本文(wen)提供的實施例一(yi)般涉及(ji)帶電粒(li)子(zi)(zi)設備、帶電粒(li)子(zi)(zi)評估裝置、用于測(ce)量(liang)參(can)數的方(fang)法以(yi)及(ji)用于監測(ce)參(can)數的方(fang)法。

背景技術：

1、在(zai)制(zhi)造半導體(ti)集成電路(lu)(ic)芯(xin)片時，在(zai)制(zhi)造過(guo)程(cheng)期(qi)間(jian)，襯(chen)底(即，晶片)或(huo)(huo)掩模上經常會出現不(bu)期(qi)望的(de)圖案(an)缺陷，從而降低(di)產率(lv)。此類缺陷可能是由于光學效應和偶然(ran)粒子以(yi)及(ji)諸(zhu)如(ru)蝕刻(ke)、沉(chen)積(ji)或(huo)(huo)化學機械拋光等后(hou)(hou)續處理步驟而產生的(de)。因此，監測(ce)不(bu)希望的(de)圖案(an)缺陷的(de)程(cheng)度是ic芯(xin)片制(zhi)造中(zhong)的(de)重要過(guo)程(cheng)。更(geng)一(yi)般地說，檢查和/或(huo)(huo)測(ce)量(liang)襯(chen)底或(huo)(huo)其他物體(ti)/材料的(de)表面是制(zhi)造期(qi)間(jian)和/或(huo)(huo)制(zhi)造后(hou)(hou)的(de)一(yi)個重要過(guo)程(cheng)。

2、帶有帶電(dian)(dian)(dian)(dian)粒(li)子(zi)束的(de)(de)圖案檢(jian)查工具已用(yong)于檢(jian)查物(wu)體，例如檢(jian)測圖案缺陷。這(zhe)些工具通(tong)常使用(yong)電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)顯(xian)微(wei)鏡(jing)技術，諸如掃(sao)描電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)顯(xian)微(wei)鏡(jing)(sem)。在(zai)(zai)sem中(zhong)，相對高能量的(de)(de)電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)的(de)(de)初級電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)束以最(zui)終減速步(bu)驟為目(mu)標，以便以相對較低的(de)(de)著陸能量著陸在(zai)(zai)樣品(pin)上。電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)束聚焦為樣品(pin)上的(de)(de)探測點。探測點處(chu)的(de)(de)材料結(jie)(jie)構與來自(zi)電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)束的(de)(de)著陸電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)之間的(de)(de)相互(hu)作用(yong)導(dao)致從(cong)表(biao)(biao)面(mian)(mian)發射電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)，例如次(ci)級電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)、背散(san)射電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)或俄歇電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)。產生的(de)(de)次(ci)級電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)可以從(cong)樣品(pin)的(de)(de)材料結(jie)(jie)構發射。通(tong)過(guo)在(zai)(zai)樣品(pin)表(biao)(biao)面(mian)(mian)上將初級電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)束作為探測點進行掃(sao)描，可以橫跨樣品(pin)表(biao)(biao)面(mian)(mian)發射次(ci)級電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)。通(tong)過(guo)從(cong)樣品(pin)表(biao)(biao)面(mian)(mian)收集這(zhe)些發射的(de)(de)次(ci)級電(dian)(dian)(dian)(dian)子(zi)，圖案檢(jian)查工具可以獲得(de)表(biao)(biao)示樣品(pin)表(biao)(biao)面(mian)(mian)的(de)(de)材料結(jie)(jie)構特征的(de)(de)圖像。

3、初級電(dian)子(zi)束的(de)均勻性(xing)和/或其他參數可能會發(fa)生變化。通常需要改進對(dui)初級電(dian)子(zi)束的(de)參數的(de)測量和/或監(jian)測。

技術實現思路

1、根據本發明的一個(ge)方(fang)面(mian)，提供了一種用(yong)于(yu)帶(dai)(dai)(dai)電(dian)(dian)粒(li)(li)(li)子(zi)檢查(cha)裝(zhuang)置(zhi)的帶(dai)(dai)(dai)電(dian)(dian)粒(li)(li)(li)子(zi)設(she)備，該帶(dai)(dai)(dai)電(dian)(dian)粒(li)(li)(li)子(zi)檢查(cha)裝(zhuang)置(zhi)用(yong)于(yu)將子(zi)射(she)束(shu)(shu)陣列朝向樣品投射(she)，該帶(dai)(dai)(dai)電(dian)(dian)粒(li)(li)(li)子(zi)設(she)備包(bao)括：帶(dai)(dai)(dai)電(dian)(dian)粒(li)(li)(li)子(zi)光(guang)學元(yuan)(yuan)件(jian)，包(bao)括上(shang)游(you)表面(mian)，其(qi)中限(xian)定了多個(ge)開(kai)(kai)口，該多個(ge)開(kai)(kai)口被配(pei)置(zhi)為(wei)(wei)從帶(dai)(dai)(dai)電(dian)(dian)粒(li)(li)(li)子(zi)束(shu)(shu)生成子(zi)射(she)束(shu)(shu)陣列，在帶(dai)(dai)(dai)電(dian)(dian)粒(li)(li)(li)子(zi)光(guang)學元(yuan)(yuan)件(jian)中限(xian)定了：穿過(guo)(guo)帶(dai)(dai)(dai)電(dian)(dian)粒(li)(li)(li)子(zi)元(yuan)(yuan)件(jian)的子(zi)射(she)束(shu)(shu)孔(kong)徑，用(yong)于(yu)子(zi)射(she)束(shu)(shu)陣列沿著(zhu)朝向樣品的子(zi)射(she)束(shu)(shu)路徑；以及延伸穿過(guo)(guo)帶(dai)(dai)(dai)電(dian)(dian)粒(li)(li)(li)子(zi)元(yuan)(yuan)件(jian)的監測孔(kong)徑；以及定位(wei)在監測孔(kong)徑中的檢測器(qi)(qi)，其(qi)至少(shao)一部分是(shi)上(shang)游(you)表面(mian)的下游(you)，其(qi)中檢測器(qi)(qi)被配(pei)置(zhi)為(wei)(wei)測量(liang)入射(she)到(dao)檢測器(qi)(qi)上(shang)的帶(dai)(dai)(dai)電(dian)(dian)粒(li)(li)(li)子(zi)束(shu)(shu)的一部分的參(can)數。

2、根據本發明(ming)的(de)(de)一(yi)(yi)個方(fang)面，提供了(le)一(yi)(yi)種用于帶電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)檢查裝(zhuang)置(zhi)(zhi)的(de)(de)帶電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)設備，該帶電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)檢查裝(zhuang)置(zhi)(zhi)用于將子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)陣列朝(chao)向樣(yang)(yang)品投射(she)(she)，該帶電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)設備包(bao)括：上游(you)帶電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)光(guang)學(xue)元(yuan)件(jian)(jian)，包(bao)括上游(you)表面，其中限(xian)(xian)定(ding)了(le)穿過帶電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)元(yuan)件(jian)(jian)的(de)(de)多(duo)個孔(kong)(kong)(kong)徑(jing)(jing)，該多(duo)個孔(kong)(kong)(kong)徑(jing)(jing)被(bei)配(pei)置(zhi)(zhi)為與多(duo)個射(she)(she)束(shu)(shu)的(de)(de)路徑(jing)(jing)對(dui)準(zhun)，多(duo)個射(she)(she)束(shu)(shu)包(bao)括子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)陣列和監測射(she)(she)束(shu)(shu)；以及(ji)下游(you)帶電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)光(guang)學(xue)元(yuan)件(jian)(jian)，其中限(xian)(xian)定(ding)了(le)多(duo)個孔(kong)(kong)(kong)徑(jing)(jing)，該多(duo)個孔(kong)(kong)(kong)徑(jing)(jing)被(bei)配(pei)置(zhi)(zhi)用于與在上游(you)帶電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)光(guang)學(xue)元(yuan)件(jian)(jian)中限(xian)(xian)定(ding)的(de)(de)開(kai)口對(dui)準(zhun)，這些孔(kong)(kong)(kong)徑(jing)(jing)包(bao)括：至(zhi)少一(yi)(yi)個穿過帶電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)元(yuan)件(jian)(jian)的(de)(de)子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)孔(kong)(kong)(kong)徑(jing)(jing)，并且(qie)(qie)被(bei)配(pei)置(zhi)(zhi)用于子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)陣列朝(chao)向樣(yang)(yang)品的(de)(de)位置(zhi)(zhi)的(de)(de)路徑(jing)(jing)；以及(ji)監測孔(kong)(kong)(kong)徑(jing)(jing)，被(bei)配(pei)置(zhi)(zhi)用于監測監測射(she)(she)束(shu)(shu)；以及(ji)檢測器(qi)包(bao)括在監測孔(kong)(kong)(kong)徑(jing)(jing)內(nei)并且(qie)(qie)配(pei)置(zhi)(zhi)為測量對(dui)應監測射(she)(she)束(shu)(shu)的(de)(de)參(can)數(shu)的(de)(de)檢測器(qi)。

3、根據本發明(ming)的(de)(de)一(yi)個(ge)方面，提(ti)供了一(yi)種(zhong)用于帶電(dian)粒(li)子(zi)(zi)(zi)檢(jian)(jian)(jian)查(cha)裝置(zhi)的(de)(de)帶電(dian)粒(li)子(zi)(zi)(zi)設(she)備，該(gai)帶電(dian)粒(li)子(zi)(zi)(zi)檢(jian)(jian)(jian)查(cha)裝置(zhi)被(bei)配(pei)(pei)置(zhi)為將子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)(she)(she)束(shu)(shu)陣(zhen)(zhen)列朝向(xiang)樣(yang)(yang)品(pin)(pin)投(tou)射(she)(she)(she)(she)(she)，該(gai)帶電(dian)粒(li)子(zi)(zi)(zi)設(she)備包(bao)括：上游(you)帶電(dian)粒(li)子(zi)(zi)(zi)光學(xue)元(yuan)件，其(qi)中(zhong)限定了穿過(guo)其(qi)的(de)(de)子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)(she)(she)束(shu)(shu)孔(kong)徑(jing)(jing)，子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)(she)(she)束(shu)(shu)孔(kong)徑(jing)(jing)被(bei)配(pei)(pei)置(zhi)用于與(yu)(yu)子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)(she)(she)束(shu)(shu)陣(zhen)(zhen)列的(de)(de)子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)(she)(she)束(shu)(shu)朝向(xiang)樣(yang)(yang)品(pin)(pin)的(de)(de)路徑(jing)(jing)對準(zhun)；下(xia)(xia)游(you)帶電(dian)粒(li)子(zi)(zi)(zi)光學(xue)元(yuan)件，其(qi)中(zhong)限定了穿過(guo)其(qi)的(de)(de)下(xia)(xia)游(you)子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)(she)(she)束(shu)(shu)孔(kong)徑(jing)(jing)，多個(ge)孔(kong)徑(jing)(jing)被(bei)配(pei)(pei)置(zhi)用于與(yu)(yu)子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)(she)(she)束(shu)(shu)陣(zhen)(zhen)列的(de)(de)子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)(she)(she)束(shu)(shu)朝向(xiang)樣(yang)(yang)品(pin)(pin)的(de)(de)路徑(jing)(jing)對準(zhun)；以(yi)及檢(jian)(jian)(jian)測器陣(zhen)(zhen)列，被(bei)配(pei)(pei)置(zhi)為測量(liang)子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)(she)(she)束(shu)(shu)的(de)(de)參數；以(yi)及致動裝置(zhi)，被(bei)配(pei)(pei)置(zhi)為將子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)(she)(she)束(shu)(shu)的(de)(de)路徑(jing)(jing)導向(xiang)檢(jian)(jian)(jian)測器陣(zhen)(zhen)列，其(qi)中(zhong)檢(jian)(jian)(jian)測器陣(zhen)(zhen)列被(bei)定位在下(xia)(xia)游(you)子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)(she)(she)束(shu)(shu)孔(kong)徑(jing)(jing)的(de)(de)徑(jing)(jing)向(xiang)外側。

4、根據本發明的(de)(de)(de)(de)一(yi)個方面，提供(gong)了一(yi)種用于帶(dai)電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)檢(jian)(jian)查裝置(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)(de)帶(dai)電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)設(she)(she)備，該帶(dai)電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)檢(jian)(jian)查裝置(zhi)(zhi)被配(pei)(pei)置(zhi)(zhi)為(wei)將子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)陣列(lie)(lie)朝(chao)向(xiang)(xiang)(xiang)樣(yang)(yang)品(pin)投射(she)(she)，該帶(dai)電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)設(she)(she)備包(bao)括：上游(you)帶(dai)電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)光學元(yuan)(yuan)(yuan)件(jian)，其(qi)中(zhong)(zhong)限(xian)定了穿(chuan)過其(qi)的(de)(de)(de)(de)子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)孔(kong)徑(jing)(jing)，該子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)孔(kong)徑(jing)(jing)被配(pei)(pei)置(zhi)(zhi)用于與(yu)朝(chao)向(xiang)(xiang)(xiang)樣(yang)(yang)品(pin)的(de)(de)(de)(de)子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)陣列(lie)(lie)的(de)(de)(de)(de)子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)的(de)(de)(de)(de)路(lu)(lu)徑(jing)(jing)對(dui)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)；下游(you)帶(dai)電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)光學元(yuan)(yuan)(yuan)件(jian)，其(qi)中(zhong)(zhong)限(xian)定了穿(chuan)過其(qi)的(de)(de)(de)(de)多(duo)個子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)孔(kong)徑(jing)(jing)，孔(kong)徑(jing)(jing)被配(pei)(pei)置(zhi)(zhi)用于與(yu)朝(chao)向(xiang)(xiang)(xiang)樣(yang)(yang)品(pin)的(de)(de)(de)(de)子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)陣列(lie)(lie)的(de)(de)(de)(de)子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)路(lu)(lu)徑(jing)(jing)對(dui)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)；以及(ji)檢(jian)(jian)測(ce)(ce)器(qi)(qi)(qi)陣列(lie)(lie)，被配(pei)(pei)置(zhi)(zhi)為(wei)測(ce)(ce)量子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)的(de)(de)(de)(de)參數；以及(ji)偏(pian)(pian)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)器(qi)(qi)(qi)設(she)(she)備，所述偏(pian)(pian)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)器(qi)(qi)(qi)設(she)(she)備被配(pei)(pei)置(zhi)(zhi)為(wei)將子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)的(de)(de)(de)(de)路(lu)(lu)徑(jing)(jing)偏(pian)(pian)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)到檢(jian)(jian)測(ce)(ce)器(qi)(qi)(qi)陣列(lie)(lie)，a)其(qi)中(zhong)(zhong)，檢(jian)(jian)測(ce)(ce)器(qi)(qi)(qi)陣列(lie)(lie)包(bao)括位于子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)路(lu)(lu)徑(jing)(jing)之間(jian)的(de)(de)(de)(de)檢(jian)(jian)測(ce)(ce)器(qi)(qi)(qi)元(yuan)(yuan)(yuan)件(jian)，并(bing)且(qie)偏(pian)(pian)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)器(qi)(qi)(qi)設(she)(she)備被配(pei)(pei)置(zhi)(zhi)為(wei)在所有子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)路(lu)(lu)徑(jing)(jing)上操作(zuo)以將子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)的(de)(de)(de)(de)路(lu)(lu)徑(jing)(jing)同時沿相(xiang)同方向(xiang)(xiang)(xiang)朝(chao)向(xiang)(xiang)(xiang)檢(jian)(jian)測(ce)(ce)器(qi)(qi)(qi)偏(pian)(pian)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)；或者(zhe)(zhe)b)還包(bao)括準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)直(zhi)器(qi)(qi)(qi)，其(qi)被配(pei)(pei)置(zhi)(zhi)為(wei)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)直(zhi)穿(chuan)過下游(you)帶(dai)電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)光學元(yuan)(yuan)(yuan)件(jian)朝(chao)向(xiang)(xiang)(xiang)樣(yang)(yang)品(pin)的(de)(de)(de)(de)子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)路(lu)(lu)徑(jing)(jing)，其(qi)中(zhong)(zhong)偏(pian)(pian)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)器(qi)(qi)(qi)陣列(lie)(lie)位于偏(pian)(pian)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)器(qi)(qi)(qi)設(she)(she)備和準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)直(zhi)器(qi)(qi)(qi)之間(jian)；或者(zhe)(zhe)c)其(qi)中(zhong)(zhong)檢(jian)(jian)測(ce)(ce)器(qi)(qi)(qi)陣列(lie)(lie)集成到期(qi)(qi)望是準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)直(zhi)器(qi)(qi)(qi)陣列(lie)(lie)的(de)(de)(de)(de)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)直(zhi)器(qi)(qi)(qi)中(zhong)(zhong)；或者(zhe)(zhe)d)其(qi)中(zhong)(zhong)偏(pian)(pian)轉(zhuan)(zhuan)(zhuan)器(qi)(qi)(qi)設(she)(she)備是期(qi)(qi)望為(wei)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)直(zhi)器(qi)(qi)(qi)陣列(lie)(lie)的(de)(de)(de)(de)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)直(zhi)器(qi)(qi)(qi)，其(qi)被配(pei)(pei)置(zhi)(zhi)為(wei)準(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)(zhun)直(zhi)穿(chuan)過下游(you)帶(dai)電(dian)(dian)粒子(zi)(zi)光學元(yuan)(yuan)(yuan)件(jian)朝(chao)向(xiang)(xiang)(xiang)樣(yang)(yang)品(pin)的(de)(de)(de)(de)子(zi)(zi)射(she)(she)束(shu)(shu)的(de)(de)(de)(de)路(lu)(lu)徑(jing)(jing)。

5、根據本(ben)發明的(de)(de)(de)一(yi)(yi)個方面，提供了一(yi)(yi)種測量(liang)帶(dai)電(dian)(dian)粒(li)子(zi)束的(de)(de)(de)參數(shu)的(de)(de)(de)方法，該方法包(bao)括(kuo)(kuo)：通過限(xian)定(ding)(ding)在帶(dai)電(dian)(dian)粒(li)子(zi)設備的(de)(de)(de)帶(dai)電(dian)(dian)粒(li)子(zi)光(guang)學(xue)元(yuan)(yuan)件(jian)的(de)(de)(de)上(shang)游表面中的(de)(de)(de)對應開口投射(she)(she)子(zi)射(she)(she)束陣列(lie)，子(zi)射(she)(she)束包(bao)括(kuo)(kuo)子(zi)射(she)(she)束陣列(lie)和監測射(she)(she)束，并且開口包(bao)括(kuo)(kuo)延伸穿(chuan)過帶(dai)電(dian)(dian)粒(li)子(zi)光(guang)學(xue)元(yuan)(yuan)件(jian)的(de)(de)(de)多個子(zi)射(she)(she)束孔(kong)徑(jing)和延伸穿(chuan)過帶(dai)電(dian)(dian)粒(li)子(zi)光(guang)學(xue)元(yuan)(yuan)件(jian)的(de)(de)(de)監測孔(kong)徑(jing)，其中投射(she)(she)包(bao)括(kuo)(kuo)通過穿(chuan)過帶(dai)電(dian)(dian)粒(li)子(zi)光(guang)學(xue)元(yuan)(yuan)件(jian)的(de)(de)(de)對應子(zi)射(she)(she)束孔(kong)徑(jing)沿(yan)著子(zi)射(she)(she)束路徑(jing)朝向樣(yang)品投射(she)(she)子(zi)射(she)(she)束陣列(lie)；以及檢(jian)測監測射(she)(she)束的(de)(de)(de)參數(shu)，該檢(jian)測包(bao)括(kuo)(kuo)使用定(ding)(ding)位在監測孔(kong)徑(jing)和上(shang)游表面的(de)(de)(de)下游中的(de)(de)(de)檢(jian)測器。

6、根據本發(fa)明(ming)的(de)一(yi)(yi)個(ge)方面，提(ti)供了一(yi)(yi)種(zhong)測(ce)(ce)量帶電(dian)(dian)粒(li)子(zi)束的(de)參數(shu)的(de)方法，該方法包(bao)括(kuo)(kuo)(kuo)：通過穿過帶電(dian)(dian)粒(li)子(zi)設備的(de)上游(you)帶電(dian)(dian)粒(li)子(zi)光(guang)學元(yuan)(yuan)(yuan)件(jian)的(de)對應(ying)孔徑(jing)投射(she)多個(ge)射(she)束，該多個(ge)射(she)束包(bao)括(kuo)(kuo)(kuo)子(zi)射(she)束陣(zhen)列(lie)和監(jian)測(ce)(ce)射(she)束，該投射(she)還包(bao)括(kuo)(kuo)(kuo)：穿過通過下游(you)帶電(dian)(dian)粒(li)子(zi)光(guang)學元(yuan)(yuan)(yuan)件(jian)限定(ding)的(de)至少一(yi)(yi)個(ge)子(zi)射(she)束孔徑(jing)將子(zi)射(she)束陣(zhen)列(lie)朝(chao)向(xiang)樣品(pin)投射(she)；以及(ji)將監(jian)測(ce)(ce)射(she)束朝(chao)向(xiang)檢測(ce)(ce)器投射(she)；以及(ji)在檢測(ce)(ce)器處檢測(ce)(ce)監(jian)測(ce)(ce)射(she)束的(de)參數(shu)，其中下游(you)帶電(dian)(dian)粒(li)子(zi)光(guang)學元(yuan)(yuan)(yuan)件(jian)包(bao)括(kuo)(kuo)(kuo)檢測(ce)(ce)器。

7、根(gen)據本發(fa)明的(de)(de)(de)一(yi)個(ge)方(fang)面，提供了(le)一(yi)種測(ce)量帶(dai)電(dian)(dian)粒子束的(de)(de)(de)參(can)數(shu)的(de)(de)(de)方(fang)法，該方(fang)法包括：通過限定在上(shang)游帶(dai)電(dian)(dian)粒子光學元(yuan)件(jian)中的(de)(de)(de)子射(she)束孔徑和限定在下游帶(dai)電(dian)(dian)粒子光學元(yuan)件(jian)中的(de)(de)(de)子射(she)束孔徑，沿子射(she)束路徑將子射(she)束陣列朝向樣(yang)品投射(she)；使用致動(dong)裝置(zhi)將子射(she)束陣列的(de)(de)(de)至(zhi)少一(yi)部分引導到檢測(ce)器陣列；以(yi)及檢測(ce)所(suo)檢測(ce)的(de)(de)(de)子射(she)束的(de)(de)(de)參(can)數(shu)，其中檢測(ce)器陣列被定位(wei)在致動(dong)裝置(zhi)的(de)(de)(de)下游，并且(qie)在下游帶(dai)電(dian)(dian)粒子光學元(yuan)件(jian)中的(de)(de)(de)子射(she)束孔徑的(de)(de)(de)徑向外(wai)側(ce)。

8、根(gen)據本發明的(de)(de)一個方(fang)面，提供了一種測(ce)(ce)量帶(dai)電(dian)粒(li)(li)子(zi)(zi)(zi)束(shu)(shu)(shu)的(de)(de)參(can)數(shu)的(de)(de)方(fang)法，該方(fang)法包括：通(tong)過限定在上游(you)帶(dai)電(dian)粒(li)(li)子(zi)(zi)(zi)光(guang)學元(yuan)件中(zhong)(zhong)的(de)(de)子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)束(shu)(shu)(shu)孔徑(jing)(jing)和限定在下(xia)游(you)帶(dai)電(dian)粒(li)(li)子(zi)(zi)(zi)光(guang)學元(yuan)件中(zhong)(zhong)的(de)(de)子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)束(shu)(shu)(shu)孔徑(jing)(jing)，沿著子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)束(shu)(shu)(shu)路(lu)徑(jing)(jing)將子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)束(shu)(shu)(shu)陣列(lie)朝向樣品(pin)投射(she)(she)(she)；將子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)束(shu)(shu)(shu)陣列(lie)偏轉(zhuan)到(dao)檢(jian)測(ce)(ce)器陣列(lie)；以及(ji)檢(jian)測(ce)(ce)所檢(jian)測(ce)(ce)的(de)(de)子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)束(shu)(shu)(shu)的(de)(de)參(can)數(shu)，其中(zhong)(zhong)檢(jian)測(ce)(ce)器陣列(lie)定位(wei)在子(zi)(zi)(zi)射(she)(she)(she)束(shu)(shu)(shu)路(lu)徑(jing)(jing)之(zhi)間的(de)(de)偏轉(zhuan)射(she)(she)(she)束(shu)(shu)(shu)的(de)(de)下(xia)游(you)。

9、根據本(ben)發明的(de)(de)一個(ge)(ge)方面，提(ti)供了一種在(zai)包(bao)(bao)括多(duo)射(she)束(shu)(shu)帶(dai)電(dian)粒子(zi)設(she)(she)備的(de)(de)評估(gu)裝(zhuang)置(zhi)中監測帶(dai)電(dian)粒子(zi)束(shu)(shu)的(de)(de)參數(shu)的(de)(de)方法，該(gai)(gai)(gai)方法包(bao)(bao)括：在(zai)樣(yang)品(pin)(pin)支(zhi)撐(cheng)件上支(zhi)撐(cheng)樣(yang)品(pin)(pin)，該(gai)(gai)(gai)樣(yang)品(pin)(pin)包(bao)(bao)括抗(kang)(kang)(kang)蝕劑層，該(gai)(gai)(gai)抗(kang)(kang)(kang)蝕劑層面向多(duo)射(she)束(shu)(shu)帶(dai)電(dian)粒子(zi)設(she)(she)備；利用多(duo)個(ge)(ge)子(zi)射(she)束(shu)(shu)曝光該(gai)(gai)(gai)抗(kang)(kang)(kang)蝕劑層；處理在(zai)抗(kang)(kang)(kang)蝕劑層中形成(cheng)與多(duo)個(ge)(ge)子(zi)射(she)束(shu)(shu)的(de)(de)曝光相對應的(de)(de)圖(tu)案的(de)(de)樣(yang)品(pin)(pin)；以及評估(gu)該(gai)(gai)(gai)圖(tu)案以確定多(duo)個(ge)(ge)子(zi)射(she)束(shu)(shu)中的(de)(de)至少一個(ge)(ge)子(zi)射(she)束(shu)(shu)的(de)(de)參數(shu)。

10、根據本(ben)發明的一個(ge)(ge)(ge)(ge)方面，提供(gong)了一種用于向(xiang)樣(yang)(yang)品(pin)投射多(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)(ge)子射束的帶電粒(li)子評估(gu)裝(zhuang)置(zhi)，該(gai)裝(zhuang)置(zhi)包括：樣(yang)(yang)品(pin)支(zhi)撐件(jian)，被(bei)(bei)配(pei)(pei)置(zhi)為支(zhi)撐樣(yang)(yang)品(pin)；多(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)(ge)帶電粒(li)子光學(xue)元件(jian)，其中(zhong)限定了多(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)(ge)孔(kong)徑，該(gai)多(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)(ge)孔(kong)徑被(bei)(bei)配(pei)(pei)置(zhi)用于與另一帶電粒(li)子光學(xue)元件(jian)中(zhong)的對(dui)應孔(kong)徑以(yi)及朝(chao)向(xiang)樣(yang)(yang)品(pin)的多(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)(ge)子射束的路(lu)徑對(dui)準；檢測器，被(bei)(bei)配(pei)(pei)置(zhi)為響應于多(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)(ge)子射束而檢測來自樣(yang)(yang)品(pin)的信(xin)號粒(li)子以(yi)對(dui)樣(yang)(yang)品(pin)進行評估(gu)，其中(zhong)評估(gu)裝(zhuang)置(zhi)被(bei)(bei)配(pei)(pei)置(zhi)為曝光抗蝕劑涂覆(fu)的樣(yang)(yang)品(pin)，以(yi)便(bian)監測一個(ge)(ge)(ge)(ge)或多(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)(ge)子射束的一個(ge)(ge)(ge)(ge)或多(duo)(duo)個(ge)(ge)(ge)(ge)參(can)數。