專利名稱：真空壓膜機壓膜結構的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種真空壓膜機壓膜結構。
背景技術：
印刷電路板是各式電子設備的基本組件，而其制成方式則包括有干 制程與濕制程兩種，其中該干制程在壓合步驟中，主要令印刷電路板的 基材，以預貼機將預貼膜由基材外側覆蓋，再令其經過真空壓膜機的真 空腔，在真空腔內加熱，并由壓膜裝置將預貼膜擠壓加壓貼覆固定于基
材表面，以利后續加工作業步驟的進行；
現有的壓膜裝置是以墊體做為擠壓預貼膜與基材的結構，而為方便 墊體受氣壓控制而擠壓基材，以及擠壓后再回復至原始位置，因此現有 的壓膜裝置是選擇以略為硬質的墊體來擠壓基材，當基材為非常光滑平 整的表面時，以硬質的墊體壓膜并不會產生問題，但在大多數情況下， 該基材表面皆為具有許多微小凹凸不平整的型態，或為其它特殊用途的 基材，其表面的凹凸更為明顯，如此則現有以硬質的墊體壓膜，將造成 預貼膜與基材無法充分貼合的缺點，并使得基材成品的良率下降，令廠 商聲譽與利益蒙受損失。
再請參閱圖9至圖1 3所示，其是現有壓膜裝置，將基材9 0以墊 體9l壓膜時的示意當墊體9 1如圖9 、圖1 0所示，與基材9 0擠壓貼合時，基材9 0表面與墊體9 1接觸面往往如圖1 1 、圖1 2所示的具有許多微小凹 凸不平整處9 2 ，該墊體9 1則無法有效深入該不平整處9 2內部表面， 因此將造成基材9 0該不平整處9 2的預貼膜填覆性較差，出現容易產 生氣泡等質量不良的成品。
再者，若直接將現有的墊體9 l更換為較軟質的結構，則會因墊體 9 1過軟不易通過氣壓來操作控制，如圖l 3之一至圖1 3之三的壓膜 過程連續動作示意圖，因直接以較軟質的墊體9l受氣壓帶動，因此在 壓膜過程中，該墊體9 l容易向一側傾偏，造成壓膜時對于基材9 0的 施力程度不均，如此雖然也可達到壓膜的效果，但卻會造成基材9 0在 受墊體9 l壓膜后，基材9 O上膜體皺折較多的膜皺現象，如此亦為不 良的成品。
因此就整體而言，現有壓膜裝置的墊體為配合氣壓動作而采用較硬 質的結構設計，硬質的墊體雖在運作上可達到一定程度的功效，但在面 對基材表面不平整處時，則較難以深入擠壓，令預貼膜與基填覆性較差， 無法完全發揮壓膜裝置應有的功效，而若單純更換為軟質的墊體，則易 造成膜皺產生，兩方面問題無法同時兼顧，其可說是相當的不具有實用 性，仍有加以改良的必要。
發明內容
本發明所要解決的主要技術問題在于，克服現有的真空壓膜機壓膜 時對于基材不平整處填覆性較差，容易產生氣泡等不良品的缺點，而提 供一種真空壓膜機壓膜結構，其具有以簡單的方式達到提高壓膜裝置對 基材、預貼膜填覆性的效果，減少基材在不平整處的氣泡產生，并可適 應各式特殊基材，提高整體質量以及良率，且不易產生膜皺，更可視其 所需而快速更換輔助墊體。
本發明解決其技術問題所采用的技術方案是
一種真空壓膜機壓膜結構，設有一本體，該本體包括有一真空腔體， 該真空腔體內設有加熱裝置以及壓膜裝置，該加熱裝置是用以加熱真空 腔體內溫度，其特征在于該壓膜裝置至少包括有一主墊體以及一輔助 墊體，該主墊體材質較輔助墊體硬，該主墊體與真空腔體結合，而該輔 助墊體材質則較主墊體軟，該輔助墊體設置于主墊體表層；借此，令主 墊體可受真空腔體內氣壓控制帶動，再由主墊體表層的輔助墊體提供較 佳的壓膜填覆性。
前述的真空壓膜機壓膜結構，其中主墊體與輔助墊體是設置于真空
腔體內上下兩側。
前述的真空壓膜機壓膜結構，其中主墊體與輔助墊體是設置于真空 腔體的上側或下側。
前述的真空壓膜機壓膜結構，其中輔助墊體可為鋪設于主墊體上、 黏著于主墊體上或直接成型于主墊體上的任一方式。
前述的真空壓膜機壓膜結構，其中真空腔體包括有相對應的上工作 臺以及下工作臺，該上工作臺與下工作臺之間至少設有一氣密塊。
借此，進行壓膜的動作時，是由氣孔充入氣體，令主墊體受真空腔 體內氣壓帶動，再由主墊體表層的輔助墊體快速擠壓基材并深入基材不 平整處，提供基材與預貼膜較佳的壓膜填覆性；
再者，借由主墊體與輔助墊體的設計，因主墊體較硬有助于氣壓控 制操作，而不會因輔助墊體較軟，壓膜過程中傾偏造成施力不均，以及 產生過多膜皺，故可同時解決現有技術無法兼顧的雙重問題。
由上述可知，本發明是以簡單的方式達到提高壓膜裝置對基材、預 貼膜填覆性的效果，減少基材在不平整處的氣泡產生，并可適應各式特 殊基材，提高整體質量以及良率，且不易產生膜皺，更可視其所需而快 速更換輔助墊體。
下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明。
圖1是本發明真空壓膜機壓膜結構開啟狀態的剖視圖。
圖2是本發明真空壓膜機壓膜結構夾閉狀態的剖視圖。
圖3、圖4是本發明真空壓膜機壓膜結構壓膜過程局部示意圖。
圖5、圖6是圖4中接觸面的放大示意圖。
圖7之一至圖7之三是墊體壓膜過程連續動作示意圖。
圖8是本發明第二實施例剖視圖。
圖9、圖l O是現有壓膜過程局部示意圖。
圖1 1、圖1 2是圖1 0中接觸面的放大示意圖。
圖l3之一至圖13之三是現有墊體壓膜過程連續動作的示意圖。
圖中標號說明- 1 0 2
1 2 2 3 l — 9 0 —
-本體 -下工作臺 -加熱裝置 -輔助墊體
-不平整處 曙基材
1 0 —
1 0 3
1 2 —
2 0 —
-真空腔體
力
密塊
-傳送裝置
1 0 1
1 0 4
1 2 1
3 0 —
-上工作臺 隱氣孔
-主墊體
湖
9 1
-墊體
9 2
-不平整處
具體實施例方式
本發明有關于一種真空壓膜機壓膜結構，請參閱圖1及圖2所示， 這種真空壓膜機壓膜結構其本體1主要包括一真空腔體1 0 ，以及一通 過該真空腔體l 0的傳送裝置2 0;該真空腔體l O是由一組相對應的 上工作臺1 0 1以及下工作臺1 0 2組成，該上、下工作臺1 0 1、 1 0 2是概呈n字型與U字型，該上、下工作臺l 0 1、 1 0 2并可做相 對的運動而開啟或夾閉真空腔體l 0，且該上、下工作臺l 0 1、 1 0 2之間設有一氣密塊1 0 3，以增強該真空腔體l O在上、下工作臺l 0 1、 1 0 2夾閉時的氣密性，該上、下工作臺l 0 1、 1 0 2上各設 有一氣孔l 0 4，據以抽出、充入空氣來控制真空腔體l O內的氣壓； 該傳送裝置2 O則可為膜體狀，該傳送裝置2 O是用以運送附有預貼膜 (圖中未示)的基材3 0至真空腔體1 O內進行壓膜的步驟，令基材與 預貼膜結合；其中有關于真空壓膜機的其它部分結構，以及傳送裝置2 O的細部型態為現有技術，非本發明所欲保護的結構，在此不再贅述； 該真空腔體1 0內設有一加熱裝置1 1以及一壓膜裝置1 2 ，其中 該加熱裝置l l分別設置于真空腔體l 0上、下工作臺l 0 1、 1 0 2相對應的內側，用以對真空腔體l O內基材上下兩側加熱； 該壓膜裝置l 2則是設置于加熱裝置1 l內側，該壓膜裝置l 2包括有 一外緣與上工作臺1 0 1或下工作臺1 0 2固定的主墊體1 2 1 ,其中 在下工作臺1 0 2的主墊體1 2 1內側表層再鋪設有一輔助墊體1 2 2，該主墊體l 2 l的材質較輔助墊體l 2 2硬，而該輔助墊體l 2 2 的材質則較主墊體l 2 l軟，并較具塑性，該主墊體l 2 l是可受真空
腔體1 0內氣壓的控制，如降低氣壓至真空時，則主墊體1 2 1緊縮附 于上、下工作臺10 1、 10 2內側，而充入空氣時則主墊體1 2 1受 氣壓帶動，并通過輔助墊體l 2 2擠壓基材，以達到壓膜并提高填覆性 的效果，且該輔助墊體l 2 2是可視基材的種類而更換不同軟硬、塑性 的材質。
本發明在使用時，該真空腔體l 0初始如圖1所示，是呈上、下工 作臺l 0 1、 10 2開啟的狀態，待傳送裝置2 0將基材搬移至真空腔 體l 0內時，則該上、下工作臺l 0 1、 1 0 2夾閉而令真空腔體1 0 內形成隔絕的真空狀態，再由氣孔l 0 4充入空氣，令壓膜裝置l 2如 圖2所示與受氣壓的控制而快速拍擊擠壓基材表面，令基材與預貼膜受 加熱裝置1 1加熱以及壓膜裝置1 2的擠壓而貼合固定。
其中該壓膜裝置l 2在擠壓基材與預貼膜時的細部狀態，則請參閱 圖3至圖6所示，該圖3、圖4僅繪制出下工作臺1 0 2的壓膜裝置1 2以及基材做說明，而圖5、圖6則為壓膜裝置1 2與基材的接觸面放 大示意圖。
當真空腔體1 0內充入空氣前，則壓膜裝置1 2如圖3所示，仍與 基材保持一定距離，而當真空腔體l 0充入空氣后，則壓膜裝置l 2如 圖4所示，該壓膜裝置l 2受到氣壓帶動，而快速拍擊擠壓該基材；
如圖5以及圖6所示，該基材表面是具有凹凸不平整處3 1，而該 壓膜裝置l 2的輔助墊體1 2 2則因材質較軟，塑性較佳而可略為配合 不平整處3 1的形狀而變形，并伸入該基材不平整處3 1內，借由輔助 墊體l 2 2來壓膜可提高預貼膜與基材的填覆效果，令預貼膜亦可隨輔 助墊體l 2 2的擠壓而伸入到基材不平整處3 1內部與其貼合，減少氣 泡產生，提高產品的良率。
請參閱圖7之一至圖7之三所示，其是本發明壓膜裝置1 2的壓膜 過程連續動作示意圖，該壓膜裝置l 2因設有較硬質的主墊體1 2 l可 配合氣壓控制，因此在壓膜的過程中不易傾偏，如此可確保設置于主墊 體l 2 l上輔助墊體l 2 2與基材3 O的接觸點適當，以及施力更為均
勻，減少膜皺的產生，提高產品質量。
再請參閱圖8所示，其是本發明真空壓膜機壓膜結構第二實施例， 其中主要組件與第一實施例相同，在此不再贅述，如下僅就不同結構敘 述之
本發明的壓膜裝置l 2除可在下工作臺1 0 2設置有主墊體1 2 1 與輔助墊體l 2 2，其同樣亦可在上工作臺l 0 l設置有主墊體l 2 1 與輔助墊體l 2 2，或如圖8所示，本發明的壓膜裝置l 2亦可在上、 下工作臺10 1、 10 2同時鋪設有主墊體1 2 1與輔助墊體12 2， 其中該上工作臺l 0 l的輔助墊體l 2 2則可以黏合或直接成型于主墊 體l 2 l表層的方式將其定位，如此可提供上下雙層的良好壓膜效果。
權利要求
1.一種真空壓膜機壓膜結構，設有一本體，該本體包括有一真空腔體，該真空腔體內設有加熱裝置以及壓膜裝置，該加熱裝置是用以加熱真空腔體內溫度，其特征在于該壓膜裝置至少包括有一主墊體以及一輔助墊體，該主墊體材質較輔助墊體硬，該主墊體與真空腔體結合，而該輔助墊體材質則較主墊體軟，該輔助墊體設置于主墊體表層；借此，令主墊體可受真空腔體內氣壓控制帶動，再由主墊體表層的輔助墊體提供較佳的壓膜填覆性。
2. 根據權利要求l所述的真空壓膜機壓膜結構，其特征在于所述 主墊體與輔助墊體是設置于真空腔體內上下兩側。
3. 根據權利要求l所述的真空壓膜機壓膜結構，其特征在于所述 主墊體與輔助墊體是設置于真空腔體的上側或下側。
4. 根據權利要求l所述的真空壓膜機壓膜結構，其特征在于所述 輔助墊體可為鋪設于主墊體上、黏著于主墊體上或直接成型于主墊體上 的任一方式。
5. 根據權利要求l所述的真空壓膜機壓膜結構，其特征在于所述 真空腔體包括有相對應的上工作臺以及下工作臺，該上工作臺與下工作 臺之間至少設有一氣密塊。
全文摘要
一種真空壓膜機壓膜結構，設有一本體，該本體包括有一真空腔體，該真空腔體內設有加熱裝置以及壓膜裝置，該加熱裝置是用以加熱真空腔體內溫度，該壓膜裝置至少包括有一主墊體以及一輔助墊體，該主墊體材質較輔助墊體硬，該主墊體與真空腔體結合，而該輔助墊體材質則較主墊體軟，該輔助墊體設置于主墊體表層；借此，令主墊體可受真空腔體內氣壓控制帶動，再由主墊體表層的輔助墊體提供較佳的壓膜填覆性。本發明具有以簡單的方式達到提高壓膜裝置對基材、預貼膜填覆性的效果，減少基材在不平整處的氣泡產生，并可適應各式特殊基材，提高整體質量以及良率，且不易產生膜皺，更可視其所需而快速更換輔助墊體。
文檔編號H05K3/02GK101188908SQ200610145430
公開日2008年5月28日 申請日期2006年11月17日 優先權日2006年11月17日
發明者李燕昌, 林英菘, 賴金森 申請人:志圣工業股份有限公司