局部鍍敷裝置及局部鍍敷方法
【專利摘要】本發明提供局部鍍敷裝置，該局部鍍敷裝置利用鼓夾具連續進給縱長的金屬構件，進行點鍍敷，其中存在如下問題：由金屬構件的引導孔的間距和鼓夾具的定位銷的間距之差導致金屬構件和鼓夾具的密合性劣化，鍍敷膜厚分布產生偏差。該局部鍍敷裝置包括：鼓夾具（1），其在外周部配置有多個定位銷（6），金屬構件（11）卡合于定位銷（6）而沿著外周部被輸送；旋轉軸（2），其將鼓夾具（1）支承成能夠旋轉；噴流部（8），其用于向金屬構件（11）供給鍍敷液；以及制動單元（15），其安裝在旋轉軸（2）上，用于使鼓夾具（1）的圓周速度減速。此外，本發明提供鍍敷裝置、局部鍍敷方法，其中，在鼓夾具（1）的搬入側的第1區域中不對金屬構件（11）進行鍍敷處理，在搬出側的第2區域中對金屬構件（11）實施鍍敷處理。
【專利說明】局部鍍敷裝置及局部鍍敷方法
【技術領域】
[0001]本發明涉及一種用于對銅(Cu)或者Cu合金、鐵(Fe)或者Fe合金等的金屬構件局部地實施鍍敷的局部鍍敷裝置，涉及一種能夠降低鍍敷膜厚的偏差的局部鍍敷裝置。
【背景技術】
[0002]作為對縱長的金屬構件實施局部鍍敷的局部鍍敷裝置，公知有采用圓筒狀的夾具(鼓夾具)的局部鍍敷裝置。圖10是表示以往的局部鍍敷裝置200的鼓夾具201部分的概略的俯視圖。
[0003]采用鼓夾具的鍍敷裝置200是指這樣的裝置:在鼓夾具201的外周面上卷繞作為被鍍敷物的縱長的金屬構件202，一邊使金屬構件202移動、一邊自鼓夾具201的中心附近經由設于鼓夾具的外周面的開口部(未圖示)像虛線箭頭那樣將鍍敷液供給到金屬構件202表面，以連續進給方式實施鍍敷。由于利用鼓夾具掩蔽除開口部之外的部分，因此鍍敷不會析出，由此能夠對金屬構件局部地實施鍍敷。這樣的鍍敷方法被稱作點鍍敷。
[0004]在這樣的局部鍍敷裝置中，在鼓夾具201的外周面設有多個定位銷203，將該定位銷203與設于金屬構件202的引導孔(未圖示)卡合，使金屬構件202以規定的速度移動，從而使鼓夾具201旋轉。定位銷203在此大概表示了 7個，但實際上例如設有8個以上(下同)。
[0005]鼓夾具201以能夠以旋轉軸204為中心轉動的方式支承于旋轉軸204，在不施加用于驅動鼓夾具201的外力的情況下，該鼓夾具201以與金屬構件202的移動速度相等的圓周速度像細箭頭那樣旋轉。
[0006]另一方面，也公知有如下局部鍍敷裝置:將鼓夾具的內周面按壓于伴隨著金屬構件移動而旋轉的鼓夾具，調整該按壓力`而使鼓夾具的圓周速度發生變化(例如參照專利文獻I)。
[0007]現有技術文獻
[0008]專利文獻
[0009]專利文獻1:日本特開2009 - 242859號公報
【發明內容】

[0010]發明要解決的問題
[0011]在使用圖10所示的以往的局部鍍敷裝置進行了鍍敷處理的情況下，產生鍍敷品的鍍敷膜厚分布的偏差變明顯的問題。
[0012]圖11是說明圖10的局部鍍敷裝置200的鼓夾具201與金屬構件202的關系的圖，圖11的(A)、(B)是俯視圖，圖11的(C)是圖11的(B)的展開俯視圖，圖11的(D)是圖11的(C)的虛線圓圈部分的放大圖。
[0013]首先，在圖11的(A)、(B)中，是說明鼓夾具201的定位銷203和與該定位銷203卡合的金屬構件202的引導孔的位置關系的圖。金屬構件202是長度為寬度的例如10倍以上的縱長的構件，圖中的進深方向作為寬度表示，圖中的左右方向作為長度表示，但在此以能夠識別引導孔hi~hio的形狀的俯視(能夠在金屬構件202的主視中視覺識別的狀態)表示該引導孔hi~hlO，表示定位銷分別在哪個位置卡合于該引導孔hi~hlO。另外，在以下的說明中，在不必區分各個引導孔的情況下，將其統稱為引導孔h。
[0014]金屬構件202像上述那樣是縱長且厚度為例如0.8mm以下左右的較薄的平板狀。鼓夾具201的定位銷203相互間的分開距離(間距)pl’和金屬構件202的引導孔h相互間的分開距離(間距)p2’以這些分開距離一致的方式設計。但是，引導孔h和定位銷203之間需要規定的間隙，鼓夾具201有時也是圓筒狀的，從加工精度的方面來看，事實上是無法使定位銷203和引導孔h完全一致的。
[0015]也就是說，由于在使兩者完全一致的情況下所容許的定位銷203相互間的間距p1'和引導孔h相互間的間距ρ2’的每I個間距的差值(以下稱作引導孔和定位銷的間距差)都在鼓夾具201的加工精度的界限以下，因此無法在該間距差內制作夾具。此外，由于鼓夾具I在鍍敷加工過程中由于鍍敷液的溫度而膨脹，因此需要在設計階段考慮這一點，更加無法將間距差納入在容許范圍內。
[0016]例如，由于鼓夾具201在設計上是將間距ρ1' =間距ρ2’作為標準以土公差進行制作的，因此，結果存在間距ρ1' <間距ρ2’的情況、間距ρ1' >間距ρ2的情況。
[0017]出于這些原因，存在如下問題:鼓夾具引導孔和定位銷之間產生間距差，通過使該間距差在制造工序中反復累積和消除，鍍敷膜厚分布不均勻。
[0018]參照圖11的(Α)，金屬構件202像箭頭那樣從進入點I側朝向排出點O側行進。在此，在被鍍敷處理的金屬構件202的從頂端到排出點O的距離為LI的狀態下，在鼓夾具201的定位銷203的間距ρ1'稍稍小于金屬構件202的引導孔h的間距p2’的情況(結果為ρ1' <ρ2’的情況)下，定位銷203像圖示那樣分別卡合于金屬構件202的引導孔hi~h7。
[0019]隨著從鼓夾具201的排出點O側向鼓夾具的進入點I側行進，定位銷203向金屬構件202的引導孔hi的行進方向的前方側(金屬構件202的排出點O側)偏間距差的量并卡合于該引導孔hi。另一方面，在金屬構件202從進入點I側向排出點O側像箭頭那樣移動時，利用與金屬構件202的摩擦力，鼓夾具201以旋轉軸204為中心旋轉。也就是說，在這種情況下，鼓夾具201沿著金屬構件202的移動方向以與金屬構件202的移動速度v2’相等的圓周速度vl’旋轉。
[0020]參照圖11的(B)，金屬構件202進一步行進，在從金屬構件11的頂端到排出點O的距離為L2 (LI < L2)的情況下，例如金屬構件202的引導孔h4卡合于排出點O側的端部的定位銷203，引導孔h8~hlO重新與定位銷203卡合。
[0021]但是，即使像圖11的(B)那樣引導孔hi~h3脫離鼓夾具201，鼓夾具201也利用其與金屬構件202的摩擦力而旋轉，因此，該鼓夾具201以與金屬構件202的移動速度v2’相等的圓周速度vl’旋轉，維持圖11的(A)所示的各定位銷與引導孔的位置關系。而且，在引導孔h8中，累積從引導孔h4到引導孔h8的各個間距差(以下將其稱作累積間距差)。
[0022]因此，像圖11的(C)、(D)那樣，例如在引導孔h8中，超過引導孔h8和定位銷203之間的間隙而定位銷203接觸于引導孔h8的端部，金屬構件202自鼓夾具201稍稍分開(參照圖11的(D))。[0023]也就是說，在因引導孔h和定位銷203的累積間距差而使兩者接觸，金屬構件202自鼓夾具201分開時，引起鍍敷膜厚分布的局部地降低。而且，存在通過間距差反復累積和消除而在I個金屬構件中鍍敷膜厚的偏差變大的問題。
[0024]對于這一點，鍍敷部(點)的面積也產生影響。也就是說，在即使是使用圖10所示的局部鍍敷裝置、也就是采用連續進給方式的局部鍍敷裝置的鍍敷處理，也能夠在一定程度地確保鍍敷部的面積的情況下，鍍敷膜厚的偏差不會成為問題。
[0025]但是，近年來，隨著各種電子設備、這些部件的小型化，對鍍敷加工品的鍍敷部(點)的面積進行了狹小化(例如5_X5_以下)，與此相伴，顯著地出現鍍敷膜厚不均勻的問題。
[0026]為了解決該問題，一般考慮消除金屬構件202的引導孔h和鼓夾具201的定位銷203的間距差。
[0027]例如，在專利文獻I中，公開了一種將橡膠輥按壓于鼓夾具(圓筒狀鼓)、調整該按壓力來調整鼓夾具的圓周速度的技術。
[0028]但是，獨立地控制金屬構件的移動速度和鼓夾具的圓周速度是非常困難的。
[0029]具體地講，在專利文獻I所述的技術中，將橡膠輥按壓于利用馬達以恒定速度旋轉的鼓夾具，按壓橡膠輥，控制該力的強弱來控制鼓圓周速度。
[0030]例如作為一般的數值，假定金屬構件202的長度為2000m、引導孔h和定位銷203之間的間隙為0.5mm、金屬構件的移動速度為2m / min時，鼓夾具201的圓周速度所容許的誤差為 0.5 μ m / min。
[0031]因而，需要以納入到該范圍內的方式獨立地控制利用馬達旋轉的鼓夾具的圓周速度，因此，例如需要監視間隙來進行反饋的部件等。具體地講，在專利文獻I中，利用激光、圖像處理等以納入到間隙的容許范圍內的方式進`行監視，反饋該結果來控制圓周速度。
[0032]但是，在需要這樣的反饋部件的構造的情況下，存在不僅控制變復雜、而且設備成本增加等問題。
[0033]用于解決問題的方案
[0034]本發明即是鑒于該課題而完成的，第I，通過提供如下的局部鍍敷裝置來解決上述課題，該局部鍍敷裝置包括:鼓夾具，其在外周部配置有多個定位銷，金屬構件卡合于上述定位銷而沿著上述外周部被輸送；旋轉軸，其將該鼓夾具支承成能夠旋轉；噴流部，其用于向上述金屬構件供給鍍敷液；以及制動單元，其安裝在上述旋轉軸上，用于使上述鼓夾具的圓周速度減速。
[0035]這樣，本發明以定位銷的間距稍稍小于金屬構件的引導孔的間距的方式制作鼓夾具，在支承該鼓夾具的旋轉軸上設置用于使鼓夾具減速的制動單元，消除金屬構件的引導孔和鼓夾具的定位銷之間的累積間距差。制動單元使鼓夾具相對于金屬構件在引導孔和定位銷之間的間隙內相對地向相反的方向移動(滑動)，由此消除累積間距差。
[0036]第2，通過如下的局部鍍敷方法來解決上述課題，其是對沿著局部鍍敷裝置的鼓夾具的外周部輸送的金屬構件實施局部鍍敷的方法，其中，上述外周部的一部分是與上述金屬構件接觸的接觸區域，在該接觸區域的距上述金屬構件的進入側端部規定距離的第I區域的范圍內，不對上述金屬構件實施鍍敷，在從該第I區域的端部到上述金屬構件的排出側端部的第2區域的范圍內對上述金屬構件實施鍍敷。[0037]這樣，本發明通過僅在接觸區域的后半部分實施鍍敷來減小鍍敷膜厚的偏差。
[0038]發明的效果
[0039]采用本發明的局部鍍敷裝置，第1，能夠提供采用減小鍍敷品的膜厚分布偏差的鼓夾具的連續進給方式的局部鍍敷裝置。
[0040]局部鍍敷裝置在將鼓夾具支承成能夠旋轉的旋轉軸上設有制動單元，通過對旋轉軸付與載荷而使鼓夾具的圓周速度相對于金屬構件的移動速度降低。由此，能夠隨時消除在鍍敷處理過程中產生的金屬構件的引導孔和鼓夾具的定位銷的累積間距差，減小鍍敷膜
厚的偏差。
[0041]制動單元對旋轉軸付與的載荷維持在比鼓夾具相對于抵接的金屬構件的行進方向相對地向相反的方向移動(滑動)的力大、使金屬構件產生變形的力以下。
[0042]由此，能夠隨時消除(不累積)對I個縱長的金屬構件進行處理時產生的引導孔和定位銷的累積間距差，相對于所有的引導孔將對應的定位銷納入到該間隙內。
[0043]本實施方式的鼓夾具并不是其自身進行旋轉控制，而是隨著金屬構件的移動而旋轉，利用制動單元使其速度減速。也就是說，僅是將制動單元對旋轉軸付與的載荷維持在規定的范圍內，不另外設置反饋部件、間隙的監視部件，就能夠在整個金屬構件中使引導孔和定位銷可靠地卡合，因此不需要控制鼓夾具的圓周速度，并且也能夠簡便且低成本地實現設備。
[0044]并且，通過將鼓夾具的定位銷的間距設計得小于金屬構件的引導孔的間距，在鍍敷處理時利用制動單元使鼓夾具的圓周速度相對于金屬構件的移動速度減速，在金屬構件向鼓夾具進入時定位銷位于比引導孔的中央靠行進方向前方(排出側)的位置，在自鼓夾具排出時定位銷處于比引導孔的中 央靠行進方向后方(進入側)的位置，因此能夠減小進入時及排出時的卡住。
[0045]第2，對于鼓夾具和金屬構件接觸的接觸區域，通過做成在金屬構件的進入側的第I區域的范圍內不對金屬構件實施鍍敷、在金屬構件的排出側的第2區域的范圍內對金屬構件實施鍍敷的構造，能夠謀求膜厚分布的進一步均勻化。
[0046]由于在兩者接觸的接觸區域的前半部分(第I區域)顯著地發生膜厚減小，因此，防止在該前半部分中進行鍍敷處理，僅在從中間到后半部分(第2區域)中進行鍍敷處理。即，通過僅在第2區域設置對電極(陽極)、或者采用僅在第2區域噴出鍍敷液這樣的噴流部，能夠使膜厚分布進一步均勻化。
[0047]第3，采用本發明的局部鍍敷方法，由于在鼓夾具的前半部分(第I區域)不對金屬構件實施鍍敷，僅在第2部分實施鍍敷，因此，與在整個接觸區域中實施鍍敷的鍍敷方法相比較能夠減小鍍敷膜厚分布的偏差。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0048]圖1是說明本發明的第I實施方式的局部鍍敷裝置的(A)俯視圖、(B)剖視圖。
[0049]圖2是說明本發明的第I實施方式的局部鍍敷裝置的(A)俯視圖、(B)側視圖、(C)首1J視圖。
[0050]圖3是說明本發明的第 I實施方式的局部鍍敷裝置的(A)俯視圖、(B)展開俯視圖、(C)放大俯視圖、(D)放大俯視圖。[0051]圖4是對利用本發明的第I實施方式的局部鍍敷裝置產生的鍍敷膜厚偏差和以往構造的情況進行比較的(A)特性圖、(B)比較表。
[0052]圖5是說明本發明的第2實施方式的局部鍍敷裝置的(A)俯視圖、(B)表示利用鼓夾具輸送金屬構件的狀態的俯視概略圖。
[0053]圖6是說明本發明的第2實施方式的局部鍍敷裝置的立體圖。
[0054]圖7是說明本發明的第I實施方式的局部鍍敷裝置的(A)俯視圖、(B)展開俯視圖、及說明本發明的第2實施方式的局部鍍敷裝置的(C)俯視圖。
[0055]圖8是對利用本發明的第2實施方式的局部鍍敷裝置產生的鍍敷膜厚偏差和利用第I實施方式的局部鍍敷裝置產生的鍍敷膜厚偏差進行比較的(A)特性圖、(B)比較表。
[0056]圖9是說明本發明的第3實施方式的局部鍍敷裝置的俯視圖。
[0057]圖10是說明以往構造的俯視圖。
[0058]圖11是說明以往構造的(A)俯視圖、(B)俯視圖、(C)展開俯視圖、(D)放大俯視圖。
【具體實施方式】
[0059]參照圖1~圖9說明本發明的實施方式。首先，參照圖1~圖4說明本發明的第I實施方式。
[0060]圖1是用于說明第I實施方式的局部鍍敷裝置10的構造的概要圖，圖1的(A)是俯視圖，也透視了下層(內部)的結構。圖1的(B)是圖1的(A)中的a— a剖視圖。
[0061]參照圖1，局部鍍敷裝置10具有`鼓夾具1、旋轉軸2、噴流部8、制動單元15。
[0062]鼓夾具I是在其外周部密合作為被鍍敷材料的金屬構件(在此未圖示)并沿著外周部進行輸送的夾具。鼓夾具I能夠以旋轉軸2為中心旋轉，但不存在用于使鼓夾具I自身旋轉的驅動部件。也就是說，通過使金屬構件以規定速度移動，而該鼓夾具I沿著金屬構件的行進方向例如向圖1的(A)的箭頭方向以規定的圓周速度vl旋轉。鼓夾具I的鼓徑(直徑)Φ例如優選為200mm~500mm。在鼓徑Φ小于200mm的情況下,雖也取決于金屬構件的厚度，但卷繞該金屬構件變困難、或者鍍敷時間變短，所謂的線速度下降，因此有可能導致生產率變差等。此外，在鼓徑Φ大于500_時，有可能產生局部鍍敷裝置的制造(加工)變困難，鼓夾具I的偏芯影響變大、初期成本增加等問題。在鼓夾具I的外周部配置有多個互相以均等的距離(間距)分開的定位銷(在此未圖示)。
[0063]旋轉軸2利用支柱7支承，固定在基板21。旋轉軸2的一端(在圖1的(B)中是上端)固定在鼓夾具I上，將鼓夾具I支承成能夠旋轉。此外，在旋轉軸2的另一端(在圖1的(B)中是下端)安裝有制動單元15。
[0064]制動單元15安裝在基板21下方的、旋轉軸2的下端部，對鼓夾具I付與規定的載荷。由此，鍍敷處理中的鼓夾具I的圓周速度vl相對于金屬構件的移動速度被減速。
[0065]制動單元15從外側(外周)按壓旋轉軸2而對旋轉軸2付與載荷，采用能夠在低載荷區域中對按壓力的參數進行線形控制的制動方式。按壓力的參數例如是指空氣壓力。
[0066]制動單元15更具體地講采用利用空氣壓力進行制動的盤制動方式。而且，例如利用壓縮機和調節器使空氣壓力恒定而控制載荷，在I個金屬構件的鍍敷處理過程中維持大致恒定的載荷。[0067]對于載荷而言，根據金屬構件的材質、板厚、寬度、金屬構件的張力(金屬構件在鍍敷處理流水線內被拉拽的力)、鼓夾具I的鼓徑Φ及重量、金屬構件向鼓夾具I的卷繞角度等使送到制動單元15的空氣壓力發生變化，選擇適當的值。
[0068]例如，在金屬構件的板厚較薄、或者在材質上引導孔h易于變形的情況下，減小載荷。此外，在材質上為與鼓夾具I的摩擦力較大(難以滑動)的金屬構件的情況、金屬構件的張力較大且與鼓夾具I的摩擦力變大等的情況下，增大載荷。
[0069]另外，制動單元15只要是能夠在低載荷區域中對按壓力的參數進行線形控制的方式，就不限定于該例子。
[0070]噴流部8用于經由鼓夾具I向金屬構件供給鍍敷液(用陰影表示)。鍍敷液貯存在處理槽23外的供給罐(未圖示)中，自此利用泵等(均未圖示)經由配管25像上箭頭那樣吸起到噴流部8中。在鍍敷液供給罐上裝備有加熱器、溫度傳感器及調節器等，用于將鍍敷液的溫度保持恒定。此外，泵包括用于控制流量的變換器，用于控制流量。此外，噴流部8將噴出到金屬構件的鍍敷液像下箭頭那樣經由配管25回收到供給罐。
[0071]在噴流部8的外周設有防液堤24，鼓夾具I以覆蓋噴流部8的方式配置在防液堤24的內周部上。支承輥4用于支承卷繞在鼓夾具I上的金屬構件的移動。
[0072]在噴流部8的鍍敷液的噴出口設有對電極(陽極)9。噴流部8在圖1的(A)的俯視中設置為例如大致半圓形狀，陽極9也沿著噴流部8的形狀設置為大致半圓形狀。
[0073]參照圖2進一步說明鼓夾具I。圖2的(A)是表示在圖1的(A)所示的鼓夾具I上卷饒有金屬構件11的狀態的俯視概略圖，圖2的(B)是從圖2的(A)中的S方向的視點看到的側視圖，圖2的(C)是表示圖2的(A)中的b — b線截面的一部分的圖。
[0074]鼓夾具I在其外周部以均等的分開距離(間距pi)配置有多個定位銷6。在此表示大概，定位銷6配置有7個，但實際上在鼓夾具I的外周部配置有例如8個以上。
[0075]金屬構件11卡合于定位銷6，沿著鼓夾具I的外周部從進入點I朝向排出點O像箭頭那樣被輸送。本實施方式的鼓夾具I隨著金屬構件11的移動而旋轉。
[0076]自設于鼓夾具I內側的噴流部8像虛線箭頭那樣向金屬構件11供給鍍敷液。
[0077]參照圖2的(B)，在鼓夾具I的外周面設有定位銷6。定位銷6在圓周方向上排列有多個。此外，在金屬構件11中也與定位銷6對應地設有多個引導孔h。引導孔h以均等的分開距離(間距P2)分開。
[0078]通過使金屬構件11的引導孔h卡合于定位銷6，將金屬構件11向箭頭的方向拉拽，金屬構件11密合于鼓夾具I的外周部的一部分，利用其摩擦力使鼓夾具I旋轉。
[0079]在本實施方式中，將金屬構件11以寬度W方向(圖2 (B)Y方向)為垂直(上下)的狀態沿著鼓夾具I的外周部輸送。寬度W方向是指與縱長的金屬構件11的長度方向(X方向)正交的方向。
[0080]鼓夾具I其自身的旋轉并不是利用馬達等驅動部件來控制的，而是通過金屬構件11移動而沿著金屬構件11的行進方向(在與金屬構件11抵接的面中的相同方向)旋轉，但利用制動單元15使其平均的圓周速度Vl相對于金屬構件的移動速度V2減速(參照圖1的(A))。詳細地講，制動單元15對旋轉軸2付與比相抵接的金屬構件11和鼓夾具I向相反方向移動(滑動)的力大且使金屬構件11產生變形的力以下的載荷。
[0081]由此，能夠在不付與載荷的狀態下使以與金屬構件11的移動速度相等的圓周速度旋轉的鼓夾具I減速。通過將制動單元15的載荷的下限設在上述范圍內，在金屬構件11和鼓夾具I滑動的同時，鼓夾具I比金屬構件11旋轉地慢一些，金屬構件11和鼓夾具I的行進方向相對地向相反朝向移動(滑動)。
[0082]作為一例子，在利用4kgf的張力使板厚為0.2mm、寬度為30mm的Cu (銅)合金材料的金屬構件11移動的情況下，將制動單元15的載荷設為4kgf左右。此時，假定引導孔h的間距P2為IOmm /間距、每I個間距的引導孔h和定位銷6的間距差例如為0.003mm時，鼓夾具I的平均速度vl相對于金屬構件v2的移動速度減速0.03%。
[0083]在鼓夾具I的外周部設有沿著圓筒的圓周方向排列的多個開口部3。鼓夾具I的材質是熱膨張較少的樹脂，例如是耐熱性氯乙烯樹脂、聚苯硫醚(polyphenylene sulfide ；PPS)樹脂、聚醚醚酮(polyetheretherketone ；PEEK)樹脂等。
[0084]參照圖2的(C)，像虛線箭頭那樣從噴流部8的噴出口(狹縫部8S)經由設于鼓夾具I的開口部3向金屬構件11供給鍍敷液。在鼓夾具I的內部以與金屬構件11相對的方式設有對電極(陽極)9。對電極9例如以板狀設于狹縫部8S的上下。對該對電極9和金屬構件11之間施加電壓，借助鍍敷液產生電流。
[0085]通過向鍍敷液通電，在金屬構件11上生成鍍膜12。即，在金屬構件11上形成有開口部3的形狀、在長度方向上例如排成一列、利用點鍍敷生成的鍍膜12。鍍膜12是例如5mm以下四方形的面積的例如鍍金(Au)，也可以在點鍍敷Au之前，對金屬構件11實施鎳(Ni)或者Ni合金、Cu或者Cu合金等的基底鍍敷(參照圖2的(B))。
[0086]在本實施方式中，鼓夾具I和由鍍膜形成的掩模成為一體。也就是說，在像箭頭那樣從噴流部8經由開 口部3向金屬構件11噴出鍍敷液時，除開口部3之外的區域被鼓夾具I所覆蓋，開口部3周圍的鼓夾具I的一部分成為由鍍膜形成的掩模。
[0087]另外，并不限定于此，也可以將具有開口部3的樹脂性的掩模材料卷繞在鼓夾具I的外周部。這種情況下的鼓夾具I為了能夠自噴流部8供給鍍敷液，例如在鼓夾具I的外周部沿著圓周設有狹縫，是以狹縫和開口部一致的方式在外周部設置掩模材料等的結構。
[0088]相對于該構造，通過像本實施方式這樣將鼓夾具I兼用于掩模，能夠防止掩模的對位偏差。
[0089]接著，參照圖3說明局部鍍敷裝置10的鍍敷處理時的金屬構件11和鼓夾具I的關系。
[0090]首先，圖3的(A)、(B)是說明鼓夾具I的定位銷6和與該定位銷6卡合的金屬構件11的引導孔h的位置關系的圖。圖3的(A)中的引導孔h的標記方法像上述那樣。gp，引導孔h (在此是h4~hlO)實際上是以貫穿由金屬構件11的寬度W方向上的邊和長度L方向上的邊構成的兩個主面(表背面)的方式設置的，但在此以能夠識別引導孔h4~hlO的形狀的俯視(圖3的(B)的狀態)表示該引導孔h4~hlO，表示定位銷分別卡合于該引導孔h4~hlO的哪個位置。此外，對于圖3的(A沖的引導孔h4和引導孔hlO也同時記載了表示與各個定位銷6之間的間隙的俯視圖(從金屬構件11的主面看到的俯視圖)。
[0091]圖3的(B)是將圖3的(A)中的鼓夾具I和金屬構件11展開成直線狀的俯視圖。此外，圖3的(C)、(D)分別是以圖3的(B)中的虛線表示的引導孔hl0、h4的放大俯視圖。
[0092]參照圖3的(A)、(B),金屬構件11的引導孔h和鼓夾具I的定位銷6卡合,隨著輸送金屬構件11，鼓夾具I旋轉。定位銷6沿著鼓夾具I的圓周突出與金屬構件11的板厚相應的量，定位銷6的直徑(例如1.0mm)相對于引導孔h的直徑(例如1.5mm)具有恒定的間隙。而且，在本實施方式中，在設計上以定位銷的間距Pl小于引導孔h的間距p2的方式以負公差制作鼓夾具I。
[0093]在此，表示了被鍍敷處理的金屬構件11的從頂端到排出點O的距離為L2的狀態(即與圖11的(B)的狀態相當)的鼓夾具I和金屬構件11的關系。
[0094]在本實施方式中，也以像圖示那樣定位銷6相對于各個引導孔h的位置不同的狀態卡合。
[0095]例如在圖示的狀態下，在鼓夾具I的排出點O側的端部，定位銷6以與引導孔h4的后方B側(進入點I側)的端部抵接的方式卡合。像已述那樣，定位銷6的間距pi被設計得比引導孔h的間距p2小幾μπι。其是在進入點I側的端部可靠地卡合的值。因此，越向進入點I側靠近，越在前方F側可靠地卡合，在進入點I側也可靠地卡合。也就是說，此時，引導孔h5的端部不與定位銷6抵接。
[0096]在本實施方式中，在金屬構件11移動且被引導孔h4排出的同時，利用由制動單元15對鼓夾具I施加的制動,在鼓夾具I和金屬構件11之間滑動I個間距的間距差(數μ m)的量，直到定位銷6抵接于引導孔h5的端部為止。也就是說，即使金屬構件11移動，在鼓夾具I的排出點O側的端部，也始終維持定位銷6與引導孔h的后方B側的端部抵接的狀態。
[0097]參照以往構造的圖11的(B)，在不對鼓夾具201施加制動的情況下，該鼓夾具201以與金屬構件202的移動速度相等的圓周速度旋轉。在這種情況下，即使利用金屬構件202的移動被引導孔h4排出，也不會在鼓夾具201和金屬構件202之間滑動，因此引導孔h5和定位銷203不接觸。也就是說，隨著金屬構件202的移動，定位銷203漸漸在引導孔h的前方F側(排出點O側)卡合。并且，通過金屬構件202移動，間距差累積，在進入點I側定位銷203接觸于引導孔h的前方F側，金屬構件202會自鼓夾具201分開(圖11的(D))。
[0098]在本實施方式中，制動單`元(在此未圖示)對旋轉軸2付與載荷，由此，鼓夾具I的平均的圓周速度vl為比金屬構件11的移動速度v2低的速度。此外，制動單元對旋轉軸2付與的載荷是比相抵接的金屬構件11和鼓夾具I向相反方向(虛線箭頭方向)移動(滑動)的力大且使金屬構件11產生變形的力以下的載荷。
[0099]由此，能夠以定位銷6和引導孔h之間的間隙(例如0.5mm左右)內為限度使金屬構件11和鼓夾具I相對地向相反的方向(虛線箭頭的方向)滑動，能夠消除兩者的累積間距差。
[0100]具體地講，以往脫離了的引導孔h8及引導孔hlO也能夠可靠地與定位銷6卡合。
[0101]這樣，在縱長的金屬構件11的鍍敷處理過程中，能夠隨時消除引導孔h和定位銷6的累積間距差，不會超過兩者之間的間隙。因而，能夠減小點鍍敷的鍍敷膜厚偏差。
[0102]此外，在本實施方式中，通過使定位銷6的間距pi小于引導孔h的間距p2，能夠在鼓夾具I的進入點I跟前的引導孔h和排出點O跟前的引導孔h中防止卡住(變形)。
[0103]參照圖3的(A)、(C)、(D)，在自制動單元對鼓夾具I施加載荷時，在進入點I跟前的引導孔hio中，定位銷6位于比引導孔hlO的中央靠行進方向前方F的位置，后方B側的間隙變大(圖3的(C))。
[0104]同樣，在排出點O跟前的引導孔h4中，定位銷6位于引導孔h4的行進方向后方B的位置，前方A側的間隙變大(圖3的(D))。
[0105]而且，在本實施方式中，能夠從金屬構件11的頂端到后方維持該狀態。由此，能夠防止引導孔h在進入點I及排出點O處卡住。
[0106]另外，制動單元15始終對鼓夾具I付與恒定的載荷，但鼓夾具I和金屬構件11并不限定于始終滑動。
[0107]例如，參照圖3的(A)，最靠近排出點O的引導孔h4在其后方與定位銷接觸，在這種情況下，如下所述成為
[0108](鼓夾具I和金屬構件11的靜止摩擦力)+(最靠近排出點O的引導孔h推擠定位銷6的力)> (制動單元15的載荷)
[0109]鼓夾具I和金屬構件11以相同的速度移動，它們不滑動。
[0110]與此相反，金屬構件11移動，自最靠近排出點O的引導孔h4排出定位銷6，在下一個引導孔h5成為最靠近排出點O的引導孔的瞬間(由于在該時刻h5和定位銷不接觸)，如下所述成為
[0111](鼓夾具I和金屬構件11的靜止摩擦力)<(制動單元15的載荷)
[0112]鼓夾具I和金屬構件11滑動,鼓夾具I減速。
[0113]而且，在定位銷6接觸于引導孔h5的后方的瞬間，再次成為
[0114](鼓夾具I和金屬構件11的靜止摩擦力)+(最靠近排出點O的引導孔h推擠定位銷6的力)> (制動單元15的 載荷)
[0115]的關系,鼓夾具I和金屬構件11以相同的速度移動。
[0116]也就是說，每當鼓夾具I和金屬構件11以相同的速度移動而自引導孔h排出定位銷6時，都瞬間成為鼓夾具I減速這樣的狀態，此時，滑動一周的距離是每I個間距的間距差值。
[0117]圖4是將使用本實施方式的局部鍍敷裝置10實施鍍敷處理而得到的結果與利用圖5所示的以往構造的局部鍍敷裝置200進行鍍敷處理而得到的結果相比較進行表示。
[0118]圖4的(A)中，縱軸是鍍敷(Au)膜厚[μm]，橫軸是點鍍敷(150個的I；)的連續編號。實線是利用本實施方式的局部鍍敷裝置10進行的點鍍敷的情況，虛線是利用以往構造(圖10)的局部鍍敷裝置200進行的點鍍敷的情況，均是以相同的電流密度進行鍍敷處理、測定點鍍敷的中心部的鍍敷膜厚而得到的結果。
[0119]根據該圖表也可明確，在本實施方式的局部鍍敷裝置10中，與以往比較能夠明顯地減小鍍敷膜厚的偏差。
[0120]具體地講，參照圖4的(B)的比較表，可知在鍍敷膜厚的最大值和最小值的范圍(Range)內，能夠從以往的0.21 μ m減小到0.14 μ m。此外,就標準偏差(σ )而言,與以往的0.049相比較，本實施方式為0.022，能夠大幅度減小膜厚偏差。
[0121]接著，參照圖5~圖8說明本發明的第2實施方式。第2實施方式與第I實施方式的情況相比限制了對金屬構件11進行鍍敷處理的區域。另外，與第I實施方式相同的結構要件用相同的附圖標記表示，省略其說明。
[0122]圖5是局部鍍敷裝置20的概要圖，圖5的(A)是與圖1的(A)相當的俯視圖，圖5的(B)是表示利用鼓夾具I輸送金屬構件11的狀態的俯視的概略圖(與圖2的(A)相當)。
[0123]參照圖5的(Α)、(Β)，像已述那樣，金屬構件11被沿著鼓夾具I的外周部輸送。下面，將鼓夾具I的外周的與金屬構件11接觸的一部分稱作接觸區域RC來進行說明。
[0124]本實施方式的接觸區域RC在鼓夾具I的俯視圖(能夠俯視鼓夾具I的直徑且鼓夾具I的形狀能夠視覺識別為大致圓形的狀態)中是在鼓夾具I的整個大致半圓周上與金屬構件11接觸的區域，是從金屬構件11的進入側I的兩者最初的接觸點(進入側端部)IP到在排出側O兩者不接觸(到排出側端部0P)為止的區域。在此，以遍及整個大致半圓周的接觸區域RC為例進行說明，但也可以是比其大的(超過半圓周的)區域。此外，由于鼓夾具I及金屬構件11伴隨著時間的經過而移動，因此，接觸區域RC并不是鼓夾具I及金屬構件11的特定的(固定的)的區域，而是指成為移動(旋轉)著的鼓夾具I的外周中的任一部分和金屬構件11中的任一部分互相接觸的狀態的區域。
[0125]在本實施方式中，為了便于說明，將接觸區域RC劃分為第I區域Rl和第2區域R2。第I區域Rl是指從接觸區域RC的金屬構件11的進入側端部IP(接觸區域RC的開始點)到向金屬構件11的行進方向行進規定距離(第I圓弧rl)的位置為止的區域，第2區域R2是從第I區域Rl的端部到金屬構件11的排出側端部OP (接觸區域RC的終止點)為止的區域。而且，局部鍍敷裝置20做成在第I區域Rl中不對金屬構件11實施鍍敷而在第2區域R2中對金屬構件11實施鍍敷的構造。
[0126]具體地講，在圖5的俯視圖(俯視)中，將噴流部82的形狀設為其圓弧小于鼓夾具I (接觸區域RC)的半圓形的圓弧r的扇形形狀,對電極92的形狀也設為同樣的扇形形狀，以兩者的圓弧沿著第2區域R2的圓弧(第2圓弧r2)的方式配置。
[0127]圖6是從圖5的(A)中的SS方向的視點看到的立體圖。
[0128]噴流部82像圖6那樣從噴出口(狹縫部8S)噴出鍍敷液。在本實施方式中，將對電極92設為扇形形狀，例如 將板狀的對電極92配置在狹縫部8S的上下。由此，能夠在第I區域Rl中不對金屬構件11實施鍍敷，而在第2區域R2之間對金屬構件11實施鍍敷(參照圖5的(B))。
[0129]參照圖7說明限制對金屬構件11實施鍍敷處理的區域的理由。圖7的(A)是用于說明第I實施方式的局部鍍敷裝置10的概要的、與圖2的(A)相當的俯視圖。圖7的(B)是圖7的(A)中的虛線圓圈部分的放大圖，圖7的(C)是說明第2實施方式的局部鍍敷裝置20的概要的俯視圖。
[0130]參照圖7的(A)，像已述那樣，在引導孔卡合于鼓夾具I的定位銷6的同時使金屬構件11移動。接觸區域RC的進入側端部IP是金屬構件11最初接觸于鼓夾具I的部分，在該位置，從金屬構件11朝向鼓夾具I的力為O (零)。
[0131]此時，在進入側端部IP處，有時定位銷6接觸于引導孔的側壁(內壁)，有時成為利用該摩擦力使金屬構件11自鼓夾具I的外周面稍稍懸浮起來的狀態(定位銷6和引導孔接觸而定位銷6不進入到引導孔的里側的狀態)(參照圖7的(A)虛線圓圈、圖7的(B))。
[0132]此外，在進入側端部IP的緊跟前，在定位銷6接觸于引導孔的側壁(內壁)的情況下，在從金屬構件11朝向鼓夾具I的力相對于兩者的摩擦力小到能夠無視的程度時，也同樣存在成為金屬構件11自鼓夾具I的外周面懸浮起來的狀態的情況。
[0133]在接觸區域RC的進入側端部IP和排出側端部OP的中間點CP (在圖7的(A)中是最頂部)處，從金屬構件11朝向鼓夾具I的力為最大。也就是說，從金屬構件11朝向鼓夾具I的力在進入側端部IP處為最小(O:零)，其隨著朝向中間點CP去而逐漸變大。[0134]因而，像上述那樣，在進入側端部IP之后的第I區域Rl中，從金屬構件11朝向鼓夾具I的力為定位銷6和引導孔之間的摩擦力以下，在成為金屬構件11自鼓夾具I懸浮起來的狀態的情況下，存在該懸空的狀態持續的情況。另一方面，在鼓夾具I旋轉，直到到達中間點CP為止的期間里從金屬構件11朝向鼓夾具I的力逐漸增加而超過引導孔和定位銷6的摩擦力的情況下，引導孔和定位銷6卡合，能夠消除金屬構件11自鼓夾具I懸浮起來的狀態。
[0135]也就是說，在觀察整個接觸區域RC時，像圖7的(A)中的虛線圓圈那樣，在進入側端部IP之后的前半部分(第I區域Rl)中，存在在金屬構件11局部地自鼓夾具I懸浮起來的狀態下鼓夾具I旋轉的情況。在該狀態下，自噴流部8接受鍍敷液的供給而被實施鍍敷時，產生鍍敷膜厚的偏差，存在金屬構件11整體的鍍敷膜厚分布不均勻的問題。
[0136]因此，像圖7的(C)那樣，在第2實施方式的局部鍍敷裝置20中，從金屬構件11朝向鼓夾具I的力超過定位銷6與引導孔的摩擦力，利用成為金屬構件11自鼓夾具I不懸浮起來的狀態的第2區域R2進行鍍敷處理，從而能夠謀求鍍敷膜厚分布的均勻化。
[0137]在此，進一步說明第I區域Rl及第2區域R2。
[0138]作為視覺上的定義，第I區域Rl是沿著鼓夾具I的外周形成第I圓弧rl (粗虛線)的區域，第2區域R2是沿著鼓夾具I的外周形成第2圓弧r2 (粗實線)的區域。而且，第I圓弧rl的長度小于第2圓弧r2的長度。
[0139]列舉一例子更具體地進行說明，第I圓弧rl的長度設為整個接觸區域RC的圓弧r的4分之I (rl = r / 4)至3分之I (rl = r / 3)。第I區域Rl是從進入側端部IP朝向金屬構件11的行進方向形成第I圓弧rl的區域。
[0140]而且，僅在第2區域R2中設置噴流部8及對電極(陽極)9。也就是說，分別以沿著第2區域R2的第2圓弧r2形成圓弧的方式形成為俯視圖(俯視)的扇形形狀。由此，金屬構件11僅在接觸區域RC中的第2區域R2`中被實施鍍敷處理，能夠謀求鍍敷膜厚的均勻化。
[0141]圖8將使用圖6所示的第2實施方式的局部鍍敷裝置20實施鍍敷處理而得到的結果與使用圖1所示的第I實施方式的局部鍍敷裝置10進行鍍敷處理而得到的結果相比較進行表示。第I實施方式的局部鍍敷裝置10的結果與圖4所示的情況是同樣的。另外，第2實施方式的局部鍍敷裝置20以第I圓弧rl的長度為接觸區域RC整體的圓弧r的3分之I的方式形成第I區域R1，在第2區域R2中設有扇形形狀的噴流部82和對電極92。
[0142]圖8的(A)中，縱軸是鍍敷(Au)膜厚[μm]，橫軸是點鍍敷(150個的I；)的連續編號。Λ記號的標記是利用第2實施方式的局部鍍敷裝置20進行的點鍍敷的情況，〇記號的標記是利用第I實施方式的局部鍍敷裝置10 (圖1)進行的點鍍敷的情況，是測定點鍍敷的中心部的鍍敷膜厚而得到的結果。
[0143]根據該圖表也可明確，在第2實施方式的局部鍍敷裝置20中，與第I實施方式的局部鍍敷裝置10比較明顯能夠減小鍍敷膜厚的偏差。
[0144]具體地講，參照圖8的(B)的比較表，可知在鍍敷膜厚的最大值和最小值的范圍(Range)內，能夠從第I實施方式的0.14 μπι減小到0.03 μ m。此外,就標準偏差(σ )而言，與第I實施方式的0.022相比較，第2實施方式為0.006，能夠大幅度減小膜厚偏差。
[0145]另外，就平均膜厚(Ave)的目標值而言，相對于第I實施方式的局部鍍敷裝置10為0.5 μ m，第2實施方式的局部鍍敷裝置20為0.45 μ m。
[0146]圖9是表示本發明的第3實施方式的局部鍍敷裝置30的圖，是與圖1的(A)相當的俯視圖。與第1、第2實施方式相同的結構要件用相同的附圖標記表示，省略其說明。
[0147]金屬構件11只要在第2區域R中被實施鍍敷處理即可。即，也可以是噴流部8與第I實施方式同樣設為俯視的大致半圓形狀，僅將對電極92設為扇形形狀。在這種情況下，即使在第I區域Rl中從噴流部8供給鍍敷液，由于未配置對電極92，因此也不被實施鍍敷(虛線箭頭)，僅在第2區域R2中被實施鍍敷(實線箭頭)，因此，能夠獲得與第2實施方式同樣的效果。除此之外的結構與第2實施方式是同樣的。
[0148]另外，存在第I區域Rl的第I圓弧rl的長度即使比上述的例子更短(例如rl =r / 5)也能夠謀求鍍敷膜厚分布的均勻化的情況。
[0149]在本實施方式的局部鍍敷裝置20中，通過將第I圓弧rl的長度為接觸區域RC整體的圓弧r的3分之I的區域設為第I區域Rl，能夠實施膜厚分布均勻的鍍敷(參照圖7)。
[0150]另一方面，即使第I圓弧rl的長度是超過接觸區域RC的中間點CP的長度，第2區域R2的鍍敷膜厚分布也均勻。但是，在第I圓弧rl過長時(第2區域R2較小時)，能夠進行鍍敷處理的范圍變小，因此生產率降低。因此，優選的是第I區域Rl盡可能地小，在本實施方式中，將第I圓弧rl的長度為接觸區域RC整體的圓弧r的3分之I的區域設為第I區域R1。
[0151]這樣，本實施方式的局部鍍敷方法對沿著局部鍍敷裝置的鼓夾具I的外周部輸送的金屬構件11實施局部鍍敷，在將鼓夾具I的外周部的一部分設為與金屬構件11接觸的接觸區域RC的情況下，在接觸區域RC的距金屬構件11的進入側端部IP規定距離的第I區域Rl的范圍內，不對金屬構件11實施鍍敷，在從第I區域Rl的端部到金屬構件11的排出側端部OP的第2區域R2的范圍內對金屬構件11實施鍍敷。
[0152]像上述那樣，膜厚分布偏差特別是在接觸區域RC的進入側端部IP之后的前半部分(第I區域Rl)易于產生，這一點在以往構造中也是同樣的。也就是說，即使是例如像上述實施方式的局部鍍敷裝置10~30那樣不具有制動單元15的局部鍍敷裝置，也存在膜厚分布在接觸區域RC的前半部分變差的傾向。
[0153]但是，采用本實施方式的局部鍍敷方法，由于在膜厚分布變差的鼓夾具I的前半部分(第I區域Rl)不對金屬構件11實施鍍敷，僅在第2部分R2中實施鍍敷，因此，與在整個接觸區域RC中實施鍍敷的鍍敷方法相比較，能夠減小鍍敷膜厚分布的偏差。
[0154]附圖標記說明
[0155]1、鼓夾具；2、旋轉軸；3、開口部；4、支承輥；5、帶；6、定位銷；8、82、噴流部；9、92、對電極(陽極)；10、20 、30、40、50、局部鍍敷裝置；11、金屬構件(被鍍敷材料)；15、制動單元；h、hi~hlO、引導孔；RC、接觸區域；R1、第I區域；R2、第2區域；rl、第I圓弧；r2、第2圓弧。
【權利要求】
1.一種局部鍍敷裝置，其中， 該局部鍍敷裝置包括: 鼓夾具，其在外周部配置有多個定位銷，金屬構件卡合于上述定位銷而沿著上述外周部被輸送； 旋轉軸，其將該鼓夾具支承成能夠旋轉； 噴流部，其用于向上述金屬構件供給鍍敷液；以及 制動單元，其安裝在上述旋轉軸上，用于使上述鼓夾具的圓周速度減速。
2.根據權利要求1所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述制動單元對上述旋轉軸付與載荷，使得上述圓周速度相對于上述金屬構件的移動速度減速。
3.根據權利要求1或2所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述載荷是比相抵接的金屬構件和鼓夾具向相反的方向移動的力大且使上述金屬構件產生變形的力以下的載荷。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述制動單元利用空氣壓力對上述旋轉軸付與載荷。
5.根據權利要求1~4中 任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述定位銷的間距小于供該定位銷卡合且在上述金屬構件中設有多個的引導孔的間距。
6.根據權利要求1~5中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述鼓夾具的上述外周部的一部分是與上述金屬構件接觸的接觸區域，在該接觸區域的距上述金屬構件的進入側端部規定距離的第I區域的范圍內不對上述金屬構件實施鍍敷，在從該第I區域的端部到上述金屬構件的排出側端部的第2區域的范圍內對上述金屬構件實施鍍敷。
7.根據權利要求6所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述第I區域是沿著上述鼓夾具的外周形成第I圓弧的區域，上述第2區域是沿著上述鼓夾具的外周形成第2圓弧的區域，上述第I圓弧的長度小于上述第2圓弧的長度。
8.根據權利要求6或7所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述第I區域是上述金屬構件朝向上述鼓夾具方向的力為上述定位銷和上述引導孔之間的摩擦力以下的區域。
9.根據權利要求6~8中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述第I區域是整個上述接觸區域的4分之I至3分之I的區域。
10.根據權利要求6~9中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 僅在上述第2區域中設置對電極。
11.根據權利要求6~10中任一項所述的局部鍍敷裝置，其特征在于， 上述噴流部僅向上述第2區域噴出上述鍍敷液。
12.—種局部鍍敷方法，其是對沿著局部鍍敷裝置的鼓夾具的外周部輸送的金屬構件實施局部鍍敷的方法，其特征在于， 上述外周部的一部分是與上述金屬構件接觸的接觸區域，在該接觸區域的距上述金屬構件的進入側端部規定距離的第I區域的范圍內，不對上述金屬構件實施鍍敷，在從該第I區域的端部到上述金屬構件的排出側端部的第2區域的范圍內對上述金屬構件實施鍍敷。
13.根據權利要求12所述的局部鍍敷方法，其特征在于，上述第I區域是沿著上述鼓夾具的外周形成第I圓弧的區域，上述第2區域分別是沿著上述鼓夾具的外周形成第2圓弧的區域，上述第I圓弧的長度小于上述第2圓弧的長度。
14.根據權利要求12或13所述的局部鍍敷方法，其特征在于， 上述第I區域是上述金屬構件朝向上述鼓夾具方向的力為上述定位銷和上述引導孔之間的摩擦力以下的區域。
15.根據權利要求12~14中任一項所述的局部鍍敷方法，其特征在于， 上述第I區域是 整個上述接觸區域的4分之I至3分之I的區域。
【文檔編號】C25D5/02GK103890239SQ201280051340
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2012年10月18日 優先權日:2011年10月19日
【發明者】荒井健太郎, 宮澤寬 申請人:同和金屬技術有限公司