基質輔助激光解析離子源進出樣裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及基質輔助激光解析(MALDI)離子源技術領域，尤其是涉及一種基質輔助激光解析離子源進出樣裝置。
【背景技術】
[0002]基質輔助激光解析離子源是對固態樣品進行解析的過程，樣品在常壓下制作，形成固體，經過進樣機構進入真空系統，由定位機構進行精確定位，使樣品在一個特定的區域內進行解析。解析過程中，激光在極短的時間對樣品提供高的能量，對它們進行極快的加熱，使離子源中的基質分子能有效地吸收激光的能量，并間接地傳給樣品分子，樣品分子因此得到電離，然后離子在高壓作用下進入檢測器，完成進樣。
[0003]基質輔助激光解析(MALDI)離子源進樣裝置對于整個設備是至關重要的。待測樣品(多為生物樣品)不能直接從常壓環境中在極短的時間內轉變為高真空環境，因此進樣裝置需要保證樣品從常壓環境逐步進入到高真空環境，讓檢測樣品有個適應過程，這樣就不會對樣品解析造成大的影響。
[0004]為解決上述技術問題，中國發明專利(專利號201220117195.4，發明名稱《基質輔助激光解析離子源進樣裝置》)提供了一種多級進樣即樣品通過第一級進樣組件、第二級進樣組件和密封門組件的配合，能夠將樣品從常壓環境平穩的送入高真空環境內，使樣品在進樣中逐漸適應真空度，保證了樣品的檢測質量。但是，整體結構較為復雜，同時由于各級進樣組件均是通過步進電機帶動工作，易出現故障，導致生產及使用成本較高。

【發明內容】

[0005]本發明的目的在于提供一種結構簡單，堅固耐用的基質輔助激光解析離子源進出樣裝置。
[0006]為實現上述目的，本發明可采取下述技術方案:
本發明所述的基質輔助激光解析離子源進出樣裝置，包括真空密封腔以及設置在所述真空密封腔內沿其水平導軌左右移動的運動平臺，在所述運動平臺上方設置有用于放置離子源靶板的靶槽，在所述真空密封腔外設置有與其內腔相連通的分子栗；
所述真空密封腔的上蓋板一側開設有與所述靶槽形狀相匹配的通槽，位于所述通槽一側的上蓋板板面上鉸接的密封壓蓋內側開設有用于放置離子源樣品的凹槽；
在所述運動平臺的頂部對稱設置有靶槽定位柱，所述靶槽活動放置在所述靶槽定位柱上;
與所述通槽位置相對應的真空密封腔底板上設置有用于推送和頂起靶槽的推送頂起機構。
[0007]所述推送頂起機構包括推送架和頂起架:
所述推送架包括固定在所述真空密封腔底板上的推送架底座，以及對稱鉸接在所述推送架底座后部向右側傾斜的的支撐桿，所述支撐桿的頂部水平鉸接有托放所述靶槽的托臺；所述推送架底座的前部對稱鉸接有V形結構的定位板，在所述定位板的兩側頂部分別設置有左滾輪和右滾輪；
所述頂起架包括卡放在所述推送架底座后部的基座以及對稱設置在所述基座兩側開口向右的U形支桿，在所述基座后部向上延伸設置有縱向支桿，所述U形支桿和縱向支桿之間鉸接有兩連桿機構，所述兩連桿機構中間的連接橫軸上套裝有頂套，自所述縱向支桿的頂部向右下方延伸設置的框架底部設置有水平擋柱；在所述U形支桿的下部設置有限位開關;
靠近所述推送頂起機構的運動平臺底部間隔設置有與兩側所述定位板位置相對應的第一擋塊，在兩第一擋塊之間設置有與所述水平擋柱位置相對應的帶有掛鉤的第二擋塊。
[0008]所述密封壓蓋向外延伸設置有抬壓把手。
[0009]本發明的優點在于以簡單的連桿機構實現了離子源靶槽的推送和頂起，利用真空密封腔的上蓋板、靶槽和密封壓蓋之間圍成的密封空間作為低真空腔，原有的真空密封腔作為高真空腔，可使樣品從常壓環境平穩的進入高真空環境，保證了樣品的檢測質量。
[0010]同時，本發明結構簡單、堅固耐用，使用壽命長，避免了采用步進電機傳動帶來的故障率較高的缺陷，大大降低了生產和使用成本。
【附圖說明】
[0011]圖1是本發明的結構示意圖。
[0012]圖2是圖1中推送架的結構示意圖。
[0013]圖3是圖1中頂起架的結構示意圖。
[0014]圖4是圖1中運動平臺的結構示意圖。
[0015]圖5~圖11是本發明的進出樣裝置工作時運動平臺和推送架、頂起架之間的位置關系不意圖。
【具體實施方式】
[0016]如圖1、4所示，本發明所述的基質輔助激光解析離子源進出樣裝置，包括真空密封腔1以及設置在真空密封腔內沿其水平導軌左右移動的運動平臺2，在運動平臺2上方設置有用于放置離子源靶板的靶槽3，在真空密封腔外設置有與其內腔相連通的分子栗4 ;在真空密封腔的上蓋板5 —側開設有與靶槽形狀相匹配的通槽6，位于通槽一側的上蓋板板面上鉸接的密封壓蓋7內側開設有用于放置離子源樣品的凹槽8 ;在運動平臺2的頂部對稱設置有靶槽定位柱9，靶槽3活動放置在靶槽定位柱9上；與通槽3位置相對應的真空密封腔1底板上設置有用于推送和頂起靶槽3的推送頂起機構。
[0017]工作時，運動平臺2 (頂部放有靶槽3)從檢測位左移至推送頂起機構處，利用推送頂起機構將靶槽3送入真空密封腔的上蓋板5上開設的通槽6中，打開密封壓蓋7，先將離子源靶板放入靶槽3中，再將離子源樣品放入靶槽3內的離子源靶板上，然后合上密封壓蓋7，這時，離子源樣品正好置于密封壓蓋7內側的凹槽8，此時由真空密封腔的上蓋板5、靶槽3和密封壓蓋7之間圍成的密封空間即形成低真空腔，經過短暫停留(約為十幾秒左右)，推送頂起機構回落，靶槽3從通槽6中退回進入真空密封腔1內(高真空腔)，靶槽3再次放置在運動平臺2上，右移運行至檢測位置后即可進行解析。由于樣品從外部的常壓環境經過低真空腔后再進入高真空環境，保證了樣品的檢測質量。
[0018]為實現對靶槽的推送和頂起，本發明采用了由推送架和頂起架構成的推送頂起機構:
如圖2所示，推送架包括固定在真空密封腔底板上的推送架底座101，以及對稱鉸接在推送架底座101后部向右側傾斜的的支撐桿102，支撐桿102的頂部水平鉸接有托放靶槽的托臺103 ;推送架底座10