本發明的簾幕涂布機器至少包括：
[0017] 簾幕涂布構件，其包括排出口，涂布液體以簾幕形狀從排出口排出；
[0018] 排出寬度調節構件，其被提供在排出口中且經配置以調節以簾幕形狀有待排出的 涂布液體的排出寬度；
[0019] 防掉落構件，其經配置以防止排出寬度調節構件從排出口掉落；
[0020] 固定構件，其經配置以固定防掉落構件；
[0021] 緊密接觸構件，其被可移動地提供在固定構件上且經配置以緊密接觸防掉落構 件，且經由防掉落構件防止涂布液體在排出方向上從排出口中的區域泄漏，其中排出寬度 調節構件被提供在所述排出口中；和
[0022] 導引構件，其被可分開地提供在固定構件上且經配置以引導以簾幕形狀從排出口 排出的涂布液體的寬度方向的兩個邊緣。
[0023] 發明的有利效果
[0024] 本發明能夠提供一種狹縫式簾幕涂布機器，其能夠解決上述的常規問題，且在使 涂布液體等不污染被提供為導引構件的導邊器的情況下，所述狹縫式簾幕涂布機器能夠容 易地改變簾幕薄膜涂布寬度。
【附圖說明】
[0025] 圖1是示出示例常規狹縫式簾幕涂布機器的示意圖。
[0026] 圖2是本發明的簾幕涂布機器的示例狹縫壓膜的前視圖。
[0027] 圖3是示出本發明的簾幕涂布機器的示例狹縫壓膜的一側放大前視圖。
[0028] 圖4是示出本發明的簾幕涂布機器的示例狹縫壓膜的一側放大前視圖，其中導邊 器被分開。
[0029] 圖5是示出本發明的簾幕涂布機器的示例狹縫壓膜的一側放大前視圖，其中導邊 器沿寬度方向伸縮。
[0030] 圖6是示出本發明的簾幕涂布機器的示例狹縫壓膜的示意性橫截面視圖。
[0031] 圖7是示出本發明的簾幕涂布機器的示例狹縫壓膜的示意性橫截面視圖，其中緊 密接觸構件和導邊器被移除。
[0032] 圖8是示出示例情況的示意圖，在該示例情況中，簾幕涂布機器的狹縫壓膜的排 出口向水平方向傾斜或向關于水平方向的支撐構件相反的方向傾斜。
[0033] 圖9是示出示例情況的示意圖，在該示例情況中，簾幕涂布機器的狹縫壓膜的排 出口向水平方向傾斜或向關于水平方向的支撐構件相反的方向傾斜。
[0034] 圖10是示出示例情況的示意圖，在該示例情況中，簾幕涂布機器的狹縫壓膜上下 提升。
[0035] 圖11是示出示例情況的示意圖，在該示例情況中，簾幕涂布機器的狹縫壓膜上下 提升。
[0036] 圖12是示出示例狀態的示意圖，在該示例狀態中，涂布液體被排出以便形成簾幕 薄膜。
[0037] 圖13是示出示例狀態的示意圖，在該示例狀態中，涂布液體以很小的量被排出以 便不形成簾幕薄膜。
[0038] 圖14是示出其中導邊器在涂布期間沿涂布寬度方向從其位置移走的示例的示意 圖。
[0039] 圖15是示出狹縫壓膜的排出口部分和排出寬度調節構件的示例的局部展開圖 不。
[0040] 圖16A是示出狹縫壓膜的排出口部分和排出寬度調節構件的另一個示例的部分 展開圖示。
[0041] 圖16B是示出狹縫壓膜的排出口部分和排出寬度調節構件的另一個示例的部分 展開圖示。
[0042] 圖17是示出狹縫壓膜的排出口部分和排出寬度調節構件的另一個示例的部分展 開圖示。
【具體實施方式】
[0043] (簾幕涂布機器和簾幕涂布方法）
[0044] 本發明的簾幕涂布機器至少包括簾幕涂布構件、排出寬度調節構件、防掉落構件、 固定構件、緊密接觸構件和導引構件，且根據需要還包括其它構件。
[0045] 本發明的簾幕涂布方法使用本發明的簾幕涂布機器執行。
[0046] 本發明的簾幕涂布機器和簾幕涂布方法將在下面詳細地解釋。
[0047] 〈簾幕涂布構件〉
[0048] 簾幕涂布構件是包括排出口的構件，涂布液體以簾幕形狀從所述排出口排出。
[0049] 簾幕涂布構件沒有被特別限制且可根據用途被適當地選擇，只要該簾幕涂布構件 是包括排出口的構件，涂布液體以簾幕形狀從所述排出口排出。然而，其優選示例為狹縫壓 膜。
[0050] 涂布液體
[0051] 涂布液體從涂布液體漿池通過栗、過濾器、液體溫度調節設備，分支閥等被輸送到 狹縫壓膜并在支撐構件上涂覆。
[0052] 涂布液體沒有被特別限制且可根據用途被適當地選擇。其示例包括丙烯酸乳液、 熱敏記錄材料液體、熱轉印色帶涂布液體、水性涂布液體和溶劑性涂布液體。這些中的一個 可被單獨使用，或這些中的兩個或更多個可被組合使用。
[0053] 涂布液體的粘度沒有被特別限制且可根據用途被適當地選擇。然而，其優選在 25°C下為從ImPa?s到2,OOOmPa?s。當粘度小于ImPa?s時，當例如暫停涂布時，液體可 從狹縫壓膜的狹縫掉落。當粘度大于2,OOOmPa*s時，涂布液體中的氣泡可能難以逸出。涂 布液體中的氣泡可引起缺陷或提高用于排出涂布液體的壓力從而對液體輸送栗施加較大 負荷。因此，可要求液體進給系統具有耐壓性。
[0054] 涂布液體的表面張力沒有被特別限制且可根據用途被適當地選擇。然而，其優選 為從20mN/m到40mN/m。當表面張力小于20mN/m時，薄膜自身的表面張力可變弱從而使薄膜 無力拉緊且由于風的外部干擾允許薄膜容易變形并搖擺。另一方面，當表面張力大于40mN/ m時，簾幕薄膜可向上撕裂。
[0055] 至于表面張力，根據鉑板法，靜態表面張力能夠使用例如（由Kyowa界面科學有限 公司（KyowaInterfaceScienceCo. ,Ltd.)制造的）FACE自動表面張力儀進行測量。
[0056] 簾幕涂布方法中的動態表面張力能夠根據，例如基于角度計算動態表面張力的