本發明涉(she)及一種雙(shuang)層(ceng)涂(tu)布模頭及其涂(tu)布方法(fa)，屬于(yu)涂(tu)布的。

背景技術：

1、涂布模(mo)頭作(zuo)為(wei)一(yi)種(zhong)精密的(de)濕式涂布技術，其是將漿料在一(yi)定的(de)壓(ya)力和流量下(xia)沿著涂布模(mo)頭的(de)縫隙(xi)擠壓(ya)到基(ji)材(cai)上。

2、目前的(de)雙(shuang)層(ceng)涂布模(mo)(mo)頭(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)由上(shang)模(mo)(mo)頭(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)、中(zhong)模(mo)(mo)頭(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)和下模(mo)(mo)頭(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)以及夾(jia)(jia)在各個模(mo)(mo)頭(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)之間(jian)(jian)的(de)墊(dian)片(pian)組成。上(shang)模(mo)(mo)頭(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)與中(zhong)模(mo)(mo)頭(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)之間(jian)(jian)設(she)置上(shang)墊(dian)片(pian)，形成上(shang)狹(xia)縫；中(zhong)模(mo)(mo)頭(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)與下模(mo)(mo)頭(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)(tou)之間(jian)(jian)夾(jia)(jia)合下墊(dian)片(pian)，形成下狹(xia)縫，其中(zhong)墊(dian)片(pian)的(de)高度決定了上(shang)狹(xia)縫和下狹(xia)縫的(de)高度。漿料從上(shang)狹(xia)縫和下狹(xia)縫中(zhong)擠壓噴出到(dao)基材上(shang)形成兩(liang)層(ceng)漿料。

3、專利申請(qing)號為202321152108.3的(de)(de)(de)實(shi)用新(xin)型專利公開了提供一種雙層(ceng)涂(tu)布(bu)(bu)模(mo)頭(tou)，屬于(yu)涂(tu)布(bu)(bu)機技(ji)術領域，包括(kuo)：依(yi)次設置(zhi)的(de)(de)(de)上模(mo)頭(tou)、中(zhong)模(mo)頭(tou)和(he)下模(mo)頭(tou)，上模(mo)頭(tou)和(he)中(zhong)模(mo)頭(tou)之間形(xing)成第(di)(di)(di)一漿(jiang)(jiang)料流(liu)(liu)(liu)道(dao)，中(zhong)模(mo)頭(tou)和(he)下模(mo)頭(tou)之間形(xing)成第(di)(di)(di)二(er)(er)(er)(er)漿(jiang)(jiang)料流(liu)(liu)(liu)道(dao)；第(di)(di)(di)一截(jie)(jie)(jie)流(liu)(liu)(liu)塊滑(hua)動(dong)設置(zhi)在上模(mo)頭(tou)內(nei)，第(di)(di)(di)一調(diao)節(jie)機構(gou)驅(qu)動(dong)第(di)(di)(di)一截(jie)(jie)(jie)流(liu)(liu)(liu)塊伸入或(huo)縮(suo)(suo)回第(di)(di)(di)一漿(jiang)(jiang)料流(liu)(liu)(liu)道(dao)以對(dui)第(di)(di)(di)一漿(jiang)(jiang)料流(liu)(liu)(liu)道(dao)內(nei)的(de)(de)(de)漿(jiang)(jiang)料流(liu)(liu)(liu)量(liang)進(jin)行(xing)調(diao)節(jie)；第(di)(di)(di)二(er)(er)(er)(er)截(jie)(jie)(jie)流(liu)(liu)(liu)塊滑(hua)動(dong)設置(zhi)在中(zhong)模(mo)頭(tou)或(huo)下模(mo)頭(tou)內(nei)，第(di)(di)(di)二(er)(er)(er)(er)調(diao)節(jie)機構(gou)驅(qu)動(dong)第(di)(di)(di)二(er)(er)(er)(er)截(jie)(jie)(jie)流(liu)(liu)(liu)塊伸入或(huo)縮(suo)(suo)回第(di)(di)(di)二(er)(er)(er)(er)漿(jiang)(jiang)料流(liu)(liu)(liu)道(dao)以對(dui)第(di)(di)(di)二(er)(er)(er)(er)漿(jiang)(jiang)料流(liu)(liu)(liu)道(dao)內(nei)的(de)(de)(de)漿(jiang)(jiang)料流(liu)(liu)(liu)量(liang)進(jin)行(xing)調(diao)節(jie)；通過(guo)設置(zhi)第(di)(di)(di)一調(diao)節(jie)機構(gou)和(he)第(di)(di)(di)二(er)(er)(er)(er)調(diao)節(jie)機構(gou)分別控(kong)制第(di)(di)(di)一截(jie)(jie)(jie)流(liu)(liu)(liu)塊和(he)第(di)(di)(di)二(er)(er)(er)(er)截(jie)(jie)(jie)流(liu)(liu)(liu)塊進(jin)行(xing)移動(dong)，對(dui)上墊片(pian)(pian)和(he)下墊片(pian)(pian)的(de)(de)(de)漿(jiang)(jiang)料的(de)(de)(de)流(liu)(liu)(liu)量(liang)進(jin)行(xing)控(kong)制，從而(er)實(shi)現對(dui)涂(tu)布(bu)(bu)的(de)(de)(de)雙層(ceng)厚(hou)度進(jin)行(xing)分別調(diao)整，從而(er)保證(zheng)涂(tu)布(bu)(bu)的(de)(de)(de)厚(hou)度保持均勻。

4、對于現有的涂布模(mo)頭使用(yong)時，具有如下暫時還克服(fu)不掉的缺陷：

5、（1）上(shang)述(shu)涂(tu)布(bu)模(mo)頭(tou)（專(zhuan)利申請號(hao)為(wei)202321152108.3的(de)實用新型專(zhuan)利）的(de)上(shang)、下(xia)(xia)層(ceng)漿(jiang)料(liao)、箔材和唇(chun)口形成的(de)物理運動具有連續性和一(yi)體性，上(shang)下(xia)(xia)層(ceng)漿(jiang)料(liao)粘(zhan)度(du)或流(liu)量(liang)差異(yi)過大時，高粘(zhan)度(du)大流(liu)量(liang)的(de)一(yi)層(ceng)漿(jiang)料(liao)在模(mo)頭(tou)唇(chun)口處的(de)壓(ya)力大，而(er)低粘(zhan)度(du)低流(liu)量(liang)的(de)一(yi)層(ceng)漿(jiang)料(liao)在模(mo)頭(tou)唇(chun)口處的(de)壓(ya)力小，容(rong)易(yi)造(zao)成漿(jiang)料(liao)的(de)摻(chan)混(hun)，導致涂(tu)布(bu)缺陷。

6、（2）上(shang)述(shu)涂(tu)布模頭（專利申請號為202321152108.3的(de)實用新(xin)型專利）上(shang)下層漿料粘度(du)或流量差(cha)異過大時，由于連續性和一體性，上(shang)下層漿料涂(tu)布珠形態不穩定，導致壓(ya)力(li)波動，對(dui)涂(tu)布一致性造成影(ying)響。

7、綜上，迫切需要(yao)對(dui)涂布模頭設計進行針對(dui)性(xing)改良，這對(dui)于提升(sheng)電池性(xing)能具(ju)有重要(yao)的意(yi)義(yi)。

技術實現思路

1、為了解決上述存在的問題(ti)，本發明公開了一種雙層涂布模頭及其(qi)涂布方法(fa)，其(qi)具體技術(shu)方案如下：

2、一種(zhong)雙層(ceng)(ceng)涂布(bu)模頭，包括上(shang)模（1）、中(zhong)模（2）、分離塊(kuai)（3）、下(xia)模（4）、上(shang)層(ceng)(ceng)墊(dian)片（5）、下(xia)層(ceng)(ceng)墊(dian)片（6），所(suo)述分離塊(kuai)（3）的朝(chao)向(xiang)涂布(bu)側(ce)的中(zhong)部設置(zhi)有內凹(ao)的槽道，稱為上(shang)唇口溢流儲液槽；

3、所述中模(mo)（2）開設有上(shang)(shang)(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)分配(pei)腔(qiang)（2-2）和貫通(tong)連接(jie)(jie)到上(shang)(shang)(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)分配(pei)腔(qiang)（2-2）的(de)上(shang)(shang)(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)進料通(tong)道（2-1），所述上(shang)(shang)(shang)(shang)模(mo)（1）覆蓋在中模(mo)（2）上(shang)(shang)(shang)(shang)，所述上(shang)(shang)(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)墊片（5）鋪設在上(shang)(shang)(shang)(shang)模(mo)（1）覆蓋在中模(mo)（2）的(de)接(jie)(jie)觸縫隙(xi)中，從(cong)上(shang)(shang)(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)分配(pei)腔(qiang)（2-2）到上(shang)(shang)(shang)(shang)模(mo)（1）和中模(mo)（2）之(zhi)間的(de)上(shang)(shang)(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)唇口（5-2）之(zhi)間的(de)縫隙(xi)形成上(shang)(shang)(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)阻(zu)流流道（5-1）；

4、所(suo)(suo)述下(xia)(xia)(xia)(xia)(xia)模(mo)（4）開(kai)設有下(xia)(xia)(xia)(xia)(xia)層(ceng)分(fen)配腔（4-2）和(he)貫通連接到下(xia)(xia)(xia)(xia)(xia)層(ceng)分(fen)配腔（4-2）的下(xia)(xia)(xia)(xia)(xia)層(ceng)進料通道（4-1），所(suo)(suo)述分(fen)離(li)塊(kuai)（3）位于中(zhong)模(mo)（2）和(he)下(xia)(xia)(xia)(xia)(xia)模(mo)（4）之(zhi)間(jian)，所(suo)(suo)述下(xia)(xia)(xia)(xia)(xia)層(ceng)墊片(pian)（6）鋪設于分(fen)離(li)塊(kuai)（3）和(he)下(xia)(xia)(xia)(xia)(xia)模(mo)（4）的接觸縫隙中(zhong)，從下(xia)(xia)(xia)(xia)(xia)層(ceng)分(fen)配腔（4-2）到分(fen)離(li)塊(kuai)（3）和(he)下(xia)(xia)(xia)(xia)(xia)模(mo)（4）之(zhi)間(jian)的下(xia)(xia)(xia)(xia)(xia)層(ceng)唇口（6-2）之(zhi)間(jian)的縫隙形成下(xia)(xia)(xia)(xia)(xia)層(ceng)阻流流道（6-1）；

5、所述上(shang)層分(fen)配(pei)腔(qiang)（2-2）和(he)下層分(fen)配(pei)腔(qiang)（4-2）均為橫(heng)向分(fen)布且不貫穿對應(ying)的中模（2）和(he)下模（4）兩端的槽體。

6、進一(yi)步(bu)的(de)，位于所述(shu)上(shang)層唇口(kou)（5-2）處(chu)的(de)所述(shu)上(shang)模（1）的(de)上(shang)表面朝向(xiang)邊緣直(zhi)線漸變(bian)呈(cheng)尖狀。

7、進一(yi)步的，所(suo)述上(shang)層阻(zu)流流道（5-1）傾斜設置，所(suo)述下層阻(zu)流流道（6-1）水平(ping)設置。

8、進一步的(de)，所述分(fen)離塊(kuai)（3）朝(chao)向(xiang)(xiang)涂布(bu)的(de)一側上(shang)部設置成從(cong)上(shang)到下傾斜(xie)向(xiang)(xiang)內(nei)，中模（2）朝(chao)向(xiang)(xiang)涂布(bu)的(de)一側從(cong)上(shang)到下也傾斜(xie)向(xiang)(xiang)內(nei)，且與分(fen)離塊(kuai)（3）的(de)傾斜(xie)面對齊；

9、所述分離(li)塊(kuai)（3）朝向涂布的(de)一側下(xia)部(bu)(bu)設置成(cheng)從下(xia)到(dao)上傾(qing)斜向內(nei)，下(xia)模（4）朝向涂布的(de)一側設置有矩形(xing)邊(bian)(bian)沿，矩形(xing)邊(bian)(bian)沿的(de)邊(bian)(bian)緣與分離(li)塊(kuai)（3）下(xia)部(bu)(bu)邊(bian)(bian)緣對齊(qi)。

10、進一步的(de)，所述上模(mo)（1）和中模(mo)（2）朝向涂布(bu)(bu)側(ce)的(de)尖狀(zhuang)邊(bian)(bian)緣(yuan)、下(xia)模(mo)（4）涂布(bu)(bu)側(ce)的(de)邊(bian)(bian)緣(yuan)，分(fen)離塊(kuai)（3）上側(ce)的(de)斜面邊(bian)(bian)緣(yuan)和下(xia)側(ce)的(de)斜面邊(bian)(bian)緣(yuan)均位于一個(ge)圓(yuan)輥所在輥面上。

11、進一步的，所述上模（1）、中模（2）、分離塊(kuai)（3）和(he)下模（4）的背面(mian)設置有沿(yan)其長(chang)度方向對稱設置有兩個(ge)或兩個(ge)以上的調節板（8），通過固定螺栓將(jiang)(jiang)調節板（8）與分離塊(kuai)（3）和(he)下模（4）固定連(lian)接，通過調節螺栓將(jiang)(jiang)調節板（8）與中模（2）連(lian)接；

12、所述中(zhong)模（2）和分離塊（3）的(de)(de)端(duan)部(bu)設置(zhi)錯唇限(xian)位(wei)裝置(zhi)（9），所述錯唇限(xian)位(wei)裝置(zhi)（9）通過多個螺栓與中(zhong)模（2）和分離塊（3）連(lian)接，所述錯唇限(xian)位(wei)裝置(zhi)（9）還開設有(you)長(chang)條形的(de)(de)限(xian)位(wei)孔(kong)，所述限(xian)位(wei)孔(kong)中(zhong)設置(zhi)定位(wei)銷（10），定位(wei)銷（10）貫穿(chuan)錯唇限(xian)位(wei)裝置(zhi)（9）與中(zhong)模（2）連(lian)接。

13、進(jin)一(yi)步的(de)(de)(de)，所述上模(mo)(mo)(mo)(mo)（1）和(he)(he)(he)中模(mo)(mo)(mo)(mo)（2）的(de)(de)(de)連(lian)接(jie)(jie)(jie)、中模(mo)(mo)(mo)(mo)（2）和(he)(he)(he)分(fen)離(li)塊(kuai)（3）的(de)(de)(de)連(lian)接(jie)(jie)(jie)，分(fen)離(li)塊(kuai)（3）和(he)(he)(he)下(xia)模(mo)(mo)(mo)(mo)（4）的(de)(de)(de)連(lian)接(jie)(jie)(jie)，均為沉孔(kong)(kong)(kong)連(lian)接(jie)(jie)(jie)，且(qie)上模(mo)(mo)(mo)(mo)（1）和(he)(he)(he)中模(mo)(mo)(mo)(mo)（2）的(de)(de)(de)連(lian)接(jie)(jie)(jie)、中模(mo)(mo)(mo)(mo)（2）和(he)(he)(he)分(fen)離(li)塊(kuai)（3）的(de)(de)(de)連(lian)接(jie)(jie)(jie)，分(fen)離(li)塊(kuai)（3）和(he)(he)(he)下(xia)模(mo)(mo)(mo)(mo)（4）的(de)(de)(de)連(lian)接(jie)(jie)(jie)，均從上到(dao)下(xia)按照上模(mo)(mo)(mo)(mo)（1）、中模(mo)(mo)(mo)(mo)（2）、分(fen)離(li)塊(kuai)（3）和(he)(he)(he)下(xia)模(mo)(mo)(mo)(mo)（4）的(de)(de)(de)順(shun)序穿(chuan)孔(kong)(kong)(kong)，中模(mo)(mo)(mo)(mo)（2）和(he)(he)(he)分(fen)離(li)塊(kuai)（3）的(de)(de)(de)連(lian)接(jie)(jie)(jie)，分(fen)離(li)塊(kuai)（3）和(he)(he)(he)下(xia)模(mo)(mo)(mo)(mo)（4）的(de)(de)(de)連(lian)接(jie)(jie)(jie)穿(chuan)孔(kong)(kong)(kong)均設置成(cheng)條形孔(kong)(kong)(kong)。

14、進一步的(de)(de)，所述錯(cuo)唇限(xian)位(wei)裝置（9）與中模(mo)（2）和分離塊（3）的(de)(de)連接(jie)(jie)為沉(chen)孔(kong)連接(jie)(jie)，錯(cuo)唇限(xian)位(wei)裝置（9）與中模(mo)（2）的(de)(de)連接(jie)(jie)沉(chen)孔(kong)為條(tiao)形孔(kong)。

15、基于上述(shu)的雙層涂布模頭的雙層涂布方法(fa)，包括以下(xia)步驟(zou)：

16、步驟1：設置連貫的生產(chan)線，背(bei)輥緊靠于(yu)上(shang)層唇口(kou)（5-2）和下層唇口(kou)（6-2）前，上(shang)層唇口(kou)（5-2）和下層唇口(kou)（6-2）的分布為(wei)圍繞(rao)著背(bei)輥；

17、步驟2：將上層(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)和(he)下層(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)分別通過上層(ceng)(ceng)進料(liao)(liao)通道(dao)（2-1）和(he)下層(ceng)(ceng)進料(liao)(liao)通道(dao)（4-1）輸送到(dao)各(ge)自(zi)的上層(ceng)(ceng)分配腔（2-2）和(he)下層(ceng)(ceng)分配腔（4-2），調節漿(jiang)料(liao)(liao)，待其(qi)中(zhong)沒有氣(qi)泡，且能夠穩定出漿(jiang)；

18、步驟3：待涂(tu)布的箔材貼合經(jing)過(guo)背輥表面被傳(chuan)送前進；

19、步驟4：下(xia)層(ceng)漿(jiang)(jiang)料從(cong)下(xia)層(ceng)唇口（6-2）擠(ji)出后附于箔材表面，箔材背(bei)輥(gun)牽(qian)拉移動，經過上層(ceng)唇口（5-2）時，上層(ceng)漿(jiang)(jiang)料附于下(xia)層(ceng)漿(jiang)(jiang)料之上，形成雙層(ceng)涂布。

20、進一步的(de)，所述(shu)步驟4中(zhong)，下(xia)(xia)(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)附(fu)于箔材(cai)表面后(hou)，下(xia)(xia)(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)率先接觸大(da)(da)氣(qi)，液體壓(ya)力等(deng)于大(da)(da)氣(qi)壓(ya)，后(hou)再(zai)于上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)阻流(liu)(liu)流(liu)(liu)道(dao)（5-1）的(de)上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)唇口(kou)（5-2）處，箔材(cai)表面的(de)下(xia)(xia)(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)上(shang)(shang)與上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)接觸，形(xing)成(cheng)背(bei)輥-箔材(cai)-下(xia)(xia)(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)-上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)的(de)結構，此時由(you)于上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)唇口(kou)（5-2）和下(xia)(xia)(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)唇口(kou)（6-2）之間大(da)(da)氣(qi)壓(ya)的(de)介入，把原先下(xia)(xia)(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)和上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)連(lian)通的(de)液體壓(ya)力斷開，下(xia)(xia)(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)(liu)道(dao)的(de)壓(ya)力不再(zai)受上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)(liu)道(dao)干擾，從而上(shang)(shang)下(xia)(xia)(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)(liu)道(dao)壓(ya)力實現獨立，互不干擾。

21、本發明(ming)的有益效果(guo)是：

22、（1）本發明提供一(yi)種雙層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)涂布(bu)模頭(tou)，該(gai)涂布(bu)模頭(tou)由上(shang)(shang)模、中模、下(xia)模、分離塊(kuai)、上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)墊(dian)(dian)片、下(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)墊(dian)(dian)片組(zu)成(cheng)(cheng)。上(shang)(shang)模、上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)墊(dian)(dian)片和(he)(he)中模組(zu)成(cheng)(cheng)上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)道(dao)(dao)(dao)；分離塊(kuai)、下(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)墊(dian)(dian)片和(he)(he)下(xia)模組(zu)成(cheng)(cheng)下(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)道(dao)(dao)(dao)。上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)在(zai)上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)道(dao)(dao)(dao)流(liu)動，下(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)在(zai)下(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)道(dao)(dao)(dao)流(liu)動。下(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)附(fu)于運(yun)動箔(bo)材，上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)附(fu)于下(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)之上(shang)(shang)，形成(cheng)(cheng)雙層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)涂布(bu)。由于分離塊(kuai)的引入，上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)道(dao)(dao)(dao)和(he)(he)下(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)道(dao)(dao)(dao)實(shi)現了強制分離，下(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)率先(xian)接觸大(da)氣(qi)，液(ye)體壓(ya)力等于大(da)氣(qi)壓(ya)，后再(zai)于上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)道(dao)(dao)(dao)的唇口箔(bo)材間(jian)隙同上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)漿(jiang)料(liao)(liao)接觸，此時由于大(da)氣(qi)壓(ya)的介(jie)入，下(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)道(dao)(dao)(dao)的壓(ya)力不(bu)再(zai)受上(shang)(shang)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)道(dao)(dao)(dao)干(gan)擾(rao)，從而上(shang)(shang)下(xia)層(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)(ceng)流(liu)道(dao)(dao)(dao)壓(ya)力實(shi)現獨立(li)，互不(bu)干(gan)擾(rao)。

23、（2）本發明提(ti)出的雙(shuang)層(ceng)涂布模頭設(she)計(ji)，與現有設(she)計(ji)相比，引入了(le)(le)分離(li)塊(kuai)，實現了(le)(le)上(shang)(shang)(shang)、下(xia)層(ceng)涂布的漿(jiang)(jiang)料(liao)在箔(bo)材(cai)和唇口(kou)間(jian)的物理(li)狀態上(shang)(shang)(shang)強制分離(li)，解決了(le)(le)上(shang)(shang)(shang)下(xia)層(ceng)漿(jiang)(jiang)料(liao)粘度或流量(liang)差異過大時的壓力互擾導(dao)致的涂布缺陷，提(ti)升了(le)(le)涂布穩定性(xing)和一致性(xing)。

24、（3）本發明(ming)提(ti)出的(de)(de)雙層涂布(bu)(bu)模(mo)頭設(she)計，在一臺(tai)涂布(bu)(bu)模(mo)頭的(de)(de)空(kong)間內將兩(liang)臺(tai)獨立的(de)(de)模(mo)頭通過(guo)分離塊進行機械連接(jie)（可選常(chang)規的(de)(de)螺栓(shuan)連接(jie)），簡化了機械設(she)計、減(jian)少涂布(bu)(bu)生產環節設(she)備數量(liang)和安裝復雜程度(du)。

25、（4）基于使(shi)用端對(dui)雙(shuang)層(ceng)(ceng)模頭(tou)功能的多(duo)樣化(hua)，及其上下層(ceng)(ceng)涂布(bu)(bu)漿料(liao)粘度(du)的巨大(da)(da)差異化(hua)，涂布(bu)(bu)厚(hou)度(du)的巨大(da)(da)差異化(hua)。通過墊高分(fen)離塊的厚(hou)度(du)，拉大(da)(da)上下層(ceng)(ceng)唇口的距離。從而解決上下層(ceng)(ceng)唇口過近(jin)產(chan)生的壓(ya)力(li)互擾(rao)現象(xiang)。壓(ya)力(li)互擾(rao)主要對(dui)涂布(bu)(bu)的上下層(ceng)(ceng)厚(hou)度(du)一致性有著(zhu)極大(da)(da)的影響(xiang)。