一種提高磁控濺射靶材利用率的結構的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種磁控濺射靶材，具體是一種提高磁控濺射靶材利用率的結構。
【背景技術】
[0002]大型連續性真空鍍膜設備，主要是在真空的環境下連續不斷的將靶材濺射沉積到玻璃基板上。靶材從更換到用完，其壽命直接影響了鍍膜產品的成本。尤其是ITO導電玻璃鍍膜行業，因氧化銦錫的價格極其昂貴，濺射用靶材的成本占產品成本的三分之一以上，故提高濺射靶材的利用率一直是鍍膜行業技術人員追求的方向。
[0003]所謂鍍膜，就是在固體表面上鍍上一層與基體材料不同的薄層材料，從而改變表面的基體性質的技術。ITO導電玻璃鍍膜技術，即通過磁控濺射的方法將氧化銦錫(簡稱ΙΤ0)靶材，濺射沉積到玻璃表面，從而形成一層透明導電的氧化物薄膜。所謂“濺射”就是用荷能粒子(通常是氣體的正離子)轟擊物體，從而引起物理表面原子從母體中逸出的現象。1842年，Groue在實驗室發現的這種現象；1877年，美國貝爾實驗室及西屋電氣公司開始應用濺射原理制備薄膜。1970年磁控濺射技術及其裝置開始出現。利用磁場的來束縛電子的運動，使轟擊基片的高能電子減少，而轟擊靶的高能粒子增多，從而具備高速，低溫兩大特點，從而得到了大面積的工業應用。
[0004]通過靶材下面的N-S-N三排固定在磁鐵板上的磁鐵所發散出的磁力線束縛靶材表面的電子運動軌跡，電子在輝光放電時不斷促使氬氣電離出氬正離子，而ITO靶材上通了較高的負電壓，氬正離子就不斷的向靶材方向高速移動，從而不斷將靶材原子轟擊出來，沉積到基材表面形成ITO導電薄膜。靶材在刻蝕完成后，所形成的溝槽形狀，其正好與磁力線的分布對稱，因為中間區域平行于靶面方向的磁力線最多，其所束縛的電子就越多，導致濺射量就越大。
[0005]現有技術的缺點主要是磁力線從固定在磁鐵板上的磁極上，垂直于磁鐵表面出來，從N到S。其靶材的中間及兩邊有較多的無效濺射區域，導致利用率比較低，基本在18%左右。
【實用新型內容】
[0006]本實用新型的目的在于提供一種提高磁控濺射靶材利用率的結構，以解決上述【背景技術】中提出的問題。
[0007]為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案:
[0008]一種提高磁控濺射靶材利用率的結構，包括伺服電機、絲杠、磁鐵板、絲杠螺母、磁鐵組和靶材，所述靶材的背面設置磁鐵組，磁鐵組固連在磁鐵板上，從而構成磁控濺射靶材結構，所述磁鐵板的背面固連絲杠螺母，絲杠螺母連接絲杠，絲杠的一端連接伺服電機。
[0009]作為本實用新型進一步的方案:所述磁鐵組由極性交錯設置的條形磁鐵構成。
[0010]與現有技術相比，本實用新型的有益效果是:本實用主要是通過將磁鐵板的寬度變窄，同時配有伺服電機與絲杠，通過伺服電機的正反轉及適當的轉速控制，使得磁鐵板帶著磁鐵組在靶材寬度范圍內，進行左右移動。通過周期性的左右運動疊加，最終達到最大的靶材刻蝕效果，通過測試，靶材利用率可提高I倍以上。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0012]下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。
[0013]請參閱圖1，本實用新型實施例中，一種提高磁控濺射靶材利用率的結構，包括伺服電機1、絲杠2、磁鐵板3、絲杠螺母4、磁鐵組5、靶材6和已刻蝕區域7，所述靶材6的背面設置磁鐵組5，磁鐵組5固連在磁鐵板3上，從而構成磁控濺射靶材結構，所述磁鐵板3的背面固連絲杠螺母4，絲杠螺母4連接絲杠2，絲杠2的一端連接伺服電機1，通過伺服電機I帶動絲杠2轉動，而通過螺紋進給的原理，使得絲杠螺母4和磁控濺射靶材結構相對于絲杠2左右移動，使得靶材6正面的已刻蝕區域7增大。
[0014]所述磁鐵組5由極性交錯設置的條形磁鐵構成。
[0015]本實用主要是通過將磁鐵板3的寬度變窄，同時配有伺服電機I與絲杠2，通過伺服電機I的正反轉及適當的轉速控制，使得磁鐵板3帶著磁鐵組5在靶材寬度范圍內，進行左右移動。通過周期性的左右運動疊加，最終達到最大的靶材刻蝕效果，通過測試，靶材利用率可提高I倍以上。
[0016]對于本領域技術人員而言，顯然本實用新型不限于上述示范性實施例的細節，而且在不背離本實用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實現本實用新型。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實用新型的范圍由所附權利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內的所有變化囊括在本實用新型內。不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。
[0017]此外，應當理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領域技術人員應當將說明書作為一個整體，各實施例中的技術方案也可以經適當組合，形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。
【主權項】
1.一種提高磁控濺射靶材利用率的結構，包括伺服電機、絲杠、磁鐵板、絲杠螺母、磁鐵組和靶材，所述靶材的背面設置磁鐵組，磁鐵組固連在磁鐵板上，從而構成磁控濺射靶材結構，其特征在于，所述磁鐵板的背面固連絲杠螺母，絲杠螺母連接絲杠，絲杠的一端連接伺服電機。2.根據權利要求1所述的一種提高磁控濺射靶材利用率的結構，其特征在于，所述磁鐵組由極性交錯設置的條形磁鐵構成。
【專利摘要】本實用新型公開了一種提高磁控濺射靶材利用率的結構，包括伺服電機、絲杠、磁鐵板、絲杠螺母、磁鐵組和靶材，所述靶材的背面設置磁鐵組，磁鐵組固連在磁鐵板上，從而構成磁控濺射靶材結構，所述磁鐵板的背面固連絲杠螺母，絲杠螺母連接絲杠，絲杠的一端連接伺服電機。本實用主要是通過將磁鐵板的寬度變窄，同時配有伺服電機與絲杠，通過伺服電機的正反轉及適當的轉速控制，使得磁鐵板帶著磁鐵組在靶材寬度范圍內，進行左右移動。通過周期性的左右運動疊加，最終達到最大的靶材刻蝕效果，通過測試，靶材利用率可提高1倍以上。
【IPC分類】C23C14/35
【公開號】CN204803398
【申請號】CN201520489264
【發明人】閆都倫, 王克斌, 吳細標, 唐貴民
【申請人】深圳新南亞技術開發有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請日】2015年7月9日