流體工藝處理裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型是有關一種流體工藝處理裝置，特別是一種防止不同流體間互相污染的流體工藝處理裝置。
【背景技術】
[0002]在半導體晶圓、太陽能基板、顯示器玻璃基板、LED基板等基板的制造過程中，需要經過一基板處理系統，以對基板的表面供給處理液(例如化學品或去離子水等)進行蝕刻、清洗等處理程序，而在該基板處理系統中，則必須借由一液體處理裝置來針對使用過的處理液進行收集、排液、回收等后續處理。
[0003]已知基板處理系統大致包含一基板固定單元、一旋轉單元、一液體供給單元及一收集單元，該基板固定單元設置于該旋轉單元上，該旋轉單元可帶動該基板固定單元旋轉，該基板固定單元用于承載并利用一固定裝置固定一基板，該液體供給單元設置于該基板固定單元上，用于對承載于該基板固定單元的基板供給處理液(例如HC1，H3N04)，而該收集單元圍繞設置于該旋轉單元與該基板固定單元的外側。
[0004]其中，該收集單元包含多個收集環，該多個收集環必須利用外部升降機構驅動以相對進行升降作動，以在進行不同液體收集時，可事先升降特定收集環，使液體順著各該收集環的引導由各該收集環下方的排液管排出。但該外部升降機構必須額外借由皮帶、螺桿、馬達等裝置帶動各該收集環，導致結構復雜且成本高。此外，各個收集環之間亦可互相污染的可能。
[0005]有鑒于此，提出一種防止不同流體間互相污染的流體工藝處理裝置便是目前極需努力的目標。
【實用新型內容】
[0006]本實用新型提供一種流體工藝處理裝置，其多個收集環可獨立地升降，以簡化機構的設計。較佳者，非工作中的收集環可關閉以防止不同流體間的互相污染。
[0007]本實用新型一實施例的流體工藝處理裝置，是應用于一基板的處理工藝中，該流體工藝處理裝置包括一基座、一旋轉馬達、一基板固定單元、一收集單元以及一液體供給單元。該旋轉馬達是設置于該基座。該基板固定單元是設置于該旋轉馬達上，該基板固定單元包含一載臺與一固定裝置，該載臺用于承載該基板并利用該固定裝置固定該基板；該收集單元是設置于該基座并圍繞該基板固定單元。該收集單元包含一收集環模塊、一升降模塊與一底部收集盤，該收集環模塊包含多個收集環依序徑向設置，而該升降模塊包含多個升降裝置分別連接該多個收集環，以獨立地升降該多個收集環至一上升位置或一下降位置，該底部收集盤設置于該收集環模塊下方，并該底部收集盤的底部包含多個排液口與至少一抽氣口。該液體供給單元是設置于該基座，用以供應處理液至該基板上。
[0008]在本實用新型一或多個實施方式中，該收集環模塊包含一第一收集環、一第二收集環、一第三收集環以及一外側擋板，且該第一收集環、該第二收集環、該第三收集環以及該外側擋板依序徑向朝外排列設置，其中，該第一收集環、該第二收集環以及該第三收集環分別具有向上延伸的一第一擋板、一第二擋板以及一第三擋板，且處于該上升位置的該第一擋板、該第二擋板、該第三擋板以及該外側擋板之前端抵靠在一起，以及處于該下降位置的該第一擋板、該第二擋板以及該第三擋板之前端抵靠在一起。
[0009]在本實用新型一或多個實施方式中，該第一擋板、該第二擋板、該第三擋板以及該外側擋板相對于該基板所在的一平面的夾角小于90度。
[0010]在本實用新型一或多個實施方式中，該第一收集環包含一第一環狀集液槽以及一第二環狀集液槽，且該第一環狀集液槽以及該第二環狀集液槽分別設置于該第一擋板之內側以及外側。
[0011]在本實用新型一或多個實施方式中，該第一收集環還包含一伸縮排液管，該伸縮排液管連通該第一環狀集液槽至該底部收集盤的其中的一該排液口。
[0012]在本實用新型一或多個實施方式中，該收集單元還包含一阻隔模塊，該阻隔模塊設置于該收集單元的中央并包含一上蓋與一側環，其中該上蓋設置于該基板固定單元的該載臺下方，且具有一第一突出部，其該延伸至該第一環狀集液槽上方，且該第一突出部與處于上升位置的該第一環狀集液槽的一槽壁于徑向方向上部分重疊，且該側環圍繞該基板固定單元并設置于該底部收集盤上方。
[0013]在本實用新型一或多個實施方式中，該第二收集環包含一第三環狀集液槽以及一第二突出部，其中，該第三環狀集液槽設置于該第二擋板之外側，該第二收集環的該第二突出部沿該第二擋板的一內側表面向下延伸至該第二環狀集液槽內，該第二收集環的該第二突出部與該第二環狀集液槽的該槽壁于徑向方向上部分重疊。
[0014]在本實用新型一或多個實施方式中，該第三收集環包含分別沿該第三擋板的一內側表面以及一外側表面向下延伸的一第三突出部以及一第四突出部，其中該第三收集環的該第三突出部延伸至該第三環狀集液槽內，且該第三收集環的該第三突出部以及該第四突出部與該第三環狀集液槽的一槽壁于徑向方向上部分重疊。
[0015]在本實用新型一或多個實施方式中，該升降模塊包含一第一排液氣壓缸以及一第一升降氣壓缸，其連接至該第三收集環，其中該第一排液氣壓缸設置于該第一收集環的該第二環狀集液槽的底部，且該第一排液氣壓缸包含一第一氣壓缸體以及一第一中空軸桿，該第一中空軸桿設置于該第一氣壓缸體內，該第一中空軸桿連通該第二環狀集液槽至該底部收集盤的其中的一該排液口。
[0016]在本實用新型一或多個實施方式中，該升降模塊還包含一第二升降氣壓缸，其連接至該外側擋板。
[0017]在本實用新型一或多個實施方式中，該升降模塊包含一第二排液氣壓缸，其設置于該第二收集環的該第三環狀集液槽的底部，且該第二排液氣壓缸包含一第二氣壓缸體與一第二中空軸桿，該第二中空軸桿設置于該第二氣壓缸體內，該第二中空軸桿連通該第三環狀集液槽至該底部收集盤的其中的一該排液口。
[0018]在本實用新型一或多個實施方式中，該外側擋板的一內側表面延伸至該底部收集盤。
[0019]在本實用新型一或多個實施方式中，該流體工藝處理裝置還包含一氣箱，其連接至該底部收集盤的該抽氣口。
[0020]在本實用新型一或多個實施方式中，該底部收集盤的氣體通道大于通過該收集環模塊的氣體信道。
[0021]在本實用新型一或多個實施方式中，該固定裝置為一真空裝置，且該基板固定單元還包含一彈性膠卷，該彈性膠卷圍繞設置于該載臺的頂面周緣，以在該真空裝置運作時該彈性膠卷吸附于該基板的底部。
[0022]本實用新型上述實施方式與已知【背景技術】相較，可防止不同流體間的互相污染。
【附圖說明】
[0023]以下借由具體實施例配合所附的圖式詳加說明，更容易了解本實用新型的目的、技術內容、特點及其所達成的功效。
[0024]圖1是本實用新型一具體實施例的流體工藝處理裝置的收集單元內部結構的概略剖面示意圖一。
[0025]圖2是本實用新型一具體實施例的流體工藝處理裝置的收集單元內部結構的概略剖面示意圖二。
[0026]圖3是本實用新型一具體實施例的流體工藝處理裝置中施加處理液至基板時收集單元內部運作狀態的概略剖面示意圖。
[0027]圖4是本實用新型一具體實施例的流體工藝處理裝置中施加處理液至基板時收集單元內部運作狀態的概略剖面示意圖。
[0028]圖5是本實用新型一具體實施例的流體工藝處理裝置中施加處理液至基板時收集單元內部運作狀態的概略剖面示意圖。
[0029]圖6是本實用新型一具體實施例的流體工藝處理裝置中施加處理液至基板時收集單元內部運作狀態的概略剖面示意圖。
[0030]符號說明
[0031]10 基座
[0032]20 旋轉馬達
[0033]30 基板固定單元
[0034]31 載臺
[0035]32 固定裝置
[0036]33 彈性膠卷
[0037]40 收集單元
[0038]41 收集環模塊
[0039]411 第一收集環
[0040]411a第一環狀集液槽
[0041]411b第二環狀集液槽
[0042]411c伸縮排液管
[0043]41 Id 第一擋板
[0044]412 第二收集環
[0045]412a第三環狀集液槽
[0046]412b 第二擋板
[0047]412c第二突出部
[0048]413 第三收集環
[0049]413a第三擋板
[0050]413b第三突出部<