專利名稱：液體供給設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種液體供給設備，適用于將處理液送到噴頭，利用噴頭噴出處理液沖洗原始光具盤和半導體晶片。
至今為止，作為一種通過噴射處理液到原始光具盤和半導體晶片上沖洗原始光具盤和半導體晶片上的設備，采用一種如

圖1所示的液體噴射設備1。更具體地講，液體噴射設備1通過安裝在腔室2內的旋轉臺3卡住象原始光具盤和半導體晶片一樣的工件4，使工件4旋轉。
在這里，工件4的沖洗可以通過噴頭5向工件4噴出處理液6來完成。例如如果用凈化水作為處理液6從噴頭5噴出，即可完成用凈化水沖洗工件4。
實際工作中，液體噴射設備1安裝了許多分別噴射不同類型處理液6的噴頭5，通過選擇置于工作4上方的噴頭5，除完成沖洗處理外，還可完成各種不同藥液的處理。
具體講，如果將選擇噴射HWDS的噴頭5置于工件4上方，工件4的表面就涂上了保護層，如果將選擇噴射硅烷偶合洗劑的噴頭5置于工件4上方，可完成改善工件4表面粘附力的表面處理工作。
然而，在液體噴射設備1中，由于在等待期間噴頭5的端部變干，產生一個問題，即固體的出現和處理液6的濃度改變。
此外，還存在一些其他問題，如處理液6的質變，以及處理液6受到諸如在空氣中的氧氣、水、二氧化碳、細菌等污染，這些污染物是從噴頭5的端口漏進去的。
此外，以高溫或低溫控制處理液6的溫度的情況下，由于在等待期間使處理液6溫度的變化并趨向于室溫，所以不能完成使用具有要求的溫度的處理液6進行處理。
此外，用于凈化水作為處理液6時，在等待期間，處理液6的流動便會停止，通過向噴頭5的管道(無圖示)中的細菌會迅速繁殖，雜質會通過管道進入或二氧化碳會從噴頭5的端部進入，凈化水變質。
在液體噴射設備1中，為了避免上述問題，在處理前，噴頭5會被及時移到腔室2中的點劃線位置，在等待期間，在腔室1外的位置(無圖示)不斷地將固定量的處理液6扔掉，或將少量處理液6扔掉，以解決上述問題。就此而論，為保持腔室2中的環境為最佳條件，排放管7用于排放處理液6，排氣管8用于排出氣體，如腔室2中進入的氮氣。
然而，按照上述的方案，由于昂貴的處理液被扔掉，增加了費用，也增加排水處理的負荷。此外，為使處理液的質量滿意，還存在其它問題。
鑒于以上所述，本發明的一個目的在于提供液體供給設備，即用于供給高質量的處理液而無需白白扔掉處理液。
本發明上述的目的和其它目的通過液體供給設備10來實現，該液體供給設備將處理液6供給到處理液噴射裝置11，使之將處理液6噴射到待處理的工件4上，該裝置由循環系統裝置11到20組成，循環系統用于循環處理噴射裝置11噴射的處理液6和在處理液噴射裝置不將處理液6噴射給待處理的工件4時，將處理液6及時送回處理液噴射裝置11。
此外，按照本發明，循環系統包括一個用于接收由處理液噴射裝置11噴射的處理液6的槽12；一個用于收集在槽12中接收到的處理液6的處理液存儲罐16；一個裝在處理液存儲罐16，用于控制處理液6到希望的溫度的加熱器17；并且從處理液噴射裝置11噴射的處理液6噴射到哪里，都可通過槽12和處理液存儲罐16將處理液6再送回處理液噴射裝置11。
此外，按照本發明，處理液噴射裝置11提供一個噴頭11C用于噴射處理液6，及一個安裝在噴頭11C外側面的凸緣11A和在凸緣11A與槽12之間設有密封材料11B，和在將處理液6噴射到槽12的情況下，氣密性地密封槽12的內部。
由于安裝了循環系統裝置11到20，該循環系統用于循環處理液噴射裝置11噴射的處理液6，即在處理液噴射裝置11不將處理液6噴射給待處理工件4時，將處理液6及時再送回處理液噴射裝置11，處理液6可重復利用而不浪費。此時，由于處理液6被循環，可以避免處理液6出現凝固和濃度改變的情況。
此外，提供用于噴射處理液6的噴頭11C，及一個安裝在噴頭11C外側面的凸緣11A和放在凸緣11A與槽12之間設置的密封材料11B，以及在將處理液6噴射到槽12的情況下，氣密性地密封槽12的內部，結果是，可以避免由于暴露在空氣中而引起的處理液6變質，并且可以供給更好的處理液6。
從下面結合附圖所作的詳細描述，將會更加清楚本發明的特征、原理、用途，圖中相同的部件是由圖中的相同的序號或標志來限定的。在附圖中圖1是液體噴射設備結構的示意圖2是按照發明的液體供給設備一個實施例的結構的示意圖；圖3是處理液噴射單元和循環槽結構的橫截面圖；。
下面參照附圖，對本發明的最佳實施例作進一步詳細說明。
圖2中與圖1相對應的部分具有相同的序號，一般來說，10代表液體供給設備，處理液噴射裝置11連接到一個固定的懸掛臂(無圖示)上，處理液噴射裝置11可以在工件4上方的液體噴射位置和在腔室2外的靜止位置之間移動。
循環槽12裝在靜止的地方，循環槽12接收的處理液6，經過排放管13、過濾器14和液體輸送泵15輸送到液體罐16。這樣，液體供給設備10可以有效地重復利用在靜止位置時流出的沒有扔掉的處理液6。
加熱器17放在液體罐16內，調整到所要求溫度的液體罐16中處理液6通過液體輸送泵18、過濾器19和電磁閥20再供給處理液噴射裝置11。
采用這樣方案，從處理液噴射裝置11可以噴射出經過恒定調節溫度的、過濾的、高質量的處理液6。
這里，處理液噴射裝置11和循環槽12的結構如圖3所示。更具體地說，沿噴頭11C外側延伸的一個盤狀凸緣11A被安裝在處理液噴射裝置11的噴頭11C的端部附近，圓狀的O型環附加于凸緣11A。
于是，當處理液噴射裝置11移動到靜止位置時，O型環11B與循環槽12的表面緊密相連，由凸緣11A和循環槽12形成氣密空間。結果，從噴頭11C端部噴射的處理液6未暴露在空氣中就輸出到排放管13。
此外，循環槽12與通風管12A和排氣管12B相連，由通風管12A注入氮氣，無用氣體通過排氣管12B排出。這樣，由純水、HMDS或硅烷偶合洗劑組成的處理液情況下，可以避免處理液6的變質，所說的處理液6往往與空氣中的濕氣作用而發生變質。
此時，噴頭11C的材料、凸緣11A的材料、循環槽12的材料和排放管13的材料，可以根據處理液6的類型從下列材料中選擇，不銹鋼、氯乙烯、尼龍、聚四氟乙烯、聚乙烯和聚丙烯等。
此外，除上述結構外，在噴頭11C端設有網狀物11D。由于這樣安排，當處理液6停止從處理噴射裝置11噴出時，液體下落很快就會停止，以及，在工件4上部的處理位置和靜止位置之間移動處理液噴射裝置11時，液體下落也可避免，另外可進一步避免在靜止位置附近的相互污染、產生灰塵或腐蝕現象。
網狀物11D的形狀、粗糙度要考慮使用的處理液6的比重、粘度、表面張力或噴射液體的數量、質量來選擇。特別是表面張力非常重要，選擇網狀物11D的形狀和粗糙度，以致由表面張力形成支持液體的力較大于從閥門到處理液噴射裝置11的液體重量下落產生的重力。
此外，由于在噴頭11C端部形成網狀物11D，作為與使用小孔徑的噴頭產生小量的液體下落物相比，可以噴射大量處理液6，以及可以避免產生濕氣。
此外，與通過在噴頭的側面制作許多孔，使液體下降停止相比，可以噴射大量的處理液6，也可以避免產生濕氣，處理液6能形成層流。
再有，與在盒形噴頭端部形成一條窄縫相比，噴頭11C的結構可以簡化。其結果是，處理液噴射裝置11的重量可以減輕，移動處理液噴射裝置11的驅動機械也可簡化，可以快速地、高準確地將處理液噴射裝置11移動到所要求的位置。
按照前面講的結構，在液體供給裝置10對工件4進行藥液處理和沖洗處理，在將處理液噴射裝置11移動到工件4的上方指定位置后，它可以將處理液噴射到通過旋轉臺3旋轉的工件4上。
此時，經溫度調節和過濾的處理液通過液體罐16，液體輸送泵18和電磁閥門20供給到處理液噴射裝置11。
此外，在進行處理前的等待期間，液體供給裝置10將處理液噴射裝置11放在靜止位置，在這個位置，裝有槽12。此時，有一定數量的處理液6從處理液噴射裝置11噴射出來。
處理液6通過過濾器14，液體輸送泵15被送到液體儲罐16，此時循環槽12接收處理液，該槽被氣密性密封并用氮氣填充，以保證不發生變質。通過在液體罐16內進行溫度調節后，處理液通過液體輸送泵18，過濾器19和電磁閥門20，再供給到處理液噴射裝置11。
按照這方案，在液體供給裝置10等待期間，由于噴頭11C的端部不是干的，可以防止凝固的出現和處理液6濃度的變化。
此外，由于可以避免從噴頭11C的端部侵入空氣中的氧氣、二氧化碳、細菌等，從而可以避免處理液6的變質和污染。
此外，由于在等待期間，受溫度調節的處理液6被循環，需要向高或向低調節處理液6的溫度，在等待期間可以避免其溫度變化和/或趨近室溫。
此外，在等待期間，處理液6一直被循環，可以防止由凈化水組成的處理液6在等待期間，在停止流動的情況下會細菌增殖，以及可以防止從排入管混入污染物。
按照前面所述的結構，在操作等待期間，來自處理液噴射裝置11噴射的一定量的處理液6，通過密封槽12被送到液體罐16，并加以循環，處理液不被浪費，而液體供給裝置10能夠供給高質量處理液。
此外，鑒于噴頭11C的噴口做成網狀，可以改善噴頭11C的液體落下的停止能力，及在移動噴頭11C的操作，和在噴頭11C靜止位置附近發生灰塵和腐蝕的過程之間的相互污染也被防止了。
此外，上面描述的實施例涉及到氣密性地密封循環槽12的內部和在處理液噴射裝置11的凸緣11A上裝有O型環11B。然而本發明不僅局限于此，而且O型環還可以安裝在循環槽12的一端上，通過O型環與凸緣11A的緊密連接，可以氣密性地密封循環槽12內部。而且，在O型環處也可以使用其它密封材料，可是最重要的部分是，當處理液噴射裝置11被移動到靜止位置時，循環槽12將被氣密性地密封。
此外，上面描述的實施例涉及到在靜止位置時，從處理液噴射裝置11恒定地噴出固定量的處理液。然而，本發明不僅僅局限于此，而且，在處理過程之前根據處理液的種類，可以合適噴射處理液6。
此外，上面描述的實施例涉及到，根據本發明把液體供給裝置應用到液體供給設備10上，通過處理液噴射裝置11給隨旋轉臺3旋轉的工件4上面噴射處理液6。然而，本發明不僅僅局限于此，而且，可以廣泛應用到將處理液供給到處理液噴射裝置的場合，該處理液噴射裝置就制造原始光具盤來說，可以將處理液噴射給原始玻璃片、半導體晶片和液晶等。
此外，上面描述的實施例涉及到裝在循環槽12和液體罐16之間的過濾器14和裝在液體罐16與處理液噴射裝置11之間的過濾器19用于去掉處理液中的雜質。然而，過濾器14和/或過濾器19在沒有過濾器14和19也能得到高質量處理液的場合下可以省去。
此外，在使用凈化水的場合，必須保持處理液一直運轉，使循環線延伸到從生產廠家的中心凈化水生產設備開始的生產線的每個裝置，以維持上述的固定質量一個用于再利用的排放管13可以連接回程排放管到到凈化水室。而且，在這種情況下，凈水罐可以裝在設備內或者設備周圍，過濾器和溫控設備可以接到一個小泵，并以同樣方式循環。
按照上面描述的本發明，在液體供給設備中，用于將處理液供到處理液噴射裝置，該裝置將處理液噴射到待處理工件上，在處理液噴射裝置不給待處理工件噴射處理液的情況下，由于提供了循環裝置，該裝置用于循環由處理液噴射裝置噴出的處理液，并把它們送回處理液噴射裝置，因此，處理液就不會浪費，而且，實現了液體供給設備能夠供給高質量的處理液。
雖然已描述了本發明的最佳實施例，很明顯，本技術領域的技術人員可以作出不同變化和改進，因此，在本發明的權利要求中，覆蓋所有這些變化和改進，這些變化和改進是在本發明的精神和范圍內。
權利要求
1.一種液體供給設備，它用于給將處理液噴射于待處理工件上的處理液噴射裝置供給處理液，包括循環裝置，當所述處理液噴射裝置不向待處理工件噴射處理液時，用于循環所述處理液噴射裝置噴出所述的處理液，并將所述的處理液再送給所述的處理液噴射裝置。
2.一種液體供給設備，用于給將處理液噴射于待處理工件上的處理液噴射裝置供給處理液，并且在所述處理液噴射裝置不向待處理工件噴射處理液時，用于循環所述處理液噴射裝置噴出的所述處理液，并將所述的處理液再送回給所述的處理液噴射裝置，其特征是，所述循環裝置包括一個槽用于接收所述處理液噴射裝置噴出的處理液；一個處理液存儲罐用于儲存由所述槽接收的處理液；和一個安裝在上述處理液存儲罐內的加熱器，用于將所述處理液調整到要求的溫度；其中所述循環裝置通過所述槽和所述處理液存儲罐，將所述處理液噴射裝置噴出的處理液送回所述的處理液噴射裝置。
3.根據權利要求2的液體供給設備，其特征是，所述循環裝置包括在所述槽與所述處理液存儲罐之間通道上，和/或在所述存儲罐與所述處理液噴射裝置之間通道上，用于去除所述處理液中雜質的過濾器。
4.根據權利要求2的液體供給設備，其特征是，所述處理液噴射裝置包括噴射所述處理液的噴頭；沿所述噴頭側邊延伸安裝的凸緣；安裝在對著所述凸緣的槽的密封材料；并且其中就將所述處理液噴入所述槽中來說，所述的處理液噴射裝置要保持所述槽內部的氣密性。
5.根據權利要求2的液體供給設備，其特征是，所述處理液噴射裝置提供了一個噴射所述處理液的噴頭，和在所述噴頭側面延伸安裝的凸緣，而所述槽在對著所述凸緣的位置設置密封材料；以及就處理液噴入所述槽中來說，要保持所述槽內部的氣密性。
6.根據權利要求2的液體供給設備，其特征是，導入氮氣的管道與所述槽相連。
7.根據權利要求2的液體供給設備，其特征是，所述處理液噴射裝置具有一個形成網狀的用于噴射所述處理液的噴射口。
全文摘要
一種液體供給設備，用于給往工作件上噴射處理液的處理液噴射裝置供給處理液，該設備能夠提供高質量的處理液，而不浪費處理液，由于處理液噴射裝置在工作等待期間噴射一定量的處理液和這些處理液被通過氣密性密封的槽進入液體罐和進行循環，液體供應設備能夠供給高質量處理液，而不浪費處理液。
文檔編號B05C11/10GK1137948SQ9511993
公開日1996年12月18日 申請日期1995年10月13日 優先權日1994年10月13日
發明者由尾啟 申請人:索尼碟技術株式會社