一種真空離子鍍膜用智能送氣裝置的制造方法
【專利摘要】一種真空離子鍍膜用智能送氣裝置,包括混氣室,所述混氣室底端連接有若干進氣裝置,所述進氣裝置包括第一氣瓶和第二氣瓶,所述第一氣瓶和第二氣瓶均通過進氣管與混氣室相連通,所述第一氣瓶與進氣管的連接處設有第一電磁閥,第二氣瓶與進氣管的連接處設有第二電磁閥,第一電磁閥和第二電磁閥的內部均設置有壓力傳感器,第一電磁閥和第二電磁閥均電連接控制裝置;所述混氣室下部設有轉軸,所述轉軸上對稱設有兩個扇葉,所述扇葉上開設有若干小孔。本實用新型的有益效果是通過第一氣瓶和第二氣瓶的自動切換,保證了真空鍍膜設備用氣的穩定性,避免了由于氣瓶內氣體容量或氣壓過低而對鍍膜質量帶來的不利影響。
【專利說明】
一種真空離子鍍膜用智能送氣裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及鍍膜技術領域,具體涉及一種真空離子鍍膜用智能送氣裝置。
【背景技術】
[0002]真空離子鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法,通過等離子體促進化學合成反應,在產品表面做改性的技術。隨著真空離子鍍膜產品的精度、鏡面級別、顏色Lab值的要求越來越高甚至苛刻,除了離化源、電源、真空抽氣系統、自動控制外,送氣系統也同樣嚴重的影響了產品的穩定性和均勻性。真空鍍膜裝置中設置有氣管,用以輸送工作氣體和反應氣體于鍍膜室中,現有技術中對于氣體的輸送大多采用單獨的閥門和管道進行控制,使得其沒有進行預混和,導致其作用效果較差;此外,當單個氣瓶內的氣體耗盡或氣體壓力低于供氣標準時,就需要人工更換氣瓶,更換過程中會影響整個鍍膜的穩定性,現有進氣裝置的自動化程度較低。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型的目的在于提供一種真空離子鍍膜用智能送氣裝置,以解決上述【背景技術】中提出的問題。
[0004]為實現上述目的,本實用新型提供如下技術方案:
[0005]—種真空離子鍍膜用智能送氣裝置,包括混氣室,所述混氣室底端連接有若干進氣裝置,所述進氣裝置包括第一氣瓶和第二氣瓶,所述第一氣瓶和第二氣瓶均通過進氣管與混氣室相連通,所述第一氣瓶與進氣管的連接處設有第一電磁閥,第二氣瓶與進氣管的連接處設有第二電磁閥,第一電磁閥和第二電磁閥的內部均設置有壓力傳感器,第一電磁閥和第二電磁閥均電連接控制裝置;所述混氣室下部設有轉軸,所述轉軸上對稱設有兩個扇葉,所述扇葉上開設有若干小孔;所述扇葉上方設有兩塊右擋板和兩塊左擋板,所述右擋板的右端與混氣室固定連接,右擋板的左端與混氣室的左側壁之間留有氣體通道,所述左擋板的左端與混氣室固定連接,左擋板的右端與混氣室的左側壁之間留有氣體通道,所述右擋板和左擋板交錯設置;所述混氣室的頂部設有出氣口。
[0006]作為本實用新型進一步的方案:所述轉軸與位于混氣室底部的電機相連接。
[0007]作為本實用新型再進一步的方案:所述出氣口處設有若干出氣管,所述出氣管上設有出氣控制閥。
[0008]作為本實用新型再進一步的方案:所述出氣管設有四根。
[0009]本實用新型的有益效果是通過第一氣瓶和第二氣瓶的自動切換,保證了真空鍍膜設備用氣的穩定性,避免了由于氣瓶內氣體容量或氣壓過低而對鍍膜質量帶來的不利影響,自動化程度高;電機帶動扇葉轉動,對進入到混氣室內的氣體進行擾亂,部分氣體從扇葉上的小孔穿過,氣體形成紊流,混合效果更好;右擋板和左擋板的設置使得氣體在混氣室內的運動路徑延長,充分氣體的混合效果進一步提升。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實用新型的結構示意圖。
[0011]圖中:1_混氣室、2-進氣管、3-第一電磁閥、4-第一氣瓶、5-第二電磁閥、6-第二氣瓶、7-電機、8-轉軸、9-扇葉、10-小孔、11-右擋板、12-左擋板、13-氣體通道、14-出氣口、15-出氣管、16-出氣控制閥。
【具體實施方式】
[0012]下面將結合本實用新型實施例中的附圖,對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例,本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。
[0013]請參閱圖1,本實用新型實施例中,一種真空離子鍍膜用智能送氣裝置,包括混氣室I,所述混氣室I左端連接有若干進氣裝置,所述進氣裝置包括第一氣瓶4和第二氣瓶6,所述第一氣瓶4和第二氣瓶6均通過進氣管2與混氣室I相連通,所述第一氣瓶4與進氣管2的連接處設有第一電磁閥3,第二氣瓶6與進氣管2的連接處設有第二電磁閥5,第一電磁閥3和第二電磁閥5的內部均設置有壓力傳感器,第一電磁閥3和第二電磁閥5均電連接控制裝置,工作時,設置第一電磁閥3先開啟,第一氣瓶4向真空鍍膜設備供氣,工作一段時間后,當第一電磁閥3內的壓力傳感器檢測到第一氣瓶4內氣體不足,氣壓偏低時,控制裝置發出指令,關閉第一電磁閥3,開啟第二電磁閥5,供氣裝置自動切換到第二氣瓶6供氣,而后一段時間操作工人可將第一氣瓶3更換為充滿氣體的新氣瓶,從而有效地保證了一定工作時間內用氣的穩定,有利于提尚鏈I旲質量;
[0014]所述混氣室I下部設有轉軸8,所述轉軸8與位于混氣室I底部的電機7相連接,所述轉軸8上對稱設有兩個扇葉9,所述扇葉9上開設有若干小孔10,電機7帶動扇葉9轉動,對進入到混氣室I內的氣體進行擾亂,部分氣體從扇葉9上的小孔穿過,氣體形成紊流,混合效果更好;
[0015]所述扇葉9上方設有兩塊右擋板11和兩塊左擋板12,所述右擋板11的右端與混氣室I固定連接,右擋板11的左端與混氣室I的左側壁之間留有氣體通道13,所述左擋板12的左端與混氣室I固定連接,左擋板12的右端與混氣室I的左側壁之間留有氣體通道13,所述右擋板11和左擋板12交錯設置;所述混氣室I的頂部設有出氣口 14,右擋板11和左擋板12的設置使得氣體在混氣室I內的運動路徑延長,充分氣體的混合效果進一步提升。
[0016]所述出氣口14處設有若干出氣管15,所述出氣管15上設有出氣控制閥16,所述出氣管15設有四根。
[0017]本實用新型的工作過程是:工作時,設置第一電磁閥3先開啟,第一氣瓶4向真空鍍膜設備供氣,工作一段時間后,當第一電磁閥3內的壓力傳感器檢測到第一氣瓶4內氣體不足,氣壓偏低時,控制裝置發出指令,關閉第一電磁閥3,開啟第二電磁閥5,供氣裝置自動切換到第二氣瓶6供氣,而后一段時間操作工人可將第一氣瓶3更換為充滿氣體的新氣瓶,從而有效地保證了一定工作時間內用氣的穩定,有利于提高鍍膜質量;電機7帶動扇葉9轉動,對進入到混氣室I內的氣體進行擾亂,部分氣體從扇葉9上的小孔穿過,氣體形成紊流,混合效果更好;右擋板11和左擋板12的設置使得氣體在混氣室I內的運動路徑延長,充分氣體的混合效果進一步提升。
[0018]對于本領域技術人員而言,顯然本實用新型不限于上述示范性實施例的細節,而且在不背離本實用新型的精神或基本特征的情況下,能夠以其他的具體形式實現本實用新型。因此,無論從哪一點來看,均應將實施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本實用新型的范圍由所附權利要求而不是上述說明限定,因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內的所有變化囊括在本實用新型內。不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。
[0019]此外,應當理解,雖然本說明書按照實施方式加以描述,但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術方案,說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見,本領域技術人員應當將說明書作為一個整體,各實施例中的技術方案也可以經適當組合,形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。
【主權項】
1.一種真空離子鍍膜用智能送氣裝置,包括混氣室,其特征在于,所述混氣室底端連接有若干進氣裝置,所述進氣裝置包括第一氣瓶和第二氣瓶,所述第一氣瓶和第二氣瓶均通過進氣管與混氣室相連通,所述第一氣瓶與進氣管的連接處設有第一電磁閥,第二氣瓶與進氣管的連接處設有第二電磁閥,第一電磁閥和第二電磁閥的內部均設置有壓力傳感器,第一電磁閥和第二電磁閥均電連接控制裝置;所述混氣室下部設有轉軸,所述轉軸上對稱設有兩個扇葉,所述扇葉上開設有若干小孔;所述扇葉上方設有兩塊右擋板和兩塊左擋板,所述右擋板的右端與混氣室固定連接,右擋板的左端與混氣室的左側壁之間留有氣體通道,所述左擋板的左端與混氣室固定連接,左擋板的右端與混氣室的左側壁之間留有氣體通道,所述右擋板和左擋板交錯設置;所述混氣室的頂部設有出氣口。2.根據權利要求1所述的一種真空離子鍍膜用智能送氣裝置,其特征在于,所述轉軸與位于混氣室底部的電機相連接。3.根據權利要求1所述的一種真空離子鍍膜用智能送氣裝置,其特征在于,所述出氣口處設有若干出氣管,所述出氣管上設有出氣控制閥。4.根據權利要求3所述的一種真空離子鍍膜用智能送氣裝置,其特征在于,所述出氣管設有四根。
【文檔編號】C23C16/455GK205504473SQ201620047797
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年1月19日
【發明人】劉玉杰
【申請人】天津涂冠科技有限公司