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裝置的制作方法

文檔序號:39619011發布(bu)日期:2024-10-11 13:35閱讀:17來源:國知局(ju)
裝置的制作方法

本發(fa)明涉及(ji)一種(zhong)裝置。


背景技術:

1、專利文獻1公開了具(ju)備傳遞由(you)電動(dong)(dong)機產生的(de)動(dong)(dong)力(旋轉力)的(de)齒輪機構(gou)(gou)(gou)的(de)裝置(zhi)(zhi)。齒輪機構(gou)(gou)(gou)對(dui)經由(you)輸(shu)(shu)入軸(zhou)從電動(dong)(dong)機輸(shu)(shu)入的(de)旋轉進行變速,并經由(you)輸(shu)(shu)出軸(zhou)輸(shu)(shu)出到差(cha)動(dong)(dong)機構(gou)(gou)(gou)。裝置(zhi)(zhi)具(ju)備用于使輸(shu)(shu)入軸(zhou)和輸(shu)(shu)出軸(zhou)的(de)轉速相(xiang)等的(de)離合(he)(he)器(qi)(直接連結離合(he)(he)器(qi))。

2、現有技術文獻

3、專利文獻

4、專利文獻1:中國專利申(shen)請公開第106979285號說明(ming)書

5、發明(ming)要解決(jue)的課題

6、在輸(shu)入軸(zhou)與輸(shu)出(chu)軸(zhou)的轉速之差大(da)的狀態(tai)下(xia)聯(lian)接(jie)離(li)合(he)器(qi)時,由于聯(lian)接(jie)而(er)產生的沖(chong)擊大(da)。減小轉速差后(hou)再聯(lian)接(jie)離(li)合(he)器(qi)可(ke)以緩解(jie)沖(chong)擊,但直至聯(lian)接(jie)離(li)合(he)器(qi)的時間會變長。

7、在裝置中,要求(qiu)在降低聯接離合器時(shi)的(de)沖(chong)擊(ji)的(de)同時(shi),適(shi)當(dang)設定聯接離合器的(de)時(shi)間。


技術實現思路

1、本發(fa)明的一(yi)方式(shi)的裝置,具有(you):

2、第(di)一行(xing)星齒輪(lun)機構(gou),其具(ju)有與輸(shu)入軸連接的第(di)一太陽輪(lun)、與輸(shu)出(chu)軸連接的第(di)一行(xing)星齒輪(lun)架、第(di)一齒圈;

3、第(di)二行星齒輪機構,其具有(you)與(yu)輸入軸連(lian)接的第(di)二太陽輪、經(jing)由第(di)一(yi)聯接元件與(yu)第(di)一(yi)固定(ding)元件連(lian)接的第(di)二行星齒輪架、經(jing)由第(di)二聯接元件與(yu)第(di)二固定(ding)元件連(lian)接的第(di)二齒圈,

4、所述(shu)第(di)一(yi)行星齒(chi)輪(lun)機構和(he)所述(shu)第(di)二(er)行星齒(chi)輪(lun)機構通過所述(shu)第(di)一(yi)齒(chi)圈和(he)所述(shu)第(di)二(er)行星齒(chi)輪(lun)架連(lian)接,

5、所述(shu)第(di)一太陽(yang)輪和所述(shu)第(di)一齒圈(quan)通過第(di)三聯接元件(jian)連接。

6、發明效果

7、根(gen)據本發明的(de)一方式,能夠在降(jiang)低(di)聯(lian)接第三(san)聯(lian)接元件即離合器時的(de)沖擊的(de)同時,適當地設定聯(lian)接離合器的(de)時間(jian)。



技術特征:

1.一種裝(zhuang)置,具有:

2.如(ru)權利要求1所述的裝(zhuang)置(zhi),其中,

3.如(ru)權利(li)要求(qiu)1所述的(de)裝置,其中,

4.如權利要求1~3中任一項所述的(de)裝置(zhi),其中,

5.如權利(li)要求1~3中任一(yi)項所述的裝置,其中,

6.如權(quan)利要求(qiu)1~3中任一項所述的裝置,其中,


技術總結
本發明的裝置在降低聯接離合器時的沖擊的同時,適當設定聯接離合器的時間。本發明的裝置具有第一行星齒輪機構和所述第二行星齒輪機構,該第一行星齒輪機構具有:與輸入軸連接的第一太陽輪、與輸出軸連接的第一行星齒輪架、第一齒圈,該第二行星齒輪機構具有:與輸入軸連接的第二太陽輪、通過第一聯接元件與第一固定元件連接的第二行星齒輪架、經由第二聯接元件與第二固定元件連接的第二齒圈,所述第一行星齒輪機構和所述第二行星齒輪機構通過所述第一齒圈和所述第二行星齒輪架連接,所述第一太陽輪和所述第一齒圈通過第三聯接元件連接。

技術研發人員:下園和年,菖一稔
受保護的技術使用者:加特可株式會社
技術研發日:
技術公布日:2024/10/10
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