專利名稱：雙重加熱多功能離子轟擊爐的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及離子轟擊爐，尤其是涉及雙重加熱多功能離子轟擊爐。
國內離子氮化爐六十年代研究，七十年代實用推廣。當時的離子氮化爐均采用水冷夾層鐘罩。主要缺點是工作處理溫度570℃左右，與水夾層鐘罩之間溫差較大，工件輻射熱被冷卻水帶走。當工件大小不一時，同爐處理的工件溫度有明顯差異。爐體經改進后，包括鐘罩和鐘罩底座組成的真空腔真空腔內壁面依次設有保溫層(硅酸鋁纖維)，輔助電加熱器，陽極，在真空腔中間設有陰極(在陰極工作臺上放工件)，陽極和陰極間接有可調直流電源，輔助加熱器接有可調交流電流。該爐子電阻絲極容易燒斷，操作不便。
本實用新型的目的是提供一種控制容易，操作方便的雙重加熱多功能離子轟擊爐。
以下結合附圖
加以說明。
附圖是雙重加熱多功能離子轟擊爐示意圖。
雙重加熱多功能離子轟擊爐包括鐘罩和鐘罩底座1，組成的真空腔，真空腔內壁依次設有保溫層4，輔助電加熱器3，陽極6，在真空腔中間設有陰極及陰極工作臺5，陰極與陽極間接有可調直流電源9，輔助加熱器接有可調交流電源8。可調交流電源的控制電壓為35～60V，電流為200～500A，陰極外套有氧化鋁瓷管，其間隙內填充有氧化鋁顆粒。鐘罩由鐘罩蓋1和鐘罩體2兩部份組成。
工作時，工件置于真空腔內的陰極工作臺上，在接通輔助加熱器電源的同時，啟動真空泵，工件受熱后沾在工件表面上的揮發性物質發生揮發并由真空泵抽出，減少起輝打弧時間，這是預熱脫氣。待真空度達到要求后，啟動直流電源起輝，并通入氫氣，被電離的氫形成氫離子，受到直流電場的加速轟擊工件表面，奪取工件表面氧化膜中的氧，從而獲得凈潔的活性表面，稱為表面凈化。真空爐內處于高溫低氣壓。在高壓直流電場作用下，使N2、H2、C3H6分別發生電離和反應，主要形成氮離子，碳離子，氮氫分子離子，碳氫分子離子…，這些離子轟擊凈潔的活性表面，離子在陰極上獲得電子變成活性原子或者分解出活性原子滲入工件，這就是滲入反應。處理結束后，可以隨爐自然冷卻，可以充液氮快冷，也可以充氮開蓋直接油降或水降，趁熱裝入下一爐工件。
本實用新型的優點是不僅溫度均勻，工作接受熱輻射及離子轟擊，所以溫度高達1000℃，可以進行離子滲碳(930℃)，離子碳氮共滲(850℃)等多種功能。把鐘罩分成鐘罩蓋和鐘罩體兩部分，便于滲碳后充氮氣開鐘罩蓋取出工件直接淬火，避免滲碳后冷卻，再加熱淬火情況，從而節約能源。所用陰極既能防止無孔不入的微碳粉入侵，又能承受熱膨脹，使用壽命長。
權利要求1.一種雙重加熱多功能離子轟擊爐，它包括鐘罩和鐘罩底座[7]組成的真空腔，真空腔體內壁面依次設有保溫層[4]，輔助電加熱器[3]，陽極[6]，在真空腔中間設有陽極及陰極工作臺[5]，陽極與陰極接有可調直流電源[9]，輔助加熱器接有可調交流電源[8]，其特征在所說的可調交流電源控制電壓為35～60V，電流為200～500A，陰極外套有氧化鋁瓷管，其間填充有氧化鋁顆粒，鐘罩由鐘罩蓋[1]和鐘罩體[2]兩部分組成。
專利摘要本實用新型公開了一種雙重加熱多功能離子轟擊爐，它包括鐘罩、蓋、鐘罩體和鐘罩底座組成的真空腔，真空腔體內壁面依次設有保溫層，輔助電加熱器，陽極，在真空腔中間設有陽極及陰極工作臺，陽極與陰之間接有可調直流電源，輔助加熱器接有可調交流電源，可調交流電源的控制電壓為35～60V，電流為200～500A。本實用新型的優點是不僅溫度均勻，工件接受熱輻射及離子轟擊，所以溫度可高達1000℃，可以進行離子滲碳，離子碳氮共滲等多種功能。
文檔編號C23C8/20GK2163815SQ93219478
公開日1994年5月4日 申請日期1993年7月22日 優先權日1993年7月22日
發明者高文龍 申請人:浙江大學