包括有機材料掩模的層壓體以及使用其的有機發光裝置的制造方法
【技術領域】
[0001 ] 本申請要求享有于2013年8月19日向韓國專利局提交的第10-號韓國專利申請的優先權和益處，該韓國專利申請的全部內容以引用的方式納入本文。
[0002]本申請涉及一種包括有機材料掩模的層壓體(laminate)以及一種使用其的有機發光裝置的制備方法。
【背景技術】
[0003]—般而言，為了形成圖案層，通過沉積、旋轉涂布或類似方法形成薄膜，然后通過光掩蔽過程間接形成圖案，或者將待要形成的圖案直接印刷在基板上。
[0004]同時，近來，在需要不使用光敏掩模的大面積的半導體裝置或顯示裝置的制備過程中，為了便于進行該制備過程，已經使用陰影掩模(shadowmask)，該陰影掩模僅通過制備掩模即可同時形成膜和圖案。
[0005]為了圖案化，在基板上預定位置處需存在對準掩模，并且在布置了該對準掩模以及布置了掩模的對準孔的位置之后，執行圖案化過程。
[0006]在圖案化過程之前，作為掩模和基板的對準標準的對準掩模單獨形成在基板上，且一般而言，金屬層被沉積且然后通過光刻法圖案化成交叉、圓形以及方形形狀，且作為另一種方法，該對準掩模通過印刷油墨或直接通過激光形成在基板上。
[0007]也就是說，存在的一個問題在于，除了形成多層結構的現有過程之外，還添加形成對準掩模的附加過程。

【發明內容】

[0008]技術問題
[0009]本發明的目的是提供一種具有改進的工藝特性、包括有機材料掩模的層壓體以及一種使用其的有機發光裝置的制備方法。
[0010]技術方案
[0011 ]本發明的一個示例性實施方案提供一種層壓體，其包括:一個基板；以及一個掩模，該掩模設置在該基板上并且包括有機材料。
[0012]本發明的另一個示例性實施方案提供一種用于制備有機發光裝置的方法，包括:通過使用該層壓體形成第一電極、有機材料層和第二電極中的一個或多個。
[0013]有益效果
[0014]根據本發明的一個示例性實施方案，由于在有機材料等沉積在基板上的過程期間在真空蒸發器中不需要對準系統且物流系統(logistics system)的重量可以降低，因此通過印刷方法將有機材料直接形成在基板上可以降低該工藝的成本。另外，不同于現有技術，由于在有機材料掩膜被附接至基板上的同時基板可以移動，因此當基板移動時不會發生掩膜變形的問題。因此，本發明可以更優選地應用在使用大基板時，且更優選地應用在輥對輥(roll-to-roll)系統中。
【附圖說明】
[0015]圖1是示意性地例示現有技術中使用陰影掩模的沉積過程系統的簡圖。
[0016]圖2是示意性地例示根據本發明的一個示例性實施方案的包括陰影掩模的層壓體的簡圖。
[0017]10:基板保持器
[0018]20:基板
[0019]30:有機材料掩模
[0020]40:陰影掩模
[0021]50:陰影掩模托盤
【具體實施方式】
[0022]在下文中，將更詳細地描述本發明。
[0023]圖1示意性地例示現有技術中使用陰影掩模的沉積過程系統。如圖1中所例示的，現有技術中使用陰影掩模的沉積過程系統使用如下一個系統，在該系統中，基板20被附接至基板保持器10，并且陰影掩模40被附接至陰影掩模托盤50。
[0024]在現有技術中，為了將有機材料沉積在基板上的必要部分上，使用了陰影掩膜。在此情況下，基板與陰影掩膜之間的對準非常重要并且需要被精確控制。也就是說，需要一個在真空蒸發器中將基板和陰影掩膜對準的對準系統。
[0025]此外，需要附接基板的基板保持器以及附接陰影掩模的陰影掩模托盤，并且存在一個問題在于，隨著基板的尺寸增加，過程系統的重量增加。因此，為了基板與陰影掩膜之間的對準的精確度，必須克服基板和/或陰影掩膜的下垂(sagging)現象。
[0026]此外，在現有技術中，因為當陰影掩膜系統移動時可能產生由于真空等造成的對準失真，因此在本領域中需要改進使用陰影掩模系統的沉積過程。
[0027]因此，根據本發明的一個示例性實施方案的層壓體包括基板以及掩模，該掩模設置在該基板上并且包括有機材料。
[0028]在本發明中，在將有機材料等沉積在基板上的過程中，在不使用單獨的陰影掩模系統的情況下，直接將有機材料掩模設置在基板上。也就是說，設置在基板上的有機材料掩膜可以起陰影掩模的作用。
[0029]在本發明的示例性實施方案中，可以根據本發明的層壓體所應用的領域來適當地選擇基板的材料，且作為一個優選實施例，材料包括玻璃、無機材料基板、塑料基板、其他柔性基板等，但材料不限于此。
[0030]在本發明的示例性實施方案中，可以通過印刷方法在基板上形成有機材料掩模。更詳細地，可以通過轉移并然后燒制按期望圖案形狀形成基板上的有機材料掩膜的材料來執行印刷方法。轉移方法不被特別地限制，但圖案形成在圖案轉移介質(諸如，凹版或絲網)上，并且可以通過使用已形成的圖案將期望的圖案轉移到傳導層上。在圖案轉移介質上形成圖案形狀的方法可以使用本領域已知的方法。
[0031]印刷方法不被特別地限制，并且可以使用的印刷方法是，諸如，膠版印刷、反轉膠版印刷、絲網印刷、凹版印刷等。可以通過如下步驟執行膠版印刷:首先，在將膏(paste)填充在刻有圖案的凹版內之后將膏轉移至被稱為毯狀層(blanket)的硅橡膠，然后其次通過使該毯狀層和基板接觸來轉移膏。可以通過如下步驟執行絲網印刷:將膏安置在具有圖案的絲網上，并且在按壓刮板時，借由中空絲網將膏直接安置在基板上。可以通過如下步驟執行凹版印刷:將刻有圖案的毯狀層纏繞在輥上，將膏填充在圖案中，然后將所填充的膏轉移至基板上。在本發明中，可以單獨地或組合地使用所述方法。此外，還可以使用本領域技術人員已知的其他印刷方法。
[0032]在凹版膠印方法或反轉膠版印刷方法的情況中，因為由于毯狀層的脫模(release)特性造成大部分油墨或膏被轉移至基板上，所以無需單獨的越狀層清潔過程。可以通過精確地蝕刻基板來制備凹版。可以通過蝕刻金屬板或通過光學圖案化聚合樹脂來制備凹版。
[0033]可以形成有機材料掩模的材料可以使用本領域已知的材料，條件是該材料是可以通過印刷方法形成掩模的材料，且該材料不被特別地限制。更詳細地，有機材料掩模可以包括聚酰亞胺、聚乙烯和聚氯乙烯等中的一種或多種，但不被限制于此。
[0034]圖2中例示根據本發明的示例性實施方案的層壓體的一個詳細實施例。根據圖2，根據本發明的示例性實施方案的層壓體包括基板20以及掩模30，該掩膜設置在基板20上并且包括有機材料。
[0035]包括有機材料的掩模可以具有圖案形狀，并且其具有的形狀可以具有反向錐度角，但形狀不被限制于此。可以通過兩個或更多個印刷過程制備具有反向錐度角的形狀，但不被限制于此。
[0036]此外，根據本發明的實施方案的用于制備有機發光二極管的方法包括通過使用層壓體形成第一電極、有機材料層和第二電極中的一個或多個。
[0037]更詳細地，根據本發明的實施方案的用于制備有機發光二極管的方法包括在基板上形成包括有機材料的掩模。由于形成有機材料的材料的方法和形成包括該有機材料的掩膜的方法與上文描述的相同，因此將省略其詳細描述。
[0038]在本發明的示例性實施方案中，該方法可以包括通過沉積過程在包括基板和掩模的層壓體上形成第一電極、有機材料層和第二電極。在通過形成第一電極、有機材料層以及第二電極的過程中的沉積過程形成第一電極、有機材料層或第二電極的過程中，可以使用包括基板和掩模的層壓體。
[0039]在本發明的示例性實施方案中，該方法還可以包括在形成第一電極、有機材料層和第二電極中的一個或多個之后，去除包括有機材料的掩模。
[0040]例如，在通過沉積過程在包括基板和掩模的層壓體上形成第一電極、有機材料層和第二電極之后，可以去除包括有機材料的掩模。
[0041]去除包括有機材料的掩模的方法可以使用本領域已知的方法，并且更詳細地，使用膜分層(filmdelaminat1n)方法，但不被限制于此。
[0042]在本發明的示例性實施方案中，在通過沉積過程在包括基板和掩模的層壓體上形成第一電極之后，可以去除包括有機材料的掩模。之后，通過使用本領域已知的方法在第一電極上順序地形成有機材料層和第二電極。
[0043]第一電極可以由選自鎂、鈣、鈉、鉀、鈦、銦、釔、鋰、釓、鋁、鉑、金、鎢、鉭、銅、銀、錫以及鉛的一種或多種形成。
[0044]此外，第一電極可以由透明導電氧化物形成。在此，透明導電氧化物可以是選自銦(111)、錫(511)、鋅(211)、鎵(6&)、鈰((^)、鎘(0(1)、鎂(1%)、鈹(86)、銀(厶8)、鉬(10)、釩(￥)、銅(&1)、銥(10、銠(肋)、釕(1?11)、鎢(￥)、鈷((:0)、鎳(附)、錳(111)、鋁(厶1)以及鑭(1^)中的至少一種的氧化物。
[0045 ]可以通過使用如下方法形成第一電極:選自派射法(Sputtering)、電子束蒸發法(E-beamevaporat1n)、熱蒸發法(Thermal evaporat1n)、激光分子束外延法(LaserMolecular Beam Epitaxy，L_MBE)以及脈沖激