專利名稱：帶有改進幅材傳輸系統的卷對卷沉積設備的制作方法
技術領域：
本發明主要涉及將半導體材料連續沉積在襯底材料的移動幅材上的卷對卷設備。更特別地，本發明涉及包括如下組件的卷對卷系統，所述組件用于隨著襯底材料的豎直布置的細長幅材從其中穿過而支持和引導該幅材的一個末端部分。特別地，本發明涉及一種用于連續生產光電裝置的系統。
背景技術：
已對于半導體結構如光電裝置的大量制造研發出了一些系統和方法。在這樣的工藝中，從放出倉室(payout chamber)通過多個沉積站連續進給一個或更多個襯底材料幅材，其中該襯底材料通常為不銹鋼或復合材料，在沉積站中半導體材料層被相繼沉積在幅材上。然后，被涂覆的幅材纏繞在提取倉室中的卷筒上并被移除以用于進入光電模塊的后續工序。在該類型的具體系統中，隨著襯底材料幅材穿過沉積設備，其保持在豎直方向。例如在美國專利4，423，701和公開的美國專利申請2004/0040506中示出該類型的一些系統，其全部內容包括在此以供參考。在該類型的沉積系統中，幅材傳輸(web transport)和引導為關鍵參數。為了確保高質量半導體層的沉積，必須在運動襯底幅材和沉積系統的活性組件之間保持精確公差。同樣，運動幅材必須沿精確路徑行進通過各個倉室，以便避免能夠危害襯底幅材的完整性或危害沉積系統的沾粘、扭曲或其他變形。所有這些問題都由于以下事實而復雜化，即該類型的沉積系統通常都具有在任何時候都自始至終活躍運動的大約300英尺或更長的襯底幅材長度，并且典型的襯底材料具有每縱尺近似1/4磅的重量。相對重且相對長的襯底能夠引起下垂和扭曲的問題，因為重力趨向于使襯底成為懸鏈線構造，而且這些問題能夠由于設備中的幅材外形變化和幅材的不均勻熱膨脹而被擴大。在該類型的設備中，襯底幅材的傳輸系統也必須被設計成避免與沉積在襯底幅材的活性面上的半導體材料接觸，因為該接觸能夠降低半導體裝置的運行性能。并且最后，襯底傳輸系統也必須被設計成避免襯底幅材彎曲、帶毛刺或其他變形，因為這樣的損壞將阻止被涂覆的襯底材料纏繞在均勻卷筒上。該因素很關鍵，因為卷筒上的任何不均勻性都能夠在后續工序期間損傷敏感的半導體層。在一種現有技術方法中，如在被公開的美國專利申請2006/0278163中所公開的方法，襯底支撐系統包括磁引導組件和許多支撐滾筒，從而將豎直定向的幅材傳送經過沉積系統。專利申請‘163中系統的滾筒引導運動幅材的邊緣并為該運動幅材的邊緣導向。然而，在該類型的系統運行中，已發現能夠因為幅材材料自身中的不規則而產生問題，其中所述不規則是由于幅材制造中的外形變化和/或不均勻熱膨脹引起的變形引起的。由于這樣的變化，運動襯底幅材在任何一個滾筒上施加的力的量可隨著該幅材通過其移動而變化。滾筒和幅材之間過多的力能夠使幅材的邊緣變形，從而產生毛口、起皺或彎曲。滾筒和幅材之間的力減小也能夠成為問題，尤其是如果在幅材運動離開滾筒的情況下尤其如此，因為在沉積倉室中遭遇的高真空、相對高溫條件下，當重新接觸時能夠發生襯底和滾筒的冷焊，引起對幅材和/滾筒的損傷。因此需要一種幅材支撐系統，其能夠可靠運行，并且精確移動相對重且長的襯底材料幅材通過用于光電裝置和其他半導體裝置制造的多級高真空沉積系統類型。任何這樣的系統都應相對簡單并且操作可靠，并且應兼容于高真空、極清潔條件，而且不應將污染物引入系統。如下所述，本發明提供用于連續制備光電和其他半導體裝置的大容量系統，該系統包含改進的幅材傳輸組件。將通過以下附圖、討論和說明使本發明的這些和其他方面以及優點明顯。

發明內容
本發明包含一種連續卷對卷沉積半導體材料如光電材料的系統。本系統包括幅材傳輸件，其移動襯底材料幅材從中通過。幅材傳輸件包括支撐和引導該幅材的改進幅材支撐組件。幅材支撐組件包括基底、主支撐臂和第一偏壓構件，其中主支撐臂樞轉安裝至基底以便可相對于基底從第一位置移置到第二位置，而第一偏壓構件與主支撐臂機械連通。可操作第一偏壓構件從而向第一支撐臂施加第一偏壓力，以便將其從其第一位置移動至其第二位置。幅材支撐組件進一步包括擺動臂，其樞轉安裝在主支撐臂上，以便可相對于主支撐臂從第一位置移置到第二位置。第二偏壓構件與擺動臂機械連通。可操作第二偏壓構件，從而向擺動臂施加第二偏壓力，以便將其從其第一位置移動至其第二位置。幅材支撐組件進一步包括幅材支撐滾筒，其由擺動臂轉動支撐。該滾筒經配置從而嚙合幅材的一部分。在特殊情況下，第一偏壓力比第二偏壓力大。在特別情況下，偏壓構件可為彈簧、彈性體、氣壓缸、磁性裝置、液壓缸及其各種組合。在特殊情況下，第一偏壓構件為在主支撐臂和基底之間延伸的彈簧。在有些情況下，第二偏壓構件可為在擺動臂和主支撐臂之間延伸的彈簧。在特殊情況下，幅材支撐滾筒包括凹槽，其經配置從而嚙合幅材，并且該凹槽在特殊情況下可為不對稱凹槽。在有些情況下，可配置該不對稱凹槽，以便凹槽的兩個面形成90度角。在特殊情況下，配置該凹槽，以便襯底的末端表面不接觸凹槽的基底。


圖I示出本發明的幅材支撐組件的側視圖；圖2示出圖I中的幅材支撐組件的透視圖，其示出與其嚙合的襯底材料幅材；圖3示出圖I中的幅材支撐組件的主支撐臂和擺動臂的透視圖；圖4示出圖I的幅材支撐組件處于下方位置的圖，其上施加了高襯底負荷；圖5示出圖I的幅材支撐組件處于上方位置的圖，其中在襯底上施加低水平的接觸力；以及圖6示出本發明嚙合襯底材料幅材的滾筒的一部分的橫截面圖。
具體實施例方式本發明包含一種卷對卷沉積設備，其包括改進的幅材傳輸系統，后者包括許多幅材支撐組件，可利用所述幅材支撐組件來支撐并且引導襯底材料通過處理系統。在此方面，本發明將在大量這樣的系統中有用，其中材料幅材的傳輸是處理系統的一方面。將關于具體應用描述本發明，其中使用本發明從而在這樣的系統中引導和支撐襯底幅材，該系統用于在連續的卷對卷工藝中大量沉積光電半導體材料。本發明的幅材支撐組件被配置成無論襯底寬度和/或位置如何波動，都保持幅材支撐件的一部分與襯底的邊緣連續接觸。此外，幅材支撐組件被配置成最小化襯底幅材的邊緣和接觸的支撐件之間過度力。在例示性實施例中，幅材支撐組件包括多重偏壓布置，其被配置成將襯底幅材偏壓在第一位置和第二位置之間。在例示性實施例中，多重偏壓布置包括偏壓力轉換區域，其在幅材/支撐件接觸位置具有不連續的接觸力。在例示性實施例中，與幅材支撐件接觸的一部分幅材具有在偏壓力轉換區域中基本為零的偏斜。在例示性實施例中，與沿第二方向在幅材上施加的偏壓力相比，幅材支撐組件沿第一方向以更大的偏壓力偏壓該幅材。 可在許多實施例中實施本發明的系統。將在此示出特別適合在制造光電裝置的設備中使用的一個特殊實施例。在有些實施例中，將利用第一多個幅材支撐組件，從而支撐/引導襯底幅材的第一邊緣，而使用一個或更多個幅材支撐組件從而支撐/引導襯底幅材的第二邊緣。在某些實施例中，多個幅材支撐組件的一部分將被配置成與沿幅材的第一和/或第二邊緣的其他幅材支撐組件不同，例如在結構構造方面、負荷/溫度性能、材料等等方面。然而，應理解，也可實施本發明的其他實施例，并且類似地，本發明的系統和設備可被包含在用于制造各種材料的系統中。應進一步理解，本申請的附圖未按比例繪制；而是按最清晰地圖解在此討論的本公開的原理的方式來繪制附圖。現在參考圖I和圖2，其示出幅材支撐組件10，其依照本發明的實施例被配置。幅材支撐組件10包括基底部分12，其作用為支撐組件的其余部分并且進一步作用為允許組件被安裝至其他結構。基底12，以及幅材支撐組件的其他部分，能夠由能承受對其施加的負荷并且不會使得系統工藝降級的材料來制造。例如，將不期望幅材支撐組件的材料釋放會使得半導體沉積工藝的完整性降級的氣體或其他污染物。在某些實施例中，組件材料包括鋁、低碳鋼或高強度鋼、不銹鋼、高強度塑料及其組合。在本實施例中，除非在此另有說明，大部分組件部件都由鋁制成。主支撐臂14通過樞軸關節16樞轉安裝至基底12，其中樞軸關節16允許主支撐臂14可相對于基底從第一位置移動至第二位置。幅材支撐組件也包括偏壓構件，在該情況下為安裝在基底12和主支撐臂14之間的螺旋彈簧18。螺旋彈簧18操作從而施加試圖將主支撐臂從第一位置移動至第二位置的偏壓力。在許多實施例中，彈簧18將被預載預定量，例如如圖I所示促使主支撐臂向上(例如，第二位置)，從而適合幅材的構造(例如，幾何構造和重量)以及處理系統中的幅材運動參數。雖然圖I中的偏壓實施例由螺旋彈簧18完成，但是也可使用其他的偏壓構件，例如彈性體材料如人造或天然橡膠，從而提供偏壓力。也可使用在本領域已知的其他偏壓機構作為偏壓構件，例如充氣氣壓缸、液壓缸、稱錘、磁性裝置(包括電磁裝置)等等。同樣，雖然示出的彈簧18處于基底12和支撐臂14之間的具體位置，但是應明白，可將其布置在其他位置。例如，可通過關聯樞軸16的螺旋彈簧來實現偏壓。可替換地，偏壓構件不需要與基底產生任何機械連接。例如，可通過在主支撐臂14以及放置本系統的設備的一些其他部分之間延伸的彈簧或彈性體來實現偏壓。圖1-3的幅材支撐組件10進一步包括擺動臂20，其被樞軸支撐在主支撐臂14上，在該情況下為通過樞軸關節22被支撐。在擺動臂20和主支撐臂14之間布置第二螺旋彈簧24，并且其運行從而將擺動臂20偏壓在相對于主支撐臂14的第一和第二位置之間。如上關于第一彈簧18所述，第二彈簧24可以以其他方式被布置；或者，其可包含其他類型的偏壓構件，如彈性體、氣壓缸、液壓缸、稱錘、磁性裝置等等。可轉動地連接擺動臂20(在圖3所示的孔28處)的是支撐滾筒26，其運行從而嚙合襯底材料幅材的邊緣，并且同樣地，其可被開槽或其他方式被配置成有助于其對于幅材的保持。在該實施例中，支撐滾筒主要由非磁性材料、304不銹鋼制成。在可替換實施例中，支撐滾筒能夠包括接觸幅材的陶瓷材料。現在參考圖2，其示出圖I中的幅材支撐組件10的透視圖，其嚙合襯底材料30幅材的一部分。應理解，在典型應用中，襯底材料30包含細長材料幅材；然而，為了簡化的目的，僅在圖2中示出幅材的一部分。另外，配置圖2中所示的幅材支撐組件的實施例，以便能夠獨立引導/支撐兩張幅材，其中每個滾筒都支撐/引導一個幅材獨立于另一幅材-滾 筒的相互作用而在滾筒上運動。為了清晰的目的，僅在圖2中以虛輪廓線示出一張幅材。應理解，雖然僅圖2的一側(一個幅材支撐件)具有附圖標記并且相同側在其他附圖中示出，但是關于以附圖標記表示的部分在此描述的原理也應用于圖2中無附圖標記的其他幅材支撐件。在圖2中，支撐滾筒26已嚙合豎直布置的襯底30的邊緣，并且可看到，滾筒中的凹槽27促進對襯底30的保持。參考圖4，襯底30在滾筒26上施加的重量已壓緊擺動臂20和主支撐臂14之間的第二螺旋彈簧(如圖I中24)。這是因為，在該實施例中，第二彈簧的偏壓力被選擇成比第一彈簧18的偏壓力小，并且足以克服擺動臂和滾筒的重量。在圖2的構造中，第一彈簧18支撐主臂14、擺動臂20和滾筒26以抵抗襯底30的向下施加的力。如果該力因為襯底幅材的變形或其他情況而增大，則彈簧18將吸收進一步向下的力，以防止對幅材的損壞，且同時保持與幅材的良好接觸。在非限制性例子中，能夠由幅材外形變化、熱和動態負載等等引起襯底幅材的變形。例如，如果由滾筒支撐的襯底幅材的底部表面/邊緣的一部分被置于幅材的理論通行線(pass line)以下，則幅材將試圖在滾筒上施加接觸力，從而朝著圖4所示的位置移動滾筒。此處，理論通行線為在以下情況下幅材的底部表面/邊緣的行進線，即如果其完全筆直，或者幅材底部表面通行線未因為部分/幅材外形變化、熱和動負載、運動參數等等而從該線扭曲的情況。在該實施例中，配置第一彈簧，以便不超過滾筒和幅材之間的閾值預定接觸力。閾值接觸力能夠基于變形、幅材/滾筒偏斜、材料屈服等等而被確定。在該實施例中，閾值接觸力基于這樣的預定力，即當幅材被置于通行線以下時，該預定力將不使幅材變形(例如凹進、褶皺等等)超過預定的量。在這點上，圖4示出在向下偏壓位置的組件10的側視圖。在幅材向下的力減小的情況下，彈簧18將向后朝著中立位置偏壓主支撐臂14、關聯的擺動臂20和滾筒26。在以下情況下，幅材向下的力仍減小，即如果移動幅材以便從滾筒升起，例如當幅材的底部表面運動到理論通行線之上時的情況下，如圖2、圖3、圖5所示，則彈簧18將驅使主支撐臂14達到其最大行程；并且在該點上，第二彈簧24將運行從而升起擺動臂20，以便進一步抬升支撐滾筒26，并且因此保持與幅材的邊緣接觸。如上所述，第二彈簧24的偏壓力通常小于第一彈簧18的偏壓力。因此，滾筒施加在幅材上的壓力將小于在完全向下接觸位置的壓力；但是該壓力將足以使兩者保持接觸，并且防止幅材離開滾筒。如下所述，能夠基于處理系統以及襯底幅材的規格來選擇彈簧的偏壓力。在該實施例中，第一和第二彈簧經配置從而當滾筒處于圖4和圖5的滾筒位置之間的力轉換區域時，在滾筒和幅材之間提供不連續的接觸力轉換。在該轉換區域中，存在這樣的位置，其中滾筒的豎直位移基本為零，并且幅材和滾筒之間的力取決于幅材是否朝著通行線之上或之下的方向移動而增大或減小。在上述實施例中，能夠將幅材支撐件視為在以下兩個位置之間偏壓襯底幅材，即類似于圖4所示的理論通行線之下的位置以及類似于圖5所示的高于通行線的另一位置。可以多樣地配置用于接觸和支撐/引導幅材的滾筒。在該實施例中，滾筒包括用于保持襯底和滾筒嚙合的凹槽或一些其他特征。現在參考圖6，其中示出本發明的滾筒26的一部分，其內如圖2所示具有嚙合凹槽27的襯底材料幅材30。在圖6的實施例中，凹槽為不對稱凹槽。換句話說，凹槽的兩個面具有與襯底30的不同接觸角。凹槽具有第一面32，其以第一角A接觸襯底30的第一面或表面的邊緣，第一角A在一些實施例中在5度至45度范圍內。凹槽包括第二面34，其以第二角B接觸襯底30，第二角B在一些實施例中在5度至45度范圍內。在具體情況下，角B比角A大。此外，在實施例中，角A和角B互為余 角；換句話說，兩者相加和為90度。在具體情況下，配置系統以便半導體材料的沉積在襯底30中限定角A的面上發生。可實施其他的角關系和方位。在圖6中也可預見，襯底幅材30的面或末端表面不接觸凹槽的基底。通過滾筒的面32、34和幅材的邊緣或角隅之間的夾卡來建立滾筒26和幅材30之間的接觸。已發現，這種類型的接觸提供良好的幅材支撐/引導，并且進一步防止對襯底的面或末端表面的損壞。在將半導體材料沉積在運動襯底幅材的系統中，其中半導體沉積發生在最接近滾筒面32的幅材面上，發現利用圖6的幾何構造關系具有非常良好的結果。在這點上，按照圖5配置的滾筒非常有效于將襯底30保持與沉積站精確對齊中且同時避免對襯底的損傷。通過上文，本領域技術人員可輕易配置各種支撐組件。組件的精確尺寸和特性將取決于具體應用。如上所述，沉積半導體材料的典型大量連續處理設備可使用這樣的不銹鋼襯底材料，其具有大約1/4磅/縱尺的重量。在一個該類型的系統中，以大約8000英尺長度的盤卷來提供襯底材料，并且在任何一個給定時間，大約279英尺襯底幅材主動運過沉積系統。并且如進一步所述，該系統可包括高達6個幅材，其以基本平行的關系從中運動通過。在該構造中，每個幅材都具有與其關聯的60個支撐件。因此，每個滾筒將平均支撐大約I. 16磅。在該類型的系統中，主彈簧(上文中18)將通常被預加載到大約2. 5至3. 5磅的水平，并且將選擇擺動彈簧(上文中24)以便0.75至I磅的負荷將其壓至如圖4所示的完全向下位置。在使用不同構造的系統和/或襯底幅材的情況下，可相應調整彈簧或其他偏壓構件的偏壓力。已關于本發明的幅材支撐組件支撐和引導豎直布置襯底的底部邊緣的用法對其進行了描述。然而，該類型的組件也可以被設置成嚙合豎直布置襯底的頂部邊緣。在該情況下，可相應調整偏壓力。同樣，也關于支撐組件與鋼襯底的結合使用而對其進行了描述。應理解，可這樣的組件可以被用于支撐其他類型的襯底幅材，包括聚合物襯底、復合襯底、纖維襯底等等。由于在此提出的教導，本領域技術人員應明白本發明的其他更改、變化和實施例。所有這樣的實施例都在本發明的范圍內。附圖、討論和說明僅為例證本發明具體實施例， 而無意對實施進行限制。所附權利要求包括定義本發明的范圍的所有等效物。
權利要求
1.一種在襯底材料幅材上連續沉積半導體材料的卷對卷系統，其中在所述設備的運行時所述襯底材料幅材連續通過其前進，其中所述系統包括多個幅材支撐組件，所述幅材支撐組件隨著所述幅材穿過所述系統而嚙合并且引導所述幅材，每個幅材支撐組件都包含 基底； 主支撐臂，其樞轉安裝在所述基底上以便可相對于所述主支撐臂從第一位置移動至第二位置； 第一偏壓構件，其機械連接所述主支撐臂，所述第一偏壓構件可操作以向所述主支撐臂施加第一偏壓力，以便將所述主支撐臂從其第一位置移至其第二位置； 擺動臂，其樞轉安裝在所述主支撐臂上，以便可相對于所述主支撐臂從第一位置移動至第二位置； 第二偏壓構件，其機械連接所述擺動臂，所述第二偏壓構件可操作以向所述擺動臂施加第二偏壓力，以便將所述擺動臂從其第一位置移至其第二位置；以及 幅材支撐滾筒，其由所述擺動臂可轉動地支撐，所述滾筒經配置從而嚙合所述幅材的一部分。
2.根據權利要求I所述的系統，在所述幅材支撐組件中，所述第一偏壓カ比所述第二偏壓カ更大。
3.根據權利要求I所述的系統，其中在所述幅材支撐組件中，所述第一偏壓構件和所述第二偏壓構件從以下裝置組成的組中選擇彈簧、弾性體、氣壓缸、液壓缸、磁性體及其組合。
4.根據權利要求I所述的系統，其中在所述幅材支撐組件中，所述第一偏壓構件是在所述主支撐臂和所述基底之間延伸的彈簧。
5.根據權利要求I所述的系統，其中在所述幅材支撐組件中，所述第二偏壓構件是在所述擺動臂和所述主支撐臂之間延伸的彈簧。
6.根據權利要求I所述的系統，其中在所述幅材支撐組件中，所述幅材支撐滾筒包括凹槽，其經配置從而嚙合所述幅材的邊緣。
7.根據權利要求6所述的系統，其中所述凹槽為非對稱凹槽。
8.根據權利要求6所述的系統，其中所述凹槽包括第一面和第二面，并且其中所述第一面和所述第二面形成90度角。
9.根據權利要求6所述的系統，其中所述凹槽被配置成使得所述凹槽包括第一面和第ニ面，并且其中所述各面與所述襯底建立夾卡接觸，以便所述襯底的末端表面不接觸所述凹槽的底部。
10.根據權利要求6所述的系統，其中所述滾筒被配置成使得當所述襯底材料幅材被置于所述凹槽之內時，所述凹槽的第一面與所述幅材的第一面形成第一角A，并且所述凹槽的第二面與所述幅材的第二面形成第二角B，并且其中角A與角B不同。
11.根據權利要求10所述的系統，其中角A和角B互余。
12.根據權利要求I所述的系統，其中所述襯底幅材沿豎直方向連續前進通過所述系統，并且其中所述多個襯底支撐組件中的至少ー些嚙合所述幅材的下部邊緣。
13.根據權利要求12所述的系統，其中所述多個襯底支撐組件中的至少ー個嚙合所述幅材的上部邊緣。
14.根據權利要求12所述的系統，其中所述多個襯底支撐組件中的至少ー個與其他幅材支撐組件相比具有不同的構造。
15.根據權利要求I所述的系統，其中在所述系統運行時，多個襯底材料幅材連續通過其前進，并且其中所述幅材支撐組件隨著所述多個幅材穿過所述系統而嚙合和引導所述幅材。
16.根據權利要求15所述的系統，其中所述系統包含第一幅材支撐組件和第二幅材支撐組件，其經配置以便多個幅材中的第一幅材和第二幅材具有間隔開的基本平行關系。
17.根據權利要求16所述的系統，其中所述第一幅材支撐組件的幅材支撐滾筒被配置成關于所述第二幅材支撐組件獨立于所述第二幅材與滾筒的交互作用而支撐/引導所述第一幅材。
18.根據權利要求17所述的系統，其中所述第一和第二幅材支撐組件連結到公共的基/ 。
19.根據權利要求I所述的系統，其中所述系統可操作以在所述襯底材料幅材上沉積光電半導體材料。
20.一種在襯底材料幅材上連續沉積半導體材料的卷對卷系統，其中在所述設備運行時，所述襯底材料幅材連續通過其向前，其中所述系統包括多個幅材支撐組件，所述幅材支撐組件隨著所述幅材穿過所述系統而嚙合并且引導所述幅材，每個幅材支撐組件都包含多重偏壓布置，所述多重偏壓布置被配置成以第一偏壓カ沿第一方向偏壓所述幅材的ー個表面，并且以第二偏壓カ沿第二方向偏壓所述幅材的該表面，所述第二方向基本與所述第一方向相反。
21.根據權利要求16所述的幅材支撐組件，其中所述多重偏壓布置被配置成在幅材第一位置和幅材第二位置之間具有偏壓カ轉換區域，其中所述幅材在所述偏壓カ轉換區域內具有基本為零的偏斜。
22.根據權利要求16所述的幅材支撐組件，其中所述多重偏壓布置沿所述第一方向、以與沿所述第二方向在所述幅材上施加的偏壓カ相比更大的力偏壓所述幅材的所述表面。
23.根據權利要求18所述的幅材支撐組件，其進ー步包含滾筒，其中沿所述第一方向的所述第一偏壓カ將幅材的運動反作用至所述滾筒，并且隨著所述幅材離開所述滾筒，沿所述第二方向的所述第二偏壓カ用于保持所述滾筒和所述幅材之間的接觸。
24.根據權利要求16所述的幅材支撐組件，其中所述偏壓布置包括螺旋彈簧。
全文摘要
一種在一個或更多通過其往前的襯底材料幅材上連續沉積半導體材料的系統，其包括具有多個幅材支撐組件的幅材傳輸系統。每個幅材支撐組件都包括基底，其具有樞轉安裝在其上的主支撐臂，以便可從第一位置移置到第二位置。該支撐包括第一偏壓構件，其機械連接主支撐臂。第一偏壓構件運行，從而向主支撐臂施加第一偏壓力，以便將其從其第一位置移至其第二位置。該支撐包括擺動臂，其樞轉安裝于主支撐臂，以便可相對于主支撐臂從第一位置移置到第二位置。本系統進一步包括第二偏壓構件，其機械連接擺動臂。第二偏壓構件運行，從而向擺動臂施加第二偏壓力，從而將其從其第一位置移至其第二位置。滾筒可轉動地安裝在擺動臂上。滾筒被配置成嚙合幅材的一部分。幅材支撐組件運行，從而隨著襯底材料幅材穿過沉積系統而在滾筒和移動的襯底材料幅材之間保持連續接觸。
文檔編號H01L31/18GK102804406SQ201080024684
公開日2012年11月28日 申請日期2010年4月1日 優先權日2009年4月3日
發明者M·里賽特, J·多奇勒, J·布里斯 申請人:聯合太陽能奧佛有限公司