本發明涉(she)及鋰電(dian)池,尤其涉(she)及一種(zhong)輕質復(fu)合集流(liu)體(ti)及其制備(bei)方法。
背景技術:
1、復合集(ji)(ji)流(liu)體是一種高分子(zi)材料(liao)和(he)金(jin)屬(shu)(shu)復合的(de)(de)新型集(ji)(ji)流(liu)體材料(liao),在(zai)電池中(zhong)用來匯(hui)聚(ju)電流(liu),其結構類為(wei)“三明治”結構,中(zhong)間(jian)為(wei)塑料(liao)薄(bo)膜(mo)層(ceng),在(zai)塑料(liao)薄(bo)膜(mo)層(ceng)厚(hou)度方向具(ju)(ju)有(you)(you)兩個表面(mian)(mian),在(zai)該兩個表面(mian)(mian)上具(ju)(ju)有(you)(you)金(jin)屬(shu)(shu)層(ceng),復合集(ji)(ji)流(liu)體與傳(chuan)統的(de)(de)純金(jin)屬(shu)(shu)集(ji)(ji)流(liu)體相比,在(zai)安(an)全性和(he)潛在(zai)的(de)(de)成本效益方面(mian)(mian)具(ju)(ju)有(you)(you)優勢。
2、然而,當前廠(chang)商生產的(de)復合集流體的(de)金(jin)屬(shu)(shu)層表面微觀結構較(jiao)為(wei)光滑,金(jin)屬(shu)(shu)顆粒(li)相互結合力(li)不夠,導(dao)致鍍上(shang)的(de)金(jin)屬(shu)(shu)容(rong)易脫落,從(cong)而影響電池性(xing)能。
技術實現思路
1、鑒于(yu)上(shang)述現有技術的(de)不(bu)足,本發(fa)明(ming)的(de)目的(de)在于(yu)提(ti)供一種輕質復合(he)集流體及其制備方(fang)法(fa),旨在解決復合(he)集流體中金屬(shu)層容易(yi)脫落的(de)問題,提(ti)高復合(he)集流體的(de)導電性(xing)能。
2、為了達到上述目的,本發明采取了以下(xia)技術方案:
3、本發(fa)明提供一(yi)種輕質復合集流體,其包括支(zhi)撐(cheng)層,所(suo)述(shu)支(zhi)撐(cheng)層的上下表面均設(she)置有金屬(shu)涂層,所(suo)述(shu)金屬(shu)涂層一(yi)次成型的形成在(zai)所(suo)述(shu)支(zhi)撐(cheng)層上,所(suo)述(shu)金屬(shu)涂層的厚度為500nm-1500nm。
4、在一個實施例中,所述金屬涂層的厚度為(wei)1um。
5、在一(yi)個實施例中,所述(shu)金屬涂層的顆(ke)粒(li)為一(yi)次(ci)成型的柱狀(zhuang)顆(ke)粒(li),且至(zhi)少部分所述(shu)柱狀(zhuang)顆(ke)粒(li)為與所述(shu)支撐層不(bu)垂直的傾斜顆(ke)粒(li)。
6、在一個實施例中,所(suo)(suo)述金屬涂層(ceng)中傾(qing)斜(xie)顆(ke)粒與所(suo)(suo)述支撐層(ceng)之(zhi)間(jian)的角度為大于45°、小(xiao)于90°。
7、在(zai)一個實施例中,所述金屬涂層中傾(qing)斜顆粒的含量為80%-90%。
8、在一個(ge)實施例中,所述金(jin)(jin)屬(shu)涂層的(de)材質為鋁(lv)(lv)金(jin)(jin)屬(shu)、鎳金(jin)(jin)屬(shu)、鈦金(jin)(jin)屬(shu)、銅金(jin)(jin)屬(shu)、鎳合(he)(he)(he)金(jin)(jin)、銅合(he)(he)(he)金(jin)(jin)、鋁(lv)(lv)合(he)(he)(he)金(jin)(jin)、鈦合(he)(he)(he)金(jin)(jin)中的(de)一種(zhong)或多種(zhong)。
9、在(zai)一(yi)個實施例中,所述(shu)支(zhi)撐(cheng)層(ceng)的(de)(de)上下(xia)表面具(ju)有低位(wei)點(dian)(dian)和高位(wei)點(dian)(dian)的(de)(de)結構(gou),其中所述(shu)低位(wei)點(dian)(dian)為低于(yu)(yu)支(zhi)撐(cheng)層(ceng)所在(zai)平面的(de)(de)區(qu)域,所述(shu)高位(wei)點(dian)(dian)為高于(yu)(yu)支(zhi)撐(cheng)層(ceng)所在(zai)平面的(de)(de)區(qu)域,所述(shu)金屬涂層(ceng)的(de)(de)顆粒位(wei)于(yu)(yu)低位(wei)點(dian)(dian)和高位(wei)點(dian)(dian)內,多個高位(wei)點(dian)(dian)包圍低位(wei)點(dian)(dian)。
10、在一個實施例中,所(suo)述(shu)(shu)金屬涂層(ceng)和所(suo)述(shu)(shu)支撐層(ceng)之間還設置有防腐(fu)蝕(shi)層(ceng),所(suo)述(shu)(shu)防腐(fu)蝕(shi)層(ceng)的顆(ke)粒微(wei)觀結構(gou)為(wei)圓形或橢(tuo)圓形或其他多邊形結構(gou)。
11、本發明還提供一種(zhong)輕質(zhi)復合集流體的制備方法,其包括(kuo)如下步驟:
12、提供支撐(cheng)層,將所述支撐(cheng)層放于真(zhen)空腔體中;
13、通(tong)過真空蒸鍍法在所述支撐(cheng)層的上下表面分別鍍上金(jin)屬(shu)涂(tu)(tu)層,得到涂(tu)(tu)覆金(jin)屬(shu)后的支撐(cheng)層,所述金(jin)屬(shu)涂(tu)(tu)層的厚(hou)度為500nm-1500nm;
14、對涂覆金屬后的(de)支撐(cheng)層進行冷卻(que),得(de)到所述輕(qing)質(zhi)復(fu)合集流(liu)體。
15、在(zai)一個實施例中(zhong),所(suo)述通過(guo)真空蒸鍍法在(zai)所(suo)述支撐層的(de)上(shang)下表面分(fen)別鍍上(shang)金屬涂層的(de)步驟中(zhong),包括:
16、通(tong)過真(zhen)空蒸(zheng)鍍(du)法在(zai)真(zhen)空腔內的(de)支(zhi)撐層(ceng)的(de)上下(xia)表(biao)面(mian)進(jin)行多次鍍(du)膜,且每次鍍(du)膜時按預設(she)參數(shu)調(diao)節所(suo)述(shu)支(zhi)撐層(ceng)在(zai)真(zhen)空腔體內的(de)走(zou)速以及真(zhen)空腔體內的(de)蒸(zheng)發(fa)舟排列數(shu)量,使得金屬涂層(ceng)的(de)至少(shao)部分(fen)顆粒(li)與所(suo)述(shu)支(zhi)撐層(ceng)不垂(chui)直。
17、相較于現有技(ji)術,本(ben)發(fa)明提(ti)供的(de)一種輕(qing)質復(fu)合(he)集流體(ti)(ti)及(ji)其制備方法(fa),輕(qing)質復(fu)合(he)集流體(ti)(ti)包(bao)括支(zhi)撐層,所述支(zhi)撐層的(de)上下表(biao)面均設(she)置有金(jin)(jin)屬涂(tu)(tu)層,所述金(jin)(jin)屬涂(tu)(tu)層一次成(cheng)型的(de)形成(cheng)在所述支(zhi)撐層上,所述金(jin)(jin)屬涂(tu)(tu)層的(de)厚度為500nm-1500nm。本(ben)發(fa)明的(de)輕(qing)質復(fu)合(he)集流體(ti)(ti)通過一次成(cheng)型的(de)在支(zhi)撐層的(de)上下表(biao)面形成(cheng)金(jin)(jin)屬涂(tu)(tu)層,這樣的(de)結(jie)構可(ke)以(yi)提(ti)高(gao)金(jin)(jin)屬顆粒相互結(jie)合(he)力,防止多(duo)次成(cheng)型導致的(de)金(jin)(jin)屬層容易脫落的(de)問題,且(qie)金(jin)(jin)屬涂(tu)(tu)層采用合(he)適的(de)厚度,在維持復(fu)合(he)集流體(ti)(ti)輕(qing)質的(de)同時可(ke)以(yi)提(ti)供較好的(de)導電性能,有利于提(ti)高(gao)電池性能。
1.一(yi)種(zhong)輕質復合集流體,其特征在于,包括支(zhi)撐層,所述(shu)(shu)支(zhi)撐層的(de)上下(xia)表面均設置有金(jin)屬涂層,所述(shu)(shu)金(jin)屬涂層一(yi)次成(cheng)(cheng)型(xing)的(de)形成(cheng)(cheng)在所述(shu)(shu)支(zhi)撐層上,所述(shu)(shu)金(jin)屬涂層的(de)厚度(du)為500nm-1500nm。
2.根據權利要求1所述的輕質(zhi)復合集流體,其特征在于,所述金屬涂層的厚(hou)度(du)為1um。
3.根據權利要求1所(suo)述(shu)的輕質(zhi)復(fu)合(he)集流體(ti),其特征在(zai)于(yu),所(suo)述(shu)金(jin)(jin)屬涂層的材質(zhi)為鋁(lv)金(jin)(jin)屬、鎳(nie)金(jin)(jin)屬、鈦(tai)(tai)金(jin)(jin)屬、銅金(jin)(jin)屬、鎳(nie)合(he)金(jin)(jin)、銅合(he)金(jin)(jin)、鋁(lv)合(he)金(jin)(jin)、鈦(tai)(tai)合(he)金(jin)(jin)中的一種或多種。
4.根據權利要求1所(suo)(suo)述(shu)的(de)(de)輕質復(fu)合集流體,其特(te)征在于,所(suo)(suo)述(shu)金屬(shu)涂層(ceng)的(de)(de)顆粒為(wei)一次成型(xing)的(de)(de)柱狀顆粒,且(qie)至少部分所(suo)(suo)述(shu)柱狀顆粒為(wei)與(yu)所(suo)(suo)述(shu)支撐層(ceng)不垂直的(de)(de)傾(qing)斜顆粒。
5.根據權利要(yao)求4所述(shu)的(de)輕質(zhi)復合集流體(ti),其特征(zheng)在(zai)于,所述(shu)金屬涂層中(zhong)傾斜顆粒(li)與所述(shu)支撐層之間(jian)的(de)角度為大于45°、小于90°。
6.根據權利要求4所述(shu)的輕質復合集流體,其(qi)特征在于(yu),所述(shu)金(jin)屬涂層中傾斜顆粒(li)的含量(liang)為80%-90%。
7.根據權利要求4所(suo)(suo)述(shu)的(de)(de)(de)輕質復合集(ji)流體,其(qi)特征(zheng)在(zai)于,所(suo)(suo)述(shu)支撐層(ceng)的(de)(de)(de)上下表面具有低(di)(di)位點(dian)和高(gao)位點(dian)的(de)(de)(de)結構,其(qi)中(zhong)所(suo)(suo)述(shu)低(di)(di)位點(dian)為低(di)(di)于支撐層(ceng)所(suo)(suo)在(zai)平(ping)面的(de)(de)(de)區域(yu),所(suo)(suo)述(shu)高(gao)位點(dian)為高(gao)于支撐層(ceng)所(suo)(suo)在(zai)平(ping)面的(de)(de)(de)區域(yu),所(suo)(suo)述(shu)金屬涂(tu)層(ceng)的(de)(de)(de)顆粒位于低(di)(di)位點(dian)和高(gao)位點(dian)內,多個高(gao)位點(dian)包圍(wei)低(di)(di)位點(dian)。
8.根據權利(li)要求(qiu)4所述的(de)輕質復合集流體,其(qi)(qi)特征在于(yu),所述金屬涂層(ceng)(ceng)和所述支撐層(ceng)(ceng)之間還設置有防腐蝕(shi)層(ceng)(ceng),所述防腐蝕(shi)層(ceng)(ceng)的(de)顆粒微觀結構為圓(yuan)形或橢(tuo)圓(yuan)形或其(qi)(qi)他多(duo)邊(bian)形結構。
9.一(yi)種輕質(zhi)復合集(ji)流體的制備方(fang)法,其特征在(zai)于,包括如下(xia)步(bu)驟:
10.根據權利要求9所(suo)述(shu)(shu)的(de)(de)輕質復(fu)合集(ji)流體的(de)(de)制備方法,其特(te)征在于(yu),所(suo)述(shu)(shu)通過真空蒸鍍法在所(suo)述(shu)(shu)支撐層的(de)(de)上(shang)下表面(mian)分(fen)別鍍上(shang)金屬涂層的(de)(de)步驟中,包(bao)括: