本發明(ming)涉及(ji)用于TFT玻璃基(ji)板蝕刻預處理的(de)組合(he)物。

背景技術：

市(shi)場(chang)需(xu)求的(de)(de)(de)(de)TFT顯示屏(ping)越來越朝超薄(bo)(bo)(bo)方向(xiang)發展，在(zai)(zai)制作超薄(bo)(bo)(bo)TFT顯示屏(ping)使需(xu)要(yao)的(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃基(ji)板(ban)厚度更薄(bo)(bo)(bo)，需(xu)要(yao)對現(xian)有(you)(you)規格玻(bo)璃基(ji)板(ban)進行(xing)薄(bo)(bo)(bo)化處(chu)(chu)理(li)，現(xian)有(you)(you)技(ji)術(shu)中多(duo)采(cai)(cai)用含有(you)(you)氫氟酸(suan)的(de)(de)(de)(de)蝕刻液(ye)進行(xing)薄(bo)(bo)(bo)化處(chu)(chu)理(li)，在(zai)(zai)薄(bo)(bo)(bo)化處(chu)(chu)理(li)后玻(bo)璃基(ji)板(ban)表(biao)明往往會出現(xian)局部過蝕產生(sheng)的(de)(de)(de)(de)凹坑，需(xu)要(yao)再(zai)對基(ji)板(ban)表(biao)明進行(xing)長(chang)時(shi)間的(de)(de)(de)(de)拋(pao)光處(chu)(chu)理(li)，嚴(yan)重影響了生(sheng)產效率，提(ti)高了加(jia)工(gong)成(cheng)本(ben)。為了減少(shao)薄(bo)(bo)(bo)化處(chu)(chu)理(li)出現(xian)的(de)(de)(de)(de)凹坑，除了在(zai)(zai)以氫氟酸(suan)為基(ji)礎的(de)(de)(de)(de)蝕刻液(ye)中加(jia)入助劑外，還可以采(cai)(cai)用在(zai)(zai)薄(bo)(bo)(bo)化處(chu)(chu)理(li)前對TFT液(ye)晶屏(ping)的(de)(de)(de)(de)玻(bo)璃基(ji)板(ban)(簡稱TFT玻(bo)璃)進行(xing)預處(chu)(chu)理(li)的(de)(de)(de)(de)方法，現(xian)有(you)(you)技(ji)術(shu)中的(de)(de)(de)(de)預處(chu)(chu)理(li)液(ye)多(duo)采(cai)(cai)用濃硫(liu)酸(suan)為基(ji)礎配制的(de)(de)(de)(de)混合(he)酸(suan)液(ye)，在(zai)(zai)提(ti)供一種新(xin)的(de)(de)(de)(de)TFT玻(bo)璃薄(bo)(bo)(bo)化工(gong)藝預處(chu)(chu)理(li)液(ye)，在(zai)(zai)提(ti)高處(chu)(chu)理(li)效果(guo)的(de)(de)(de)(de)基(ji)礎上降低(di)污染排放，成(cheng)為現(xian)有(you)(you)技(ji)術(shu)中亟待(dai)解決的(de)(de)(de)(de)問題。

技術實現要素：

為(wei)解決前述技術問題，本(ben)發(fa)明提(ti)供了一種(zhong)TFT玻璃基板薄化工藝預處(chu)理(li)液，通過優化預處(chu)理(li)液的(de)處(chu)方和處(chu)理(li)工藝，成(cheng)功的(de)實現(xian)了避免(mian)了濃硫酸等造(zao)成(cheng)嚴(yan)重污染且難于(yu)處(chu)理(li)的(de)原材料(liao)的(de)使用。

本發明提供了一種TFT玻璃(li)基(ji)板薄化工藝預處理液，其特征在于所述(shu)預處理液由以(yi)下成(cheng)分組成(cheng)：質量百(bai)(bai)(bai)分比含量10～20％的(de)鹽酸(HCl)，質量百(bai)(bai)(bai)分比含量2％～5％的(de)氫(qing)氟(fu)酸(HF)，質量百(bai)(bai)(bai)分比含量5～10％的(de)聚乙烯醇(PVA)，質量百(bai)(bai)(bai)分比含量0.5～1％的(de)聚二甲(jia)基(ji)硅氧烷，質量百(bai)(bai)(bai)分含量1-2％的(de)羥(qian)丙基(ji)-β-環糊精及余量的(de)水。

在(zai)研(yan)(yan)究中我們發現，當采用本(ben)發明提(ti)供的(de)一種(zhong)TFT玻(bo)璃基板薄化工(gong)(gong)藝(yi)預處理(li)(li)(li)液對(dui)TFT玻(bo)璃基板按照本(ben)發明提(ti)供的(de)工(gong)(gong)藝(yi)進行(xing)預處理(li)(li)(li)后，可(ke)以顯著降低(di)薄化工(gong)(gong)藝(yi)后基板表面的(de)凹坑，大大減少再(zai)研(yan)(yan)磨工(gong)(gong)序(xu)的(de)時(shi)間(jian)，且通(tong)過(guo)優化預處理(li)(li)(li)液的(de)配方(fang)可(ke)以使得預處理(li)(li)(li)后的(de)玻(bo)璃基板的(de)CF面和(he)(he)TFT面均(jun)具有較好的(de)薄化效(xiao)果。從而可(ke)以整體上降低(di)后續研(yan)(yan)磨工(gong)(gong)序(xu)的(de)時(shi)間(jian)，提(ti)高生產效(xiao)率。同時(shi)本(ben)發明提(ti)供的(de)預處理(li)(li)(li)液在(zai)保證(zheng)了(le)(le)預處理(li)(li)(li)效(xiao)果的(de)同時(shi)，避免(mian)了(le)(le)現有技術中采用濃硫酸為主要成(cheng)分的(de)預處理(li)(li)(li)液在(zai)使用時(shi)的(de)不安全(quan)性和(he)(he)廢液難于處理(li)(li)(li)的(de)問(wen)題(ti)，減少了(le)(le)這個TFT面板生產工(gong)(gong)藝(yi)的(de)污(wu)染(ran)排放和(he)(he)污(wu)染(ran)物(wu)處理(li)(li)(li)成(cheng)本(ben)。

具體實施方式

本發明(ming)提供的一(yi)種TFT玻璃(li)基(ji)板薄化(hua)工藝預處(chu)理(li)液，以如(ru)下方(fang)法配制，

1)將處方量鹽酸(suan)與氫氟酸(suan)混合(he)，并加(jia)入適(shi)量水稀釋(shi)

2)將處方量的羥丙基-β-環糊(hu)精溶(rong)于適量水中至完全溶(rong)解，然后加(jia)入(ru)；

3)將處方量PVA溶于適量水(shui)中至完全溶解

4)將(jiang)步驟(zou)2)、3)得(de)到(dao)的溶液(ye)(ye)混合，然后將(jiang)步驟(zou)1)得(de)到(dao)的混合液(ye)(ye)緩慢加入(ru)，加入(ru)處方(fang)量聚(ju)二(er)甲基硅氧(yang)烷，補足處方(fang)量的水并攪拌至成為(wei)均一(yi)溶液(ye)(ye)。

實施例1～4的配方見下(xia)表(質量百分比(bi)wt％)

對實施(shi)例1～4得(de)到的預處理液進行薄化預處理的方法如下

取用原材料為(wei)(wei)(wei)板(ban)硝子AN100相同廠家同批次的(de)TFT玻璃(li)面板(ban)進行，其厚度為(wei)(wei)(wei)1.000mm，尺寸為(wei)(wei)(wei)730mm×920mm。所采(cai)用的(de)蝕(shi)刻(ke)及(ji)拋(pao)光設備分(fen)別(bie)為(wei)(wei)(wei)東莞鴻村蝕(shi)刻(ke)機(ji)和湖南永創拋(pao)光機(ji)。

預處理方法為

1)配制一(yi)種TFT玻璃基板(ban)薄(bo)化工藝預處(chu)理液(ye)(ye)1000L(以(yi)下簡(jian)稱預處(chu)理液(ye)(ye))

2)將預(yu)處(chu)理液打(da)入(ru)蝕刻(ke)機酸槽中(zhong)，把5片TFT基板(ban)(編號為I～V)浸泡(pao)在混(hun)合液中(zhong)，去除玻璃表面雙層60微米；

3)：用清水洗凈(jing)玻璃表(biao)面，在表(biao)面濕潤(run)的條件下再進入氫氟酸蝕刻(ke)液中，濃度(du)為9mol/L，溫度(du)控制在30℃條件，薄化(hua)至0.5mm厚度(du)。

領取(qu)5片TFT基板(編號(hao)i～v)清水(shui)清洗后直接進入氫氟酸蝕刻液(ye)中濃(nong)度(du)為9mol/L，溫度(du)控制在30℃條件(jian)，薄(bo)化至(zhi)0.5mm厚度(du)，并作為對照組

在同一臺永創拋光機1300-3#上，壓力60g/cm²，下盤轉(zhuan)(zhuan)速50，上盤轉(zhuan)(zhuan)速40，研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)墊為(wei)環球LP-66型號(hao)，拋光(guang)粉為(wei)德樂士(shi)101型號(hao)，吸附(fu)墊為(wei)FUJIBO BPE211型號(hao)，實驗(yan)組(zu)每研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)2分(fen)鐘(zhong)檢驗(yan)一次表(biao)面(mian)效(xiao)果(guo)(guo)，對(dui)照組(zu)每研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)5分(fen)鐘(zhong)檢驗(yan)一次表(biao)面(mian)效(xiao)果(guo)(guo)，記(ji)錄研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)后檢驗(yan)沒(mei)有凹坑的累計研(yan)(yan)(yan)磨(mo)(mo)時間如表(biao)1所示

實驗結果表明(ming)，采用本發明(ming)提(ti)供的預(yu)處(chu)理(li)液進(jin)行預(yu)處(chu)理(li)后(hou)(hou)的玻璃基板在進(jin)行薄化工藝(yi)處(chu)理(li)后(hou)(hou)可以顯著減少面板上的凹坑。