掩模組件、用于制造顯示設備的裝置和方法
【專利說明】掩模組件、用于制造顯示設備的裝置和方法
[0001]相關申請的交叉引用
[0002]本申請要求于2014年10月17日向韓國知識產權局提交的韓國專利申請號10-的權益，通過引用將其全部公開內容結合于此。
技術領域
[0003]—個或多個示例性實施方式涉及一種掩模組件、用于制造顯示設備的裝置以及制造顯示設備的方法。
【背景技術】
[0004]便攜式電子設備的用途已顯著增加。便攜式電子設備的實例可包括小型電子設備，諸如移動電話和平板PC。
[0005]此種便攜式電子設備可包括為用戶提供視覺信息(例如，圖像)并且支持各種功能的顯示設備。由于用于驅動顯示設備的部件的大小的減小，顯示設備在電子設備中變得更加重要。另外，可從平坦狀態(例如以預定角度)彎曲的顯示設備已被考慮。

【發明內容】

[0006]一個或多個示例性實施方式包括掩模組件、通過使用該掩模組件用于制造顯示設備的裝置以及通過使用該掩模組件制造顯示設備的方法。
[0007]將在以下的描述中部分地闡述額外方面，并且額外方面的一部分將通過描述而變得顯而易見或者可通過所提出的示例性實施方式的實踐來獲悉。
[0008]根據本發明的一個方面，提供了一種掩模組件，包括:掩模，該掩模包括具有圖案的開口 ；以及自組裝單層膜(SAM)，涂敷在掩模的至少一部分上。SAM可包括:接觸掩模的頭端、連接至頭端的連接器以及連接至連接器的末端。頭端可以是親水的并且末端可以是疏水的。SAM可包括十八烷基三氯硅烷(OTS)、含氟三氯硅烷(FOTS)和二氯二甲基硅烷(DDMS)中的至少一種。SAM可被涂覆在開口的各處。SAM可被涂敷在掩模的面向沉積源的表面上。
[0009]根據本發明的另一方面，提供了一種用于制造顯示設備的裝置，該裝置包括:腔室；沉積源，設置在腔室內以容納和發射沉積材料；掩模，與沉積源分離并且包括用來在基板上形成圖案的開口，其中，自組裝單層膜(SAM)被涂敷在掩模的至少一部分上。SAM可包括:接觸掩模的頭端、連接至該頭端的連接器以及連接至連接器的末端。頭端可以是親水的并且末端可以是疏水的。SAM可包括十八烷基三氯硅烷(OTS)、含氟三氯硅烷(FOTS)和二氯二甲基硅烷(DDMS)中的至少一種。SAM可被涂覆在開口的各處。SAM可被涂敷在掩模的面向沉積源的表面上。
[0010]根據本發明的又一方面，提供了一種制造顯示設備的方法，該方法包括:設置包括沉積源的腔室，沉積源在內部容納沉積材料；將基板和掩模插入到腔室中，該掩模介于沉積源與基板之間并且包括開口 ；將基板和掩模對準；并且通過加熱沉積源將沉積材料經由掩模中的開口沉積在基板上，其中，自組裝單層膜(SAM)被涂敷在掩模的至少一部分上。SAM可包括接觸掩模的頭端、連接至該頭端的連接器以及連接至連接器的末端。頭端可以是親水的并且末端可以是疏水的。SAM可包括十八烷基三氯硅烷(OTS)、含氟三氯硅烷(FOTS)和二氯二甲基硅烷(DDMS)中的至少一種。SAM可被涂覆在開口各處。SAM可被涂敷在掩模的面向沉積源的表面上。
[0011]通過使用系統、方法、計算機程序或者系統、方法和計算機程序的組合可以實現這些一般和特定的實施方式。
【附圖說明】
[0012]當結合附圖考慮時，通過參考以下詳細說明，隨著本發明變得更好理解，本發明的更完整的理解及其許多附帶優點將易于顯而易見，在附圖中，相同參考符號表示相同或者相似的部件，其中:
[0013]圖1是根據示例性實施方式的用于制造顯示設備的裝置的概念圖；
[0014]圖2A、圖2B和圖2C是圖1的掩模組件的概念圖；
[0015]圖3是圖2B的部分A的放大圖；以及
[0016]圖4是通過使用圖1的裝置制造的顯示設備的一部分的截面圖。
【具體實施方式】
[0017]現將詳細參考示例性實施方式，示例性實施方式的實例在附圖中示出，其中，貫穿全文，相同參考標號指代相同元件。就此而言，本示例性實施方式可具有不同的形式并且不應被解釋為局限于本文所闡述的描述。相應地，在以下通過參照附圖僅描述示例性實施方式，以說明本描述的各個方面。如本文中所使用的，術語“和/或”包括相關列出項中的一個或多個的任何與全部組合。諸如“……中的至少一個”的表述在一系列元件之前時，其修飾整個系列的元件，而不是修飾系列中的個別元件。
[0018]由于本發明構思容許各種改變和許多實施方式，【具體實施方式】將在附圖中示出并且在書面說明中進行詳細地描述。參考以下對照附圖詳細描述的示例性實施方式，本發明構思的效果和特征以及實現該效果和特征的方法將清晰可見。然而，本發明構思可以各種形式來體現并且不應被解釋為局限于示例性實施方式。
[0019]在下文中，將參照附圖詳細描述本發明構思的示例性實施方式。附圖中相同參考標號表示相同元件，并且因此將不重復對它們的描述。
[0020]應當理解的是，盡管本文中可使用術語“第一”、“第二”等來描述各種部件，但是這些部件不應受這些術語的限制。這些部件僅用于區分一個部件與另一個部件。
[0021]除非上下文另有明確說明，否則如本文中使用的，單數形式“一 (a) ”、“一個(an) ”和“該(the) ”旨在也包括復數形式。
[0022]應當進一步理解的是，本文中使用的術語“包括”和/或“包含”指定存在所陳述的特征或部件，但是不排除存在或者添加一個或多個其他特征或部件。
[0023]應當理解的是，當層、區域或部件相對另一層、區域或部件被稱為“形成在其上”時，其可以直接或間接地形成在另一層、區域或部件之上。即，例如，可存在中間層、中間區域或中間部件。
[0024]為了便于說明，可放大附圖中部件的大小。換言之，因為附圖中的部件的大小和厚度為了說明的方便而任意示出，所以以下實施方式不限于此。
[0025]在以下實例中，X軸、y軸和z軸不局限于直角坐標系的三個軸，并且可以在更廣泛的意義上進行解釋。例如，X軸、y軸和Z軸可以彼此垂直，或者可以代表不彼此垂直的不同方向。
[0026]當某些實施方式可被不同地實現時，可以與描述的次序不同地執行特定工序次序。例如，可以基本上同時執行或者以與所描述的次序相反的次序執行兩個連續描述的工序。
[0027]現在轉至圖1至圖2C，圖1是根據示例性實施方式的用于制造顯示設備的裝置100的概念圖，圖2A、圖2B和圖2C是圖1的掩模組件130的概念圖，以及圖3是圖2B的部分A的放大圖。
[0028]參照圖1至圖3，用于制造顯示設備的裝置100可包括腔室110、沉積源120、掩模組件130、基板固定單元140、掩模支撐單元150以及抽吸單元160。
[0029]掩模組件130和基板210會被插入腔室110的內部區域并且布置在腔室110的內部區域內。因此，除了經由閘門閥111連接至外部的一部分外，腔室110的內部區域會從外部完全阻擋。
[0030]沉積源120可以蒸發沉積材料并且將所蒸發的沉積材料噴出至外部。可以使