成11)
[0053] -種磁盤用玻璃基板的制造方法，其包括使堿性的清洗液與研磨成鏡面的玻璃基 板的表面接觸而進行清洗的清洗處理，其特征在于，上述玻璃基板在玻璃成分中含有鋼和 鐘中的至少一種成分，上述清洗處理中使用的清洗液含有選自四甲基氨氧化錠、N，N'-四甲 基乙二胺和N，N'-四甲基乙二胺的衍生物中的至少一種堿性試劑，預先求出上述清洗處理 后的玻璃基板主表面的表面粗糖度(Ra)相對于上述清洗處理前的增大量與上述清洗液中 的鋼離子和鐘離子的總量的關系，基于求出的上述關系，確定上述表面粗糖度(Ra)的增大 量為0.05nmW下時的上述清洗液中的鋼離子和鐘離子的總量，維持使上述清洗液中的鋼離 子和鐘離子的總量為上述確定的總量W下的條件來進行上述清洗處理。
[0054] (構成12)
[0055] 如構成1~5、7~10中任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上 述清洗處理后的玻璃基板主表面的表面粗糖度(Ra)與即將進行上述清洗處理之前的玻璃 基板主表面的表面粗糖度(Ra)之差為0.05nmW內。
[0056] (構成13)
[0057] 如構成1~12中任一項所述的磁盤用玻璃基板的制造方法，其特征在于，上述清洗 處理是在使用含有二氧化娃研磨磨粒的調節至酸性范圍的研磨液對上述玻璃基板的主表 面進行研磨的研磨工序之后進行的清洗處理。
[005引（構成14)
[0059] -種磁盤的制造方法，其特征在于，在通過構成1~13中任一項所述的磁盤用玻璃 基板的制造方法制造而成的磁盤用玻璃基板上至少形成磁記錄層。
[0060] 發明的效果
[0061] 根據本發明，能夠提供一種磁盤用玻璃基板的制造方法，該方法能夠在盡量不使 通過精密研磨而得到的高平滑的表面狀態劣化的情況下實施清洗處理，其結果，能夠達到 超低粗糖度(高平滑性）。另外，根據本發明，能夠提供一種磁盤用玻璃基板的制造方法，該 方法能夠在維持通過精密研磨而得到的高平滑性的同時實施高潔凈的清洗。根據運樣的本 發明，能夠制造可使基板主表面的粗糖度比W往顯著降低、且由異物附著等導致的表面缺 陷比現有產品減少的高品質的磁盤用玻璃基板。通過本發明得到的磁盤用玻璃基板可W適 合用作特別是對基板表面品質的要求與幾年前相比格外嚴格的目前的磁盤用玻璃基板。另 外，利用通過本發明得到的玻璃基板，即使在與搭載有DFH功能的極低懸浮量的設計的磁頭 進行組合的情況下，也能夠得到可長期穩定工作的可靠性高的磁盤。
【附圖說明】
[0062] 圖1為磁盤用玻璃基板的截面圖。
[0063] 圖2為磁盤用玻璃基板的整體立體圖。
【具體實施方式】
[0064] W下，對本發明的實施方式詳細地進行說明。
[0065] 磁盤用玻璃基板通常經過磨削處理、主表面研磨處理、化學強化處理等來制造。
[0066] 該磁盤用玻璃基板的制造中，首先，通過直接模壓由烙融玻璃成型為圓盤狀的玻 璃基板(玻璃盤）。需要說明的是，除了運樣的直接模壓W外，也可W從利用下拉法、浮法制 造而成的平板玻璃上切割成規定的尺寸而得到玻璃基板(玻璃盤）。接著，對該成型出的玻 璃基板(玻璃盤)進行用于提高尺寸精度和形狀精度的磨削加工。該磨削加工處理通常使用 雙面磨削裝置，利用金剛石等的硬質磨粒進行玻璃基板主表面的磨削。通過如此對玻璃基 板主表面進行磨削，加工為規定的板厚、平坦度，同時得到規定的表面粗糖度。
[0067] 該磨削處理結束后，進行用于得到高精度的主表面(鏡面）的研磨處理。作為玻璃 基板的研磨方法，優選在供給含有二氧化姉、膠態二氧化娃等金屬氧化物的研磨材料的漿 料(研磨液)的同時使用聚氨醋等的研磨墊進行研磨。
[0068] 研磨處理中使用的研磨液基本上為研磨材料與作為溶劑的水的組合，進一步根據 需要含有用于調節研磨液的抑的抑調節劑或其他的添加劑。
[0069] 特別地，在最終研磨中使用膠態二氧化娃磨粒進行研磨對于實現粗糖度降低是優 選的。從研磨效率的方面考慮，研磨液中含有的膠態二氧化娃的研磨磨粒優選使用平均粒 徑為10~IOOnm左右的研磨磨粒。特別地，在本發明中，從實現表面粗糖度的進一步降低的 方面考慮，拋光研磨處理(后述的后一階段的第如開磨處理）中使用的研磨液所含有的研磨 磨粒優選使用平均粒徑為10~40nm左右的研磨磨粒、特別優選10~20nm左右的微細的研磨 磨粒。但是，隨著研磨磨粒越來越微細，若其暫時吸附到玻璃基板上則難W除去。特別是膠 態二氧化娃，由于組成與玻璃基板接近，因而容易發生強吸附。本發明的清洗處理特別是在 應用于平均粒徑為20nmW下的超微小的膠態二氧化娃研磨磨粒的研磨后時，能夠在維持極 低的表面粗糖度的狀態下將研磨磨粒清洗除去，使玻璃基板表面潔凈，因而有效。
[0070] 需要說明的是，在本發明中，上述平均粒徑是指將通過光散射法測定的粒度分布 中的粉體的集團的總體積作為100%求出累積曲線時、該累積曲線達到50%時的點的粒徑 (W下稱為"累積平均粒徑(50%粒徑r)。在本發明中，具體而言，累積平均粒徑(50%粒徑） 為使用粒徑-粒度分布測定裝置測定得到的值。
[0071] 另外，用于本發明的膠態二氧化娃磨粒可W使用通過將有機娃化合物水解而生成 的膠態二氧化娃磨粒。對于運樣的磨粒而言，磨粒不易彼此聚集、難W形成粗大顆粒，因此 能夠使研磨處理后的玻璃基板的表面為極低的粗糖度且劃痕等也非常少，但是，與對水玻 璃進行離子交換處理而得到的膠態二氧化娃磨粒相比，容易牢固附著在研磨處理后的玻璃 基板表面。因此，通過應用本發明的清洗處理，能夠在維持極低的表面粗糖度的狀態下將研 磨磨粒清洗除去，使玻璃基板表面潔凈。
[0072] 在本發明中，研磨處理中的研磨方法沒有特別限定，例如，使玻璃基板與研磨墊接 觸，一邊供給含有研磨磨粒的研磨液，一邊使研磨墊與玻璃基板相對地移動，將玻璃基板的 表面研磨成鏡面狀即可。可W優選使用例如行星齒輪方式的雙面研磨裝置。
[0073] 特別是作為拋光研磨用的研磨墊，優選為軟質拋光材料的研磨墊(絨面革墊）。研 磨墊的硬度WASKER C硬度計優選為60W上且80W下。研磨墊的與玻璃基板的抵接面優選 為開口有發泡孔的發泡樹脂、特別是發泡聚氨醋。如此進行研磨時，能夠將玻璃基板的表面 研磨為平滑的鏡面狀。
[0074] (第1實施方式）
[0075] 如上述構成1所述，本發明的第1實施方式的特征在于，在上述玻璃基板主表面的 鏡面研磨處理之后進行的清洗處理中，為了降低由清洗處理導致的玻璃基板表面的粗糖， 使清洗處理中使用的清洗液含有特定的有機堿，并且在抑制清洗液中所含有的鋼離子和鐘 離子的含量的同時進行清洗處理。
[0076] W往，一般的認識是，堿清洗后的玻璃基板表面的粗糖度升高大大地取決于清洗 液的pH，清洗液的堿性越強，粗糖度升高越大，但本發明人發現，不僅是清洗中使用的堿性 試劑的堿度，與OH離子配對的陽離子的種類也對粗糖度升高量有大的影響。
[0077] 例如，在使用化0H、K0H等強堿作為堿性試劑的情況下，雖然可W得到良好的蝕刻 作用所帶來的異物除去效果，但是清洗后的玻璃基板表面的粗糖度升高大。根據本發明人 的研究查明了，該情況下，不僅是運些堿性試劑的堿度，鋼離子、鐘離子等陽離子的存在也 與基板的粗糖度升高有很大關聯。
[0078] 因此，本發明人發現，在清洗處理時在抑制清洗液中的鋼離子和鐘離子的含量(總 量）、特別是抑制為4毫摩爾（下文中表示為"mm〇r VLW下的同時(在維持該條件的同時）、 即在4mmol/LW下的條件下進行清洗處理是優選的。由此，可W得到由清洗液中含有的作為 堿性試劑的OH離子產生的蝕刻作用，另一方面，通過抑制清洗液中的鋼離子和鐘離子的含 量，能夠抑制玻璃基板的粗糖度升高。特別優選在將清洗液中的鋼離子和鐘離子的含量(總 量)抑制為2mmol/LW下、進一步優選為1mmol/LW下的同時進行清洗處理。
[0079] 在本發明中，優選W使清洗處理后的玻璃基板的主表面的表面粗糖度Ra為例如 0.2nmW下的方式抑制清洗液中所含有的鋼離子和鐘離子的含量。
[0080] 需要說明的是，清洗液中的鋼離子、鐘離子的含量可W使用從清洗槽采樣得到的 清洗液，通過例如離子色譜法、ICP法來考察。另外，實際上，若即將進行清洗處理之前和清 洗處理后的清洗液中的鋼離子和鐘離子的含量均為規定值(4mmol/L) W下，則可W說清洗 處理中維持了該條件。
[0081] 本發明人對于在維持堿清洗的清洗力的狀態下抑制清洗液中的鋼離子和鐘離子 的含量、從而抑制基板的表面粗糖度的升高的方法進行了摸索，結果發現，優選使用含有特 定的堿性試劑、即不含鋼和鐘中的任意一種成分的堿性試劑的清洗液，特別優選由下述通 式I表示的有機堿(W下也稱為"本發明的有機堿r)。
[00劇通式I
[0083] [(R)饑+OH-
[0084] (其中，R表示烷基，與N原子鍵合的4個烷基之中的至少一個烷基具有一個W上的 徑基(OHS))
[0085] 在本發明中，在上述本發明的有機堿I中，與N原子鍵合的4個R之中的至少一個R優 選為在未與N原子鍵合的一側的末端具有徑基的直鏈烷基。此處，為了保持表面的平滑性、 在不使粗糖度升高的情況下進行附著物的異物的清洗除去，僅進行玻璃最表層的蝕刻是有 效的，需要使其不會進行該程度W上的過度的蝕刻。為此，優選玻璃表面被與玻璃的親和性 高的物質進行表面被覆。在堿性條件下，玻璃被硅烷醇（Si-OH)和帶負電的其電離體(Si-〇-)覆蓋，本發明的有機堿I的物質所具有的徑基與前者的硅烷醇具有藉由氨鍵的親和性， 利用氮原子上的正電荷和硅烷醇的電離體，具有增強與玻璃的粘接性的效果。并且，在未與 N原子鍵合的一側的末端具有徑基的情況下容易得到該效果，因而優選。
[0086] 上述R特別優選為在N原子與徑基之間具有2個W上的碳原子的直鏈烷基。分子內 的徑基的個數增加時，一個分子在玻璃表面停留的時間變長，與玻璃表面的親和性更強，因 此帶來更高的清洗力。
[0087] 該情況下，N原子與徑基之間的碳原子數優選為6個W下。碳原子數超過6時，分子 量、分子的尺寸均變大，清洗中的擴散變慢，因此覆蓋玻璃表面的效果減弱，異物再附著的 可能性升高，清洗效果減小。
[0088] 作為本發明的有機堿I的具體例，例如可W優選舉出膽堿氨氧化物、雙（2-徑基乙 基)二甲基氨氧化錠、^(2-徑基乙基）甲基氨氧化錠、（3-徑基丙基)S甲基氨氧化錠、（4-徑 基下基)=甲基氨氧化錠、（6-徑基己基)=甲基氨氧化錠、（7-徑基庚基)=甲基氨氧化錠等 具有徑基的季錠氨氧化物。當然，本發明并不限定于運些具體例。
[0089] 上述的本發明的有機堿I在水中的溶解性高，溶解于水時顯示出強堿性，對玻璃的 蝕刻作用所帶來的異物除去效果大，盡管如此，卻能夠抑制由蝕刻導致的表面的粗糖。關于 其機理，還不一定明確，考慮如下。
[0090] 目P，在鐘離子、鋼離子的情況下，認為其與玻璃基板表面的OH基(外部硅烷醇基、娃 氧燒鍵(O-Si-O鍵)水解產生的內部硅烷醇基)結合時，可選擇性地提高結合部分的蝕刻速 率，因此在玻璃基板表面產生蝕刻速率的不均，導致粗糖度升高，但在上述的本發明的有機 堿I的情況下，認為其即使與玻璃表面的OH基結合，也不會引起蝕刻速率的升高。另外認為， 通過上述的本發明的有機堿I先與OH基結合，還具有抑制之后在例如清洗處理中從玻璃基 板溶出的鋼離子、鐘離子的結合的效果。由此，通過使清洗液含有上述本發明的有機堿I，并 且在抑制清洗液中所含有的鋼離子和鐘離子的含量的同時進行清洗處理，能夠抑制清洗后 的基板表面的粗糖