一種鍍膜基板及所得的產品的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種顯示器件用板材，尤其涉及一種鍍膜基板及所得的產品。鍍膜基板包括基片、依次貼合在基片表面上的過渡膜層和保護膜層，所述的基片是光學玻璃基片或光學塑料基片；所述的過渡膜層是交替鍍制的一層或多層SiOx、TiO2、Nb2O5和/或Ta2O5層，其中X是0～2的整數，所述的保護膜層是類金剛石膜層。本基板具備膜層附著力強，其整體表面硬度高、疏水防污性能好、防指紋、抗菌的特點。
【專利說明】一種鍍膜基板及所得的產品
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種顯示器件【技術領域】，尤其涉及一種鍍膜基板及所得的產品。
【背景技術】
[0002]1971年德國的Aisenberg和Chabot采用碳離子束首次制備出了具有金剛石特征的非晶態碳膜，由于所制備的薄膜具有與金剛石相似的性能，Aisenberg于1973年首次把它稱之為類金剛鉆石(DLC)膜。類金剛鉆石膜有著和金剛石幾乎一樣的性質，如高硬度、耐磨損、高表面光潔度、高電阻率、優良的場發射性能，高透光率及化學惰性等，它的產品廣泛應用在機械、電子、微電子機械系統(MEMS)、光學和生物醫學等各個領域。類金剛鉆石膜的沉積溫度低、表面平滑，具有比金剛石膜更高的性價比，且在相當廣泛的領域內可以代替金剛鉆石膜，所以自80年代以來一直是研究的熱點。類金剛鉆石(DLC)的低摩擦系數和高耐磨性使類金剛鉆石薄膜已在切削工具、磁存儲、人工關節等領域得到應用。無色透明的類金剛鉆石膜可以在保證光學組件的光學性能的同時，明顯地改善其耐磨性和抗蝕性，現在已被應用于光學透鏡的保護膜，光盤保護膜、手表表面的保護膜、眼鏡片(玻璃、樹脂)保護膜以及汽車擋風玻璃保護膜等。另一光學性質是其紅外增透保護特性，即它不僅具有紅外增透作用，又有保護基底材料的功能，可作為紅外區的增透和保護膜。現有技術直接把類金剛石膜鍍到基片上，存在鍍膜不牢靠，或者整體膜層的光學性能差，可見光譜380?700nm透過率低的問題。
實用新型內容
[0003]針對現有技術的膜層存在鍍膜附著力差、表面硬度不高，可見光譜380?700nm透過率低的問題，本實用新型提供一種附著力強，抗劃傷性能高，高疏水防污，防指紋，抗菌的鍍膜基板。
[0004]為解決上述技術問題，本實用新型提供的技術方案是:一種鍍膜基板，包括基片、依次貼合在基片表面上的過渡膜層和保護膜層，所述的基片是玻璃基片或光學塑料基片；所述的過渡膜層是交替鍍制的一層或多層S1x、T12, Nb2O5和/或Ta2O5層，其中X是O?2的整數，所述的保護膜層是類金剛石膜層。
[0005]進一步:在上述鍍膜基板中，所述的光學塑料基片優選的是聚甲基丙烯酸甲酯PMMA基片、聚碳酸酯片PC LENS基片和聚對苯二甲酸乙二醇酯PET基片中的一種。所述的過渡膜層是I?8層；所述的過渡膜層的厚度是I?1000納米。所述的過渡膜層優選的厚度是5?500納米。所述的類金剛石膜層是5?500納米。所述的光學類金剛石膜層的硬度8?30GPa。所述的過渡膜層和光學類金剛石膜層的厚度是特定的1/4波長光學厚度整數倍或非規整光學厚度，以形成光學功能膜系。
[0006]本實用新型還提供了一種手機屏，它包括上述鍍膜基板。
[0007]本實用新型還提供了一種電腦屏，它包括上述鍍膜基板。
[0008]本實用新型還提供了一種電視機屏，它包括上述鍍膜基板。
[0009]類金剛石簡稱DLC，它是無定形碳中含Sp3鍵的亞穩態結構，在金剛石中，碳原子以Sp3鍵結合，在石墨中碳原子以Sp2鍵合，在DLC中，有sp3、sp2兩種鍵合形式，因而類金剛石膜的結構和性能介于金剛石和石墨之間。目前，類金剛石膜層的制備方法很多，如離子束沉積(IBD)、濺射沉積、射頻CVD(RFCVD)、磁過濾陰極弧沉積(FCVA)、脈沖激光沉積等物理氣相沉積和直流CVD (DCCff)、電子束蒸發CVD、微波CVD (ECRCVD)等化學氣相沉積。類金剛石的性能與類金剛石SP3鍵SP2與鍵的含量密切相關。通過控制制備類金剛石薄膜的工藝條件，可以控制薄膜中SP3鍵與SP2鍵的含量。類金剛鉆石薄膜層(DLC)可以由等離子體輔助化學氣相沉積(PACVD)、等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)、脈沖真空弧光等離子體沉積等技術沉積制備。在這些方法中，等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)方法具有沉積溫度低，繞鍍性好，制備的薄膜均勻致密等諸多特點而成為最常用的方法。
[0010]與現有技術相比，本實用新型的鍍膜基板，包括基片、依次貼合在基片表面上的過渡膜層和保護膜層，所述的基片是玻璃基片或光學塑料基片；所述的過渡膜層是交替鍍制的一層或多層Si0x、Ti02和Ta2O5Jb2O5層，其中X是O?2的整數，所述的保護膜層是類金剛石膜層。本實用新型的過渡膜層是交替鍍制的一層或多層Si0x、Ti02、Nb205和/或Ta2O5層，這些物質的化學性能很穩定，又可以同金剛石膜層一起，通過調整膜光學厚度，制成具有減反射膜系，和高反射膜系的功能膜層；另外，光學塑料基片優選的是聚甲基丙烯酸甲酯PMMA基片、聚碳酸酯片PC LENS基片和聚對苯二甲酸乙二醇酯PET基片中的一種，這些光學塑料的重量密度只有只是玻璃50%，這樣也大大減輕了整個基板的重量。本實用新型的基板類金剛石膜層的硬度大于，它們用到手機屏、電腦屏和電視機屏等方面后，光學性能大提高、屏的硬度、強度，耐腐蝕、耐劃痕的性能也大大提高。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0011]附圖1是本實用新型實施方式一基板的結構簡圖；
[0012]附圖2是本實用新型實施方式二的基板結構簡圖；
[0013]附圖3是本實用新型實施方式三的基板結構簡圖；
[0014]其中I基片、2過渡膜層、3保護膜層。
具體實施方案
[0015]參照附圖1-3及本實用新型實施方式來進一步說明本實用新型。
[0016]實施方式一:一種鍍膜基板，包括基片1、依次貼合在基片表面上的過渡膜層2和保護膜層3，所述的基片是玻璃基片或光學塑料基片；所述的過渡膜層是一層S1x或T12或Nb2O5或Ta2O5層，其中X是O?2的整數，所述的保護膜層是類金剛石膜層。所述的光學塑料基片優選的是聚甲基丙烯酸甲酯PMMA基片、聚碳酸酯片PC LENS基片和聚對苯二甲酸乙二醇酯PET基片中的一種。所述的光學類金剛石膜層的硬度是維氏硬度8?30GPa。
[0017]實施方式二:與實施方式一的區別在于所述的過渡膜層是交替鍍制的多層S1x、Ta2O5,Nb2O5層,形成光學功能膜系。
[0018]實施方式三:與實施方式一的區別在于所述的過渡膜層是交替鍍制的多層S1x、T12 Ta2O5和Nb2O5層，形成光學功能膜系。
[0019]實施方式四:在實施方式三或四的基礎上，所述的過渡膜層總層數不超過8層。
[0020]實施方式五:一種手機觸摸屏，該手寫觸摸及顯示屏包括實施方式一至三的基板。該屏硬度和強度高，耐腐蝕、耐劃痕的性能好。
[0021]實施方式六:一種電腦觸摸屏，通常含鋼化玻璃材質的基板，所述鋼化玻璃材質的基板即為本實施方式一至三的基板。該屏硬度和強度高，耐腐蝕、耐劃痕性能好。
[0022]實施方式七:一種液晶電視，包括本實用新型的電視機顯示屏，所述的電視機顯示屏包括實施方式一至三的鍍膜基板。該屏硬度和強度高、耐腐蝕、耐劃痕性能好。
[0023]以上所述為本實用新型的較佳實施例，在不脫離本實用新型構思情況下，進行任何顯而易見的變形和替換，均屬本實用新型保護范圍。
【權利要求】
1.一種鍍膜基板，包括基片(I)、依次貼合在基片表面上的過渡膜層(2)和保護膜層(3)，其特征在于:所述的基片是玻璃基片或光學塑料基片；所述的過渡膜層是交替鍍制的一層或多層Si0x、Ti02、Nb205和/或Ta2O5層，其中X是O?2的整數，所述的保護膜層是光學類金剛石膜層。
2.根據權利要求1所述的鍍膜基板，其特征在于:所述的光學塑料基片是聚甲基丙烯酸甲酯PMMA基片、聚碳酸酯片PC LENS基片和聚對苯二甲酸乙二醇酯PET基片中的一種。
3.根據權利要求2所述的鍍膜基板，其特征在于:所述的過渡膜層是I?8層；所述的過渡膜層的厚度是5?1000納米。
4.根據權利要求3所述的鍍膜基板，其特征在于:所述的過渡膜層厚度是5?500納米。
5.根據權利要求4所述的鍍膜基板，其特征在于:所述的光學類金剛石膜層是5?500納米。
6.根據權利要求5所述的鍍膜基板，其特征在于:所述的光學類金剛石膜層的硬度是維氏硬度8?30GPa。
7.根據權利要求6所述的鍍膜基板，其特征在于:所述的過渡膜層和光學類金剛石膜層的厚度是特定的1/4波長光學厚度整數倍或非規整光學厚度。
8.—種手機顯不屏,其特征在于:它包括權利要求1-7中任意一項鍍膜基板。
9.一種電腦顯不屏,其特征在于:它包括權利要求1-7中任意一項鍍膜基板。
10.一種電視機顯不屏，其特征在于:它包括權利要求1-7中任意一項鍍膜基板。
【文檔編號】B32B27/06GK204149628SQ201420564273
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2014年9月28日 優先權日:2014年9月28日
【發明者】蔣紹洪, 李玉成 申請人:惠州市萊特爾納米涂層科技有限公司