化合物、光學膜和光學膜的制造方法
【專利說明】
[0001] 本申請是中國申請號為201010133280.5的發明專利申請的分案申請（原申請的 發明名稱為"化合物、光學膜和光學膜的制造方法"，原申請的申請日為2010年3月12日）。
技術領域
[0002] 本發明涉及化合物、光學膜和光學膜的制造方法。
【背景技術】
[0003] 平板顯示裝置（FPD)中含有偏振片、相位差板等使用了光學膜的部件。作為光學 膜，可以列舉將在溶劑中溶解聚合性化合物而得的溶液涂布于支承基材后、進行聚合而得 到的光學膜。作為這樣的聚合性化合物，在SID Symposium Digest of Technical Papers, 2006年，37卷，p. 1673中公開了下述式所示的化合物（LC242)。
【主權項】
1. 用式（3- 1)表示的化合物，
式（3-1)中，Zi和Z 2各自獨立地表示氨原子， Q嗦示一S -或一0 -, 和各自獨立地表示_ C0 _ 0 _或_ 0 _ C0 _， Gi和G 2表示1，4 -環己焼二基， El和E2各自獨立地表示_ C0 _ 0 _或_ 0 _ C0 _， RI和B 2表不一0 -, Ai和A2表示1，4 _亞苯基， k和1各自獨立地表示1， 護和F 2各自獨立地表示碳原子數1?12的鏈焼二基， pi和P 2各自獨立地表示丙帰醜氧基或甲基丙帰醜氧基， 是用式（Y 1-2)表示的基團，
式仲一。中，Z 3各自獨立地表示團素原子、碳原子數1?6的焼基、氯基、硝基、亞硝 基、碳原子數1?6的焼基賴醜基、碳原子數1?6的焼基亞賴醜基、碳原子數1?6的氣 焼基、碳原子數1?6的焼氧基、碳原子數1?6的焼硫基、碳原子數2?8的N，N -二焼 基氨基、碳原子數1?4的N -焼基氨基、氨賴醜基、碳原子數1?6的N -焼基氨賴醜基、 碳原子數2?12的N，N -二焼基氨賴醜基或一COOH， 和各自獨立地表示_ C0 _、_ S _、_ nr3_、_ 0 _、_ se _或_ s〇2_， 胖1和W2各自獨立地表示一CR3 =或一N=，其中R3各自獨立地表示氨原子或碳原子數 1?4的焼基， b各自獨立地表示0?2的整數。
2. 如權利要求1所述的化合物，其中，V 1為一S -、一 NR3-或一0 ―。
3. -種組合物，其含有權利要求1所述的化合物、和液晶化合物，該液晶化合物不同于 權利要求1所述的化合物，該液晶化合物是式（I - 1)?式（I - 5)所示的化合物、式炬1 -1)?式炬20 - 8)所示的化合物、式（C1 - 1)?式（C4 - 8)所示的化合物、式（II - 1)? 式（II - 6)所示的化合物、式（III - 1)?式（III - 19)所示的化合物、式（IV - 1)?
式（IV - 14)所示的化合物、或式（V - 1)?式（V - 5)所示的化合物，
4. 如權利要求3所述的組合物，其中，還含有聚合引發劑。
5. 如權利要求4所述的組合物，其中，聚合引發劑含有苯己麗化合物。
6. -種光學膜，通過將權利要求1所述的化合物聚合而得到。
7. -種光學膜，通過將權利要求3?5中任一項所述的組合物聚合而得到。
8. 如權利要求6或7所述的光學膜，用于波長550nm處的相位差值Re巧50)為113? 16：3nm 的 A/4 板。
9. 如權利要求6或7所述的光學膜，用于波長550nm處的相位差值Re巧50)為250? 300nm 的 A/2 板。
10. -種偏振片，其中，含有權利要求6?9中任一項所述的光學膜和偏振膜。
11. 一種濾色器，其中，在涂布于濾色器基板上的取向膜上形成有權利要求6?9中任 一項所述的光學膜。
12. -種液晶顯示裝置，其中，含有權利要求11所述的濾色器。
13. -種平板顯示裝置，其中，具備含有權利要求10所述的偏振片的液晶面板。
14. 一種有機化顯示裝置，其中，具備含有權利要求10所述的偏振片的有機電致發光 面板。
15. -種未聚合膜的制造方法，其特征在于，將含有權利要求1所述化合物的溶液涂布 在支承基材上或涂布在形成于支承基材上的取向膜上，并使之干燥。
16. -種光學膜的制造方法，其特征在于，使通過權利要求15所述的制造方法得到的 未聚合膜固化。
【專利摘要】本發明涉及化合物、光學膜和光學膜的制造方法。具體地說，涉及具有式(1－1)或式(1－2)所示二價基團的化合物、以及使該化合物聚合而得到的光學膜。式中，Z1和Z2各自獨立地表示氫原子等；Q1和Q2各自獨立地表示－S－等；Y1表示取代或未取代的多環式芳香族烴基、或者取代或未取代的多環式芳香族雜環基；D1和D2各自獨立地表示單鍵或二價連接基團；G1和G2各自獨立地表示二價脂環式烴基。
【IPC分類】C07D493-04, C08F22-22, C07D277-62, G02B5-30, C07D417-04, G02F1-1335, C09K19-34, C07D417-10, C08F22-24, C07D495-04, C09K19-46, C07D417-14, C09K19-38, G02B5-20, C07D277-66
【公開號】CN104592219
【申請號】CN201410664138
【發明人】大川春樹, 美阿·布拉博·樸, 小林忠弘, 落合鋼志郎
【申請人】住友化學株式會社
【公開日】2015年5月6日
【申請日】2010年3月12日
【公告號】CN101838264A, CN101838264B