觸摸面板的制作方法、觸摸面板、觸摸屏和顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發明提供了一種觸摸面板的制作方法、觸摸面板、觸摸屏和顯示裝置。所述觸摸面板的制作方法，包括：在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層；在所述透光膜層上制作觸摸面板電極，所述透光膜層用于對所述觸摸面板電極進行消影。本發明將現有技術中的鍍制消影層的方法改為在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層，控制其霧度、擴散、視角和隱蔽，以對觸摸面板電極實現消影，同時簡化了工藝流程。
【專利說明】觸摸面板的制作方法、觸摸面板、觸摸屏和顯示裝置
【技術領域】
[0001]本發明涉及觸摸顯示【技術領域】，尤其涉及一種觸摸面板的制作方法、觸摸面板、觸摸屏和顯示裝置。
【背景技術】
[0002]新一代的OGS(One Glass Solut1n，在保護玻璃上直接形成ITO(氧化銦錫)導電膜及傳感器)產品是電容式觸摸屏發展的具有潛力的新方向，與G/G(傳感器玻璃/鋼化玻璃蓋板產品相比由于省掉一片玻璃基板并降低了成本，提高了產品良率。
[0003]傳統的OGS產品是在透明基板四周鋪設油墨層，以形成油墨邊框，之后在形成有油墨邊框的透明基板上形成由S12(二氧化硅)和Nb205 (五氧化二鈮)組成的消影層，再在高溫(280°C左右)下濺鍍上ITO層，之后再涂布平坦層。雖然高溫濺鍍的ITO層結晶度高，消影效果好，但是容易導致平坦層脫落，并且對油墨的抗高溫要求高。近年來，為優化工藝條件，已導入低溫(200°C -250°C )濺鍍ITO層的工藝，同時ITO的結晶度，導致采用傳統的由Si02( 二氧化硅)和Nb205(五氧化二鈮)組成的消影層很難達到看不見橋點和ITO圖案的效果；而如果采用新型的ITO圖案，對工藝要求較高，成本上升，也無法保證良率。
【發明內容】
[0004]本發明的主要目的在于提供一種觸摸面板的制作方法、觸摸面板、觸摸屏和顯示裝置，解決現有技術中對觸摸面板電極進行消影時工藝流程復雜并效果不明顯的問題。
[0005]為了達到上述目的，本發明提供了一種觸摸面板的制作方法，包括:
[0006]在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層；
[0007]在所述透光膜層上制作觸摸面板電極，所述透光膜層用于對所述觸摸面板電極進行消影。
[0008]實施時，所述微圖案為規則排列的幾何形狀的微圖案。
[0009]實施時，所述在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層包括:在所述透明基板上形成透明膜層，對該透光膜層進行刻蝕以形成所述微圖案。
[0010]實施時，所述透光膜層為光學增透膜層。
[0011]實施時，在所述透光膜層上制作觸摸面板電極步驟前還包括:在具有微圖案的所述透光膜層上形成油墨邊框；
[0012]在所述透光膜層上制作觸摸面板電極步驟后還包括:在制作有所述觸摸面板電極的所述透明基板上形成平坦層。
[0013]實施時，所述觸摸面板電極為ITO電極，所述在所述透光膜層上制作觸摸面板電極具體包括:在預定溫度范圍內制作觸摸面板電極；所述預定溫度范圍為大于等于200攝氏度而小于等于250攝氏度。
[0014]本發明還提供了一種觸摸面板，包括透明基板，還包括:
[0015]形成于所述透明基板上的具有微圖案的透光膜層；
[0016]以及，觸摸面板電極，制作于所述透光膜層上；
[0017]所述透光膜層用于對所述ITO電極進行消影。
[0018]實施時，所述微圖案為規則排列的幾何形狀的微圖案。
[0019]實施時，所述透光膜層為光學增透膜層。
[0020]實施時，本發明所述的觸摸面板還包括:
[0021]油墨邊框，形成于具有微圖案的所述透光膜層上；
[0022]以及，平坦層，形成于制作有所述觸摸面板電極的所述透明基板上。
[0023]實施時，所述觸摸面板電極為ITO電極，所述ITO電極在預定溫度范圍內制作于所述透光膜層上；所述預定溫度范圍為大于等于200攝氏度而小于等于250攝氏度。
[0024]實施時，所述觸摸面板為OGS電容式觸摸面板。
[0025]本發明還提供了一種觸摸屏，包括上述的觸摸面板。
[0026]本發明還提供了一種顯示裝置，包括上述的觸摸屏。
[0027]本發明所述的觸摸面板的制作方法、觸摸面板、觸摸屏和顯示裝置，將現有技術中的鍍制消影層的方法改為在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層，控制其霧度、擴散、視角和隱蔽，以更好地對ITO電極實現消影，同時簡化了工藝流程。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0028]圖1是本發明實施例所述的觸摸面板的制作方法的流程圖；
[0029]圖2是本發明另一實施例所述的觸摸面板的制作方法的流程圖；
[0030]圖3是本發明實施例所述的觸摸面板的結構圖；
[0031]圖4是本發明實施例所述的觸摸面板的光學增透膜上刻蝕形成的微圖案的俯視示意圖。
【具體實施方式】
[0032]下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。
[0033]如圖1所示，本發明實施例所述的觸摸面板的制作方法，包括:
[0034]步驟11:在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層；
[0035]步驟12:在所述透光膜層上制作觸摸面板電極；所述透光膜層用于對所述觸摸面板電極進行消影。
[0036]本發明實施例所述的觸摸面板的制作方法將現有技術中的鍍制消影層的方法改為在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層，控制其霧度、擴散、視角和隱蔽，以更好地對觸摸面板電極實現消影，同時簡化了工藝流程。具體實施時，所述透光膜層可以采用有機樹脂類材料，也可以是Si02( 二氧化硅)或者SiNO (氮氧化硅)只要能夠滿足透光并且在其上能夠形成微圖案，使之能夠改變光的路徑，從而對其上的觸控面板電極的圖形進行消影即可，相應的本領域技術人員可以采用涂布，鍍制，沉積等工藝將透光膜層形成在透明基板上，在此不再贅述。
[0037]所述微圖案優選為規則排列的幾何形狀的微圖案，此時具有該微圖案的透光膜層對觸摸面板電極的消影效果較好。
[0038]在具體實施時，所述在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層包括:在所述透明基板上形成透明膜層，對該透光膜層進行刻蝕以形成所述微圖案。需要說明的是，此處可以采用構圖工藝通過曝光顯影，對透明膜層進行刻蝕后形成所需圖案，也可以通過對透光膜層加熱使之軟化，通過壓印來形成所需圖案，本領域技術人員根據透光膜層采用的材料選用適當的工藝即可。
[0039]優選的，所述透光膜層可以為光學增透膜層，由于現有的一些觸摸面板本身就具有光學增透膜層，因此透光膜層可以為光學增透膜層，在光學增透膜層上制作微圖案，這樣可以簡化工藝，節約成本。
[0040]在具體實施時，在所述透光膜層上制作觸摸面板電極步驟前還包括:在所述具有微圖案的透光膜層上形成油墨邊框。
[0041]在具體實施時，在所述透光膜層上制作ITO電極步驟后還包括:在制作有所述觸摸面板電極的所述透明基板上形成平坦層。
[0042]在實際操作時，所述觸摸面板電極可以為ITO電極或其它類型的觸摸面板電極。
[0043]優選的，所述觸摸面板電極可以為ITO電極，在所述透光膜層上制作觸摸面板電極步驟具體包括:在預定溫度范圍內制作觸摸面板電極；所述預定溫度范圍為大于等于200攝氏度而小于等于250攝氏度。
[0044]本發明優選的觸摸面板的制作方法的實施例采用低溫濺鍍ITO工藝和光學增透膜層即可以實現消影，降低了對油墨邊框抗高溫的要求，克服了采用低溫濺鍍ITO工藝時仍采用傳統的消影層會導致的消影效果不明顯的問題，避免了現有技術高溫時平坦層容易脫落的問題，并且舍去了現有技術中的由S1jP Nb 205組成的消影層，簡化了工藝流程。
[0045]本發明實施例所述的觸摸面板，包括:
[0046]透明基板；
[0047]形成于所述透明基板上的具有微圖案的透光膜層；
[0048]以及，觸摸面板電極，制作于所述透明膜層上；
[0049]所述透光膜層用于對所述觸摸面板電極進行消影。
[0050]本發明實施例所述的觸摸面板將現有技術中的鍍制消影層的方法改為在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層，控制其霧度、擴散、視角和隱蔽，以對觸摸面板電極實現消影，并且舍去了現有技術中的由S1jP Nb 205組成的消影層，簡化了工藝流程。
[0051]優選的，所述微圖案為規則排列的幾何形狀的微圖案，此時具有該微圖案的透光膜層對觸摸面板電極的消影效果較好，需要說明的是微圖案也可以是與觸控面板電極圖案對應的圖案，這樣更有針對性的對觸控電極的圖案進行消影。
[0052]優選的，所述透光膜層可以為光學增透膜層，由于現有的一些觸摸面板本身就具有光學增透膜層，因此透光膜層可以為光學增透膜層，在光學增透膜層上制作微圖案，這樣可以簡化工藝，節約成本。
[0053]在具體實施時，本發明所述的觸摸面板還包括:
[0054]油墨邊框，形成于具有微圖案的所述透光膜層上，具體可以采用鍍制的方法將油墨邊框形成于具有微圖案的透光膜層上。
[0055]在具體實施時，本發明所述的觸摸面板還包括:
[0056]平坦層，形成于制作有所述觸摸面板電極的所述透明基板上，具體的可以采用涂布的方式形成平坦層35。
[0057]在實際操作時，所述觸摸面板電極可以為ITO電極或其它類型的觸摸面板電極。
[0058]優選的，所述觸摸面板電極可以為ITO電極，所述ITO電極在預定溫度范圍內制作于所述透光膜層上；所述預定溫度范圍為大于等于200攝氏度而小于等于250攝氏度。
[0059]本發明優選的觸摸面板的實施例采用低溫濺鍍ITO工藝和光學增透膜層即可以實現消影，降低了對油墨邊框抗高溫的要求，并克服了采用低溫濺鍍ITO時仍采用傳統的消影層會導致的消影效果不明顯的問題，避免了現有技術高溫時平坦層容易脫落的問題。
[0060]優選的，所述觸摸面板可以為OGS電容式觸摸面板，由于對于OGS電容式觸摸面板來說導入低溫(200°C -250°C )濺鍍ITO工藝會導致如果蠶蛹傳統的消影層很難達到看不見橋點和ITO圖案的效果，因此此時采用低溫濺鍍ITO電極時的消影效果較好。但是實際操作時，所述觸摸面板也可以為其它類型的觸摸面板，不限于OGS電容式觸摸面板。
[0061]下面通過一具體實施例說明本發明所述的觸摸面板的制作方法和觸摸面板:
[0062]如圖2、圖3所示(圖2是本發明具體實施例所述的觸摸面板的制作方法的流程圖，圖3是根據該制作方法制作而成的觸摸面板的結構圖，圖3中示意出了微圖案的其中一種表現形式，即可以是鋸齒排列，但不限于此，還可以是如圖4俯視示意圖中所示的微圖案等)，
[0063]首先，執行光學增透膜層鍍制步驟21，在透明基板31上采用真空磁控濺射的方法鍍制光學增透膜；
[0064]接著，執行微圖案刻蝕步驟22，在所述光學增透膜上進行刻蝕，得到帶微圖案的光學增透膜層32 ;
[0065]然后，執行油墨邊框鍍制步驟23，在帶微圖案的光學增透膜層32上鍍制油墨邊框33 ；
[0066]之后，執行ITO電極制作步驟24，采用低溫(200°C -250°C )制作工藝在所述光學增透膜層32上利用真空濺鍍、曝光、顯影、刻蝕等方法制作ITO電極34 ;所述光學增透膜層32用于對所述ITO電極進行消影；
[0067]最后，涂布上一層平坦層35 (該平坦層35可以為樹脂保護層)，完成觸摸面板的制作。
[0068]本發明該實施例所述的觸摸面板的制作方法通過在光學增透膜上刻蝕如圖4所示的微圖案(圖4中的微圖案為規則排列的幾何形狀的微圖案，此時具有該微圖案的透光膜層對觸摸面板電極的消影效果較好)，需要說明的是，圖4只是微圖案的示意圖，還有別的排列方式，其目的是通過調整微圖案的形狀控制其霧度，擴散，視角和隱蔽，達到消影的目的，實現在了低溫ITO工藝導入后對ITO圖案進行消影的效果。
[0069]本發明實施例所述的觸摸屏，包括上述的觸摸面板。
[0070]本發明還提供了一種顯示裝置，包括上述的觸摸屏。該顯示裝置可以為液晶顯示器、液晶電視、有機電致發光顯示OLED面板、OLED顯示器、OLED電視或電子紙等顯示裝置。
[0071]以上所述是本發明的優選實施方式，應當指出，對于本【技術領域】的普通技術人員來說，在不脫離本發明所述原理的前提下，還可以作出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應視為本發明的保護范圍。
【權利要求】
1.一種觸摸面板的制作方法，其特征在于，包括: 在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層； 在所述透光膜層上制作觸摸面板電極，所述透光膜層用于對所述觸摸面板電極進行消影。
2.如權利要求1所述的觸摸面板的制作方法，其特征在于，所述微圖案為規則排列的幾何形狀的微圖案。
3.如權利要求1所述的觸摸面板的制作方法，其特征在于，所述在透明基板上形成具有微圖案的透光膜層包括:在所述透明基板上形成透明膜層，對該透光膜層進行刻蝕以形成所述微圖案。
4.如權利要求1所述的觸摸面板的制作方法，其特征在于，所述透光膜層為光學增透膜層。
5.如權利要求1所述的觸摸面板的制作方法，其特征在于，在所述透光膜層上制作觸摸面板電極步驟前還包括:在具有微圖案的所述透光膜層上形成油墨邊框； 在所述透光膜層上制作觸摸面板電極步驟后還包括:在制作有所述觸摸面板電極的所述透明基板上形成平坦層。
6.如權利要求1至5中任一權利要求所述的觸摸面板的制作方法，其特征在于，所述觸摸面板電極為ITO電極，所述在所述透光膜層上制作觸摸面板電極具體包括:在預定溫度范圍內制作觸摸面板電極；所述預定溫度范圍為大于等于200攝氏度而小于等于250攝氏度。
7.一種觸摸面板，包括透明基板，其特征在于，還包括: 形成于所述透明基板上的具有微圖案的透光膜層； 以及，觸摸面板電極，制作于所述透光膜層上； 所述透光膜層用于對所述ITO電極進行消影。
8.如權利要求7所述的觸摸面板，其特征在于，所述微圖案為規則排列的幾何形狀的微圖案。
9.如權利要求7所述的觸摸面板，其特征在于，所述透光膜層為光學增透膜層。
10.如權利要求7所述的觸摸面板，其特征在于，還包括: 油墨邊框，形成于具有微圖案的所述透光膜層上； 以及，平坦層，形成于制作有所述觸摸面板電極的所述透明基板上。
11.如權利要求7至10中任一權利要求所述的觸摸面板，其特征在于，所述觸摸面板電極為ITO電極，所述ITO電極在預定溫度范圍內制作于所述透光膜層上；所述預定溫度范圍為大于等于200攝氏度而小于等于250攝氏度。
12.如權利要求7至10中任一權利要求所述的觸摸面板，其特征在于，所述觸摸面板為OGS電容式觸摸面板。
13.一種觸摸屏，其特征在于，包括如權利要求7至12中任一權利要求所述的觸摸面板。
14.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求13所述的觸摸屏。
【文檔編號】G06F3/041GK104461157SQ201410827968
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年12月25日 優先權日:2014年12月25日
【發明者】何敏, 胡明, 涂志中 申請人:合肥鑫晟光電科技有限公司, 京東方科技集團股份有限公司