上同步可以實時執行。
[0084]隨后，通過第二負荷感測元件253和254來感測第三滾筒230的負荷。第二負荷感測元件253和254包括第二豎直負荷傳感器253和第二水平負荷傳感器254，并且感測施加到第三滾筒230上的豎直負荷和水平負荷。隨后，控制部件290基于豎直負荷和水平負荷測量納米薄膜與第三滾筒230和第四滾筒240之間的摩擦力。可以基于常規的計算方程來測量摩擦力以獲得該摩擦力。
[0085]隨后，控制部件290同步第三旋轉元件235或第四旋轉元件245的平移速度以最小化摩擦力，并且同步可以實時執行。
[0086]因此，可以最小化納米薄膜與第一至第四滾筒210、220、230和240之間的摩擦力，且因此可以防止納米薄膜在傳輸中受到損壞或變形。此外，即使在第一至第四滾筒210、220、230和240的圓周由于第一至第四滾筒210、220、230和240的磨損或變形而改變時，也可以準確地并精確地控制平移速度。此外，可以感測并同步控制卷對卷傳輸設備中的納米薄膜的張力，且因此可以防止納米薄膜在傳輸中受到損壞或變形。
[0087]以上內容說明本發明的教示而并不解釋為對其進行限制。盡管描述了幾個示例性實施例，但是本領域技術人員將從以上內容較為容易地了解到，在實質上不脫離本發明的披露內容的新穎教示和優點的情況下，示例性實施例中可能存在許多修改。因此，所有這些修改意欲包括在本教示的范圍內。在權利要求中，手段加功能條款意欲涵蓋本文所描述的為執行所述功能并且不僅結構等效而且功能等效結構的結構。
【主權項】
1.一種用于同步卷對卷傳輸設備的裝置，所述裝置包括: 由所述卷對卷傳輸設備傳輸的薄膜； 第一滾筒，所述第一滾筒與所述薄膜的下表面接觸，并且通過第一旋轉元件繞旋轉軸旋轉； 第二滾筒，所述第二滾筒布置于所述第一滾筒上方，與所述薄膜的上表面接觸，并且通過第二旋轉元件繞旋轉軸旋轉； 第一負荷感測元件，所述第一負荷感測元件感測所述第一滾筒的負荷或所述第二滾筒的負荷；以及 控制部件，所述控制部件基于所述第一負荷感測元件所感測到的所述負荷來同步所述第一旋轉元件或所述第二旋轉元件的平移速度。2.根據權利要求1所述的裝置，其中所述第一負荷感測元件包括: 第一豎直負荷傳感器，所述第一豎直負荷傳感器感測垂直于所述旋轉軸并且垂直于所述薄膜的傳輸方向的負荷；以及 第一水平負荷傳感器，所述第一水平負荷傳感器感測垂直于所述旋轉軸并且與所述傳輸方向平行的負荷。3.根據權利要求1所述的裝置，其中所述控制部件使用所述第一負荷感測元件測量所述薄膜與所述第一和第二滾筒之間的摩擦力，并且同步所述第一旋轉元件或所述第二旋轉元件的所述平移速度，以最小化所述摩擦力。4.根據權利要求1所述的裝置，其進一步包括: 第三滾筒，所述第三滾筒沿著所述薄膜的傳輸方向與所述第一滾筒間隔開，與所述薄膜的所述下表面接觸，并且通過第三旋轉元件繞旋轉軸旋轉； 第四滾筒，所述第四滾筒布置于所述第三滾筒上方，與所述薄膜的上表面接觸，并且通過第四旋轉元件繞旋轉軸旋轉； 第五滾筒，所述第五滾筒布置于所述第一滾筒與第三滾筒之間，與所述薄膜的所述上表面或所述下表面接觸，并且通過第五旋轉元件繞旋轉軸旋轉； 第二負荷感測元件，所述第二負荷感測元件感測所述第三滾筒或所述第四滾筒的負荷；以及 張力感測元件，所述張力感測元件感測所述第五滾筒上的所述薄膜的張力， 其中，所述控制部件基于所述第二負荷感測元件所感測到的所述負荷來同步所述第三旋轉元件或所述第四旋轉元件的平移速度，并且通過所述張力感測元件來同步所述第一至第四旋轉元件中的至少一個的旋轉角速度。5.根據權利要求4所述的裝置，其中所述第二負荷感測元件包括: 第二豎直負荷傳感器，所述第二豎直負荷傳感器感測垂直于所述旋轉軸并且垂直于所述薄膜的傳輸方向的負荷；以及 第二水平負荷傳感器，所述第二水平負荷傳感器感測垂直于所述旋轉軸并且與所述傳輸方向平行的負荷。6.根據權利要求5所述的裝置，其中所述張力感測元件包括第三豎直負荷傳感器，所述第三豎直負荷傳感器感測垂直于所述第五滾筒的所述旋轉軸并且垂直于所述傳輸方向的負荷。7.根據權利要求5所述的裝置，其中所述張力感測元件是布置于所述第五滾筒上的張力調節棍(dancer-roll)。8.根據權利要求4所述的裝置，其中所述控制部件，使用所述第二負荷感測元件測量所述薄膜與所述第三和第四滾筒之間的摩擦力，并且同步所述第三旋轉元件或所述第四旋轉元件的所述平移速度，以最小化所述摩擦力，以及使用所述張力感測元件來測量兩對滾筒之間的所述薄膜的張力，一對滾筒是所述第一和第二滾筒，另一對滾筒是所述第三和第四滾筒，并且同步所述第一和第二旋轉元件或所述第三和第四旋轉元件的所述平移速度以均勻地保持所述張力。9.根據權利要求4所述的裝置，其中所述第五滾筒包括: 主滾筒，所述主滾筒與所述薄膜的所述下表面接觸，所述主滾筒的下端布置在所述第一和第三滾筒的上端上方；以及 次滾筒，所述次滾筒沿著所述薄膜的所述傳輸方向布置在所述主滾筒的兩側，所述次滾筒的下端與所述第一和第三滾筒的上端平行布置， 其中所述張力感測元件感測所述主滾筒上的所述薄膜的張力。10.根據權利要求1或權利要求6所述的裝置，其中所述第一至第三豎直負荷傳感器以及所述第一和第二平行負荷傳感器是測力傳感器。11.一種用于同步卷對卷傳輸設備的方法，所述方法包括: 使用第一負荷感測元件來感測第一滾筒或第二滾筒的負荷； 使用由所述第一負荷感測元件感測到的所述負荷來計算所述薄膜與所述第一和第二滾筒之間的摩擦力；以及 通過控制部件同步第一旋轉元件或第二旋轉元件的平移速度以最小化所述摩擦力。12.根據權利要求11所述的方法，其進一步包括: 使用第二負荷感測元件來感測第三滾筒或第四滾筒的負荷； 使用由所述第二負荷感測元件感測到的所述負荷來估計所述薄膜與所述第三和第四滾筒之間的摩擦力；以及 通過所述控制部件來同步第三旋轉元件或第四旋轉元件的平移速度以最小化所述摩擦力。13.根據權利要求12所述的方法，其進一步包括: 使用張力感測元件來感測第五滾筒的負荷； 使用由所述張力感測元件感測到的所述負荷來估計兩對滾筒之間的所述薄膜間的張力，一對滾筒是所述第一和第二滾筒，另一對滾筒是所述第三和第四滾筒；以及 同步所述第一和第二旋轉元件或所述第三和第四旋轉元件的所述平移速度以均勻地保持所述張力。14.根據權利要求12所述的方法，其進一步包括: 使用張力調節輥來感測第五滾筒上的所述薄膜的張力；以及 同步所述第一和第二旋轉元件或者所述第三和第四旋轉元件的所述平移速度以均勻地保持所述張力。
【專利摘要】本發明涉及用于同步連續輸送納米薄膜的卷對卷傳輸設備的裝置和方法。更具體地，本發明涉及用于同步卷對卷傳輸設備的裝置和方法，所述裝置和方法能夠通過同步設備當以卷對卷方式輸送納米薄膜時防止納米薄膜的變形或損壞。
【IPC分類】B41F33/14, B65H7/02
【公開號】CN105246695
【申請號】CN201380076865
【發明人】蔣捧鈞, 金宰玄, 金光燮, 李學珠
【申請人】韓國機械研究院
【公開日】2016年1月13日
【申請日】2013年12月30日
【公告號】US20160089872, WO2014189192A1