觸控顯示面板及其制備方法、觸控顯示裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及液晶顯示屏技術領域，更具體涉及一種觸控顯示面板、其制備方法及具有該觸控顯示面板的觸控顯示裝置。
【背景技術】
[0002]為了實現觸控面板的薄型化和輕量化，將觸控面板和液晶顯示基板一體化的研宄日漸盛行。其中，將具有觸控面板功能的觸控電極嵌入到液晶顯示基板和上偏光片之間的單層On-Cell (盒上)觸控方案，具有工藝簡單、制造成本低等優點而受到人們的廣泛關注。
[0003]在上述On-Cell觸控方案中，對盒完成后，在彩膜基板上表面沉積一層觸控電極，并經過一次掩膜工藝在觸控電極上刻蝕出具有觸控功能的特定圖形。刻蝕過程中，觸控圖形的不同走線之間會被刻蝕出溝槽。因為受到觸控電層材料、厚度及產線工藝能力等因素的影響，這些溝槽的寬度大致在5-15um的范圍內。顯示基板在不點亮或者低灰階點亮時，在反射光照射下，走線之間的溝槽清晰可見。由于溝槽不能反射光線，導致顯示面板的反射光線不均勻，從而產生嚴重的消影現象，而上述的消影現象很難通過刻蝕工藝的調整來徹底解決，從而嚴重影響廣品的顯不品質。

【發明內容】

[0004](一 )要解決的技術問題
[0005]本發明要解決的技術問題是如何消除由于觸控電極的溝槽不能反射光線而造成的消影現象，提高顯示品質。
[0006]( 二 )技術方案
[0007]為了解決上述技術問題，本發明提供了一種觸控顯示面板，所述觸控顯示面板包括顯示基板、觸控電極層以及位于所述顯示基板和所述觸控電極層之間的絕緣層，其中所述觸控電極層包括帶有溝槽的觸控圖形；所述觸控顯示面板還包括透明導電膜層，通過所述絕緣層與所述觸控電極層絕緣。
[0008]優選地，所述透明導電膜層包括與所述觸控圖形互補的導電膜圖案。
[0009]優選地，所述絕緣層在所述溝槽對應的區域覆蓋在所述透明導電膜層的導電膜圖案上，在其他區域設置在所述顯示基板上。
[0010]優選地，所述絕緣層整層設置在所述透明導電膜層上。
[0011 ] 優選地，所述觸控電極層與所述透明導電膜層材質相同。
[0012]優選地，所述觸控顯示面板還包括偏光片，所述偏光片設置在所述觸控電極層上。
[0013]本發明還公開了一種觸控顯示裝置，包括上述觸控顯示面板。
[0014]本發明另外還公開了一種觸控顯示面板的制備方法，所述方法包括以下步驟:
[0015]提供顯不基板；
[0016]在所述顯示基板的上表面上形成透明導電膜層；
[0017]形成絕緣層；
[0018]在所述絕緣層上形成觸控電極層，并在所述觸控電極層中形成觸控圖形，其中所述透明導電膜層通過所述絕緣層與所述觸控電極層絕緣。
[0019]優選地，所述方法還包括以下步驟:
[0020]在所述透明導電膜層中形成與所述觸控圖形互補的導電膜圖案。
[0021 ] 優選地，所述方法還包括以下步驟:
[0022]在所述觸控電極層上貼合偏光片。
[0023](三)有益效果
[0024]本發明提供了一種觸控顯示面板、其制備方法及具有該觸控顯示面板的觸控顯示裝置，本發明設置了透明導電膜層，并且所述導電膜層通過絕緣層與觸控電極層絕緣，此種設計使得照射在觸控電極層溝槽處的光線透過絕緣層照射到透明導電膜層的上表面，實現光線的反射，補償了由于溝槽不能反射光線而造成的光線段差，解決了由于觸控電極層溝槽導致的反射光線不均勻，消影現象嚴重的問題，提高了顯示屏的顯示品質。
【附圖說明】
[0025]為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0026]圖1是現有技術中On-Cell觸控顯示面板的結構示意圖；
[0027]圖2是現有技術中On-Cell觸控顯示面板的俯視圖；
[0028]圖3是本發明的一個較佳實施例的觸控顯示面板的結構示意圖；
[0029]圖4是本發明的一個較佳實施例的觸控顯示面板的俯視圖；
[0030]圖5是本發明的另一個較佳實施例的觸控顯示面板的結構示意圖；
[0031]圖6是本發明的觸控顯示面板的制備方法流程圖。
[0032]注意在圖中，帶向下箭頭的線條為入射光線，帶向上箭頭的線條為反射光線。
【具體實施方式】
[0033]下面結合附圖和實施例對本發明作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本發明，但不能用來限制本發明的范圍。
[0034]圖1是現有技術中On-Cell觸控顯示面板的結構示意圖，可以看到觸控顯示面板包括顯示基板、觸控電極層006以及位于所述顯示基板和所述觸控電極層006之間的絕緣層005，其中觸控電極層006包括帶有溝槽008的觸控圖形，顯示基板從下到上包括下偏光片001、TFT(Thin Film Transistor薄膜晶體管)基板002以及彩膜基板003，并且在觸控電極層006上設置有上偏光片007。現有的On-Cell觸控顯示面板的觸控電極層006的不同信號走線之間經過刻蝕形成溝槽008，如圖2所示。由于溝槽008不能反射光線，形成光線段差，這種段差會造成在顯示屏不加電或者低灰階狀態下明顯的暗影，即導致顯示面板在不點亮和低灰階點亮的情況下出現反射光線不均勻的現象，如圖1中光線的反射情況所示。從而產生了嚴重消影現象，降低了顯示品質。
[0035]為解決上述技術問題，本發明公開了一種觸控顯示面板，觸控顯示面板包括顯示基板、觸控電極層以及位于所述顯示基板和所述觸控電極層之間的絕緣層，其中所述觸控電極層包括帶有溝槽的觸控圖形。觸控顯示面板還包括透明導電膜層，通過所述絕緣層與所述觸控電極層絕緣。觸控顯示面板的顯示基板從下到上依次包括下偏光片、TFT基板以及彩膜基板。本發明的觸控顯示面板通過在絕緣層和顯示基板之間設置透明導電膜層，使得照射在觸控電極層的溝槽處的光線透過絕緣層照射到透明導電膜層的上表面，實現光線的反射，補償了由于溝槽不能反射光線而造成的光線段差，觸控顯示面板在不點亮或是低灰階點亮的情況下能夠反射出均勻的光線，避免了消影現象。
[0036]應該理解，在本發明中，顯示基板可以為單一的基板，例如為彩膜基板；也可以為基板的組合，例如彩膜基板和陣列基板對盒形成的顯示面板；還可以包括偏光片等附屬結構；“形成”例如包括通過濺射、沉積等工藝設置材料層和/或通過刻蝕等構圖工藝在材料層上構造圖形。
[0037]下面通過實施例一和實施例二來具體說明本發明的方案。
[0038]實施例一:
[0039]圖3是本發明的一個較佳實施例的觸控顯示面板的結構示意圖，本實施例的觸控顯示面板通過Array工藝(陣列制造工藝)制備的TFT基板002，在所述TFT基板002上制備彩膜基板003，并在ODF工藝(液晶滴下工藝)對盒完成后，制備觸控電極層006以及透明導電膜層004，具體為:在彩膜基板003的上表面沉積一層透明導電膜層004，并經過一次掩膜工藝在透明導電膜層004上刻蝕出與觸控電極層006中觸控圖形互補的特定圖形，即導電膜圖案，導電膜圖案中圖形的寬度可根據工藝能力進行調節；刻蝕完成后，繼續沉積一層絕緣層005，用于使透明導電膜層004和觸控電極層006絕緣，絕緣層005的厚度可根據工藝能力盡可能的做薄；緊接著沉積觸控電極層006，并經過掩膜工藝蝕刻出需要的觸控圖形，形成溝槽008，如圖4所示，應該理解，絕緣層為透明絕緣材質，例如為氧化硅和氮化硅，其光線反射率遠比導電材質(近似金屬)的觸控電極層和透明導電膜層要低，因此無助于消除暗影現象。此觸控電極層的溝槽008處與透明導電膜層004