具有抗微生物性質的二環己基甲醇衍生物的用途
【專利摘要】本發明涉及至少一種式I的二環己基甲醇衍生物作為抗微生物活性物質或作為抗粉刺、抗皮屑、除臭劑或止汗劑活性物質的用途，含有這些化合物的制劑，以及特定的二環己基甲醇衍生物及其制備方法。
【專利說明】具有抗微生物性質的二環己基甲醇衍生物的用途
[0001] 本發明涉及至少一種式I的二環己基甲醇衍生物作為抗微生物活性物質或作為 抗粉刺、抗皮屑、除臭劑或止汗劑活性物質的用途，含有這些化合物的制劑，以及特定的二 環己基甲醇衍生物及其制備方法。
[0002] 在我們的日常生活中，微生物污染是一個嚴重問題，例如與化妝或醫藥產品、食 品、浴室或廚房或手術臺的表面相關。通常使用防腐劑以避免微生物污染。
[0003] 然而抗微生物活性物質不僅作為防腐劑是必要的。還對于許多化妝應用具有重要 意義：
[0004] 皮屑生成對于大眾而言是一種廣泛的頭皮困擾，其大多伴隨著輕度至中度的瘙 癢。在一般理解中，這種常見的頭皮屑的生成不被歸類為皮膚疾病。皮屑可通過頭皮機能 失常而產生，其例如可通過過度暴露于陽光、來自空氣的環境影響或毛發化妝產品引起。 在這種情況下頭皮屑通過由頭皮的微小的炎癥病灶引起的角質細胞的過度生成而產生， 所述炎癥病灶的起因例如真菌（如糠批馬拉色菌（Malassezia furfur)或球形馬拉色菌 (Malassezia globosa))或細菌增多的微生物繁殖。作為結果不完全成熟的角質細胞以較 大的細胞聯接物（皮屑）提早剝落。因為通過皮膚細胞損失，最外層皮膚變薄，皮屑生成導 致了提高的頭皮敏感性，其表現為瘙癢和發紅。
[0005] 對于粉刺，人們理解為皮膚機能失常，其表現為由皮膚的增強的粉團產生 (Talkproduktion)和角質化紊亂引起的炎性的丘疫、膿皰或小結節。所述炎癥可與發紅、腫 脹和壓痛相關聯。除遺傳的素質敏感性之外，雄激素、引起粉刺的物質（例如化妝品中）、煙 霧、壓力或細菌在皮膚上的過度繁殖是粉刺生成的可能原因。粉刺可例如由微生物如瘡皰 丙酸桿菌（Propionibacterium acnes)、顆粒丙酸桿菌（Propionibacterium granulosum) 或表皮葡萄球菌（Staphylococcus epidermidis)引起。
[0006] 瘡皰丙酸桿菌是一種通常繁殖于皮膚并以脂肪為食的細菌。粉刺可例如當這種細 菌的數量增多時產生。在濾泡中細菌的存在導致炎癥反應，其表現為紅色結節或膿包的形 式。通過所述細菌產生游離脂肪酸，進一步促進了濾泡中的炎癥反應。
[0007] 腋汗（Achselschwei β )除了水和鹽之外包含許多其它物質（如脂肪、氨基酸、 糖、乳酸、尿素等）。新鮮生成的汗液是無味的，通過皮膚細菌對汗液的作用（將之分 解）才產生典型的汗味。這種細菌的實例是葡萄球菌屬（Staphylococcus)、棒桿菌屬 (Corynebacterium)或馬拉色氏霉菌屬（Malassezia)。在除臭劑中因此除了氣味物質和止 汗劑之外通常還使用應當控制參與氣味生成的細菌的抗微生物物質。
[0008] 在使用制劑中的抗微生物物質時，特別是它們在相應產品（例如香波、霜劑、除臭 齊U)中的相容性，還有它們的可配制性（即溶解性、穩定性等）是很重要的。特別是在化妝 品中，這些性質是基本的。因此例如特別值得追求的是在常壓下_5°C與40°C之間所述成分 以液態的聚集狀態存在。
[0009] 本發明的目的因此是提供具有抗微生物作用的新成分，其具有上述有利的性質。
[0010] 現在令人驚奇地發現，特定的二環己基甲醇衍生物在具有突出的抗微生物作用的 同時具有上述性質。
[0011] 現有技術中二環己基甲醇化合物是已知的：Alonso等人（2008, Tetrahedron 64， 1847-1852)和 Bai 等人（2010，Catalysis Communications 12,212-216)公開了用于制備 二環己基甲醇的合成途徑。化合物的可能用途沒有被描述。
[0012] 本發明的第一主題因此是至少一種式I化合物作為抗微生物活性物質的用途，
[0013]
【權利要求】
1. 至少一種式I化合物的用途，其用作為抗微生物活性物質
其中RU R2、R3、R4、貼、R6、R7、R8、R9和Rio彼此獨立地為選自下列的殘基 -H、OH、OCOCH3、邸2〇山 SO3H、團素，或 -具有1至20個碳原子的直鏈或分支的焼基或焼氧基基團。
2. 根據權利要求1的用途，其用在化妝品/醫藥配制劑、醫藥產品、食品、家居產品、塑 料、紙和/或染料中。
3. 根據權利要求1或2的用途，其用于防腐的改善。
4. 根據權利要求2的用途，其用在牙齒或口腔護理產品中。
5. 至少一種式I化合物的用途，其用作為抗粉刺、抗皮屑、除莫劑或止汗劑活性物質，
其中RU R2、R3、R4、貼、R6、R7、R8、R9和RlO彼此獨立地為選自下列的殘基 -H、OH、OCOCH3、CH2-OH、SO3H、團素，或 -具有1至20個碳原子的直鏈或分支的焼基或焼氧基基團。
6. 根據權利要求1至5的一項或多項的用途，其特征在于，殘基Rl至RlO的至少一個 為OH或具有1至20個碳原子的直鏈或分支的焼氧基基團。
7. 根據權利要求1至6的一項或多項的用途，其特征在于，所述式I化合物為式Ia化 合物
其中 R2 為 H 或 SO3H， R3為H、0H、具有1至20個碳原子的直鏈或分支的焼基或焼氧基基團， 貼為H或0H， R7 為 H 或 S03H,
R8為H、OH、團素或具有I至20個碳原子的直鏈或分支的焼氧基基團，和 RlO為H、OH或具有1至20個碳原子的直鏈或分支的焼氧基基團。
8.根據權利要求1至7的一項或多項的用途，其特征在于，所述式I化合物為選自式 I-I至1-17化合物的化合物
9.包含至少一種式I化合物和至少一種適宜的載體的制劑
其中RU R2、R3、R4、貼、R6、R7、R8、R9和Rio彼此獨立地為選自下列的殘基 -H、OH、OCOCH3、CH2-OH、SO3H、團素，或 -具有1至20個碳原子的直鏈或分支的焼基或焼氧基基團。
10. 根據權利要求9的制劑，其特征在于，基于所述制劑的總量，W 0. Ol至20重量％的 量包含所述式I化合物。
11. 根據權利要求9或10的制劑，其特征在于，所述制劑是除莫劑、止汗劑、抗皮屑組合 物或抗粉刺組合物或抗細菌制劑，特別是用于牙齒或口腔護理。
12. 根據權利要求9至11的一項或多項的制劑，其特征在于，除了所述至少一種式I化 合物之外包含至少一種其它防腐劑和/或抗微生物活性物質。
13. 用于制備根據權利要求9至12的一項或多項的制劑的方法，其特征在于，將所述式 I化合物與適宜的載體混合。
14. 式I化合物
其中RU R2、R3、R4、貼、R6、R7、R8、R9和RlO彼此獨立地為選自下列的殘基 -H、OH、OCOCH3、CH2-OH、SO3H、團素，或 -具有1至20個碳原子的直鏈或分支的焼基或焼氧基基團， 條件是，殘基Rl至RlO的至少一個為OH或具有1至20個碳原子的直鏈或分支的焼氧 基基團。
15. 根據權利要求14的化合物，其特征在于，所述化合物選自式I-I至1-17的化合物
16.用于制備根據權利要求14或15的式I化合物的方法，其特征在于，將式II化合物
借助氨化反應轉化成相應的式I的氨化產物，其中所述殘基Rl至Rio如在權利要求14 或15中針對式I中所定義的。
【文檔編號】A01N41/04GK104271109SQ201380022363
【公開日】2015年1月7日 申請日期:2013年4月5日 優先權日:2012年4月25日
【發明者】T·魯道夫, T·拜斯特 申請人:默克專利股份有限公司