一種pvd真空離子鍍膜機的制作方法
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于鍍膜機技術領域，特別涉及一種PVD真空離子鍍膜機。
【背景技術】
[0002]物理氣相沉積(PVD)是通過蒸發，電離或濺射等過程，產生金屬粒子并與反應氣體反應形成化合物沉積在工件表面。物理氣相沉積鍍膜技術主要分為三類，真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。
[0003]其中，真空離子鍍膜是借助于惰性氣體輝光放電，使鍍料(如金屬鈦)氣化蒸發離子化，離子經電場加速，以較高能量轟擊工件表面，此時如通入C2H2、N2等反應氣體，便可在工件表面獲得TiC、TiN覆蓋層，硬度高達2000HV。真空離子鍍膜的重要特點是沉積溫度只有500°C左右，且覆蓋層附著力強。近十多年來，真空離子鍍膜技術的發展是最快的，它已經成為當今最先進的表面處理方式之一。
[0004]然而現有的真空離子鍍膜機結構復雜、鍍膜效果不理想、維護難度大。
【實用新型內容】
[0005]本實用新型的目的在于:針對現有技術的不足，而提供一種結構簡單、鍍膜效果理想、維護難度小的PVD真空離子鍍膜機。
[0006]為實現上述目的，本實用新型采用如下技術方案:
[0007]一種PVD真空離子鍍膜機，包括真空泵、鍍膜箱體和轉架，所述鍍膜箱體設置有鍍膜腔，所述真空泵與所述鍍膜腔連通，所述轉架設置于所述鍍膜腔內，在對應所述轉架位置的所述鍍膜腔側壁上設置有等離子體弧源。
[0008]作為本實用新型所述的PVD真空離子鍍膜機的一種改進，轉架包括頂盤、主軸、底盤和裝料盤，所述底盤的底端設置有驅動電機，所述主軸的一端穿過所述底盤且所述驅動電機的輸出端連接，所述主軸的另一端轉動連接于所述頂盤，在所述頂盤和所述底盤之間設置有定桿和轉桿，所述裝料盤安裝于所述轉桿。
[0009]作為本實用新型所述的PVD真空離子鍍膜機的一種改進，所述裝料盤包括托盤和設置于所述托盤的套筒，所述托盤設置為圓形結構，所述套筒的數量設置為多個，多個所述套筒均勻的分布于所述托盤的邊緣，每個所述套筒的底部均設置有旋轉齒輪。
[0010]作為本實用新型所述的PVD真空離子鍍膜機的一種改進，在所述定桿上設置有撥片裝置，所述撥片裝置包括驅動部和撥片，所述驅動部控制所述撥片撥動所述裝料盤旋轉。
[0011]作為本實用新型所述的PVD真空離子鍍膜機的一種改進，所述真空泵包括機械泵、羅茨泵和分子泵，所述機械泵、所述羅茨泵和所述分子泵依次通過抽氣管道連通，所述分子泵設置于所述鍍膜箱體的頂部，在所述羅茨泵和所述分子泵之間的所述抽氣管道通過預抽閥與所述鍍膜腔連通。
[0012]作為本實用新型所述的PVD真空離子鍍膜機的一種改進，所述分子泵的底部設置有插板閥。
[0013]本實用新型的有益效果在于:本實用新型包括真空泵、鍍膜箱體和轉架，鍍膜箱體設置有鍍膜腔，真空泵與鍍膜腔連通，轉架設置于鍍膜腔內，在對應轉架位置的鍍膜腔側壁上設置有等離子體弧源。將需要鍍膜的工具模具放置在轉架上，開啟真空泵使腔體達到真空鍍膜狀態，進而開啟鍍膜腔內的等離子體弧源工作，從而實現對轉架上的工具模具進行鍍膜；本實用新型的結構簡單、鍍膜效果理想、維護難度小。
【附圖說明】
[0014]圖1為本實用新型的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0015]下面結合【具體實施方式】和說明書附圖，對本實用新型作進一步詳細的描述，但本實用新型的實施方式不限于此。
[0016]如圖1所示，一種PVD真空離子鍍膜機，包括真空泵1、鍍膜箱體2和轉架3，鍍膜箱體2設置有鍍膜腔21，真空泵I與鍍膜腔21連通，轉架3設置于鍍膜腔21內，在對應轉架3位置的鍍膜腔21側壁上分別設置有等離子體弧源4，等離子體弧源4為鍍膜提供了材料來源。本實用新型的等離子體弧源4包括有靶材5，通過等離子體弧源4的激發將靶材5沉積在需涂覆的產品上，靶材5是高速荷能粒子轟擊的目標材料。
[0017]優選地，轉架3包括頂盤31、主軸32、底盤33和裝料盤34，底盤33的底端設置有驅動電機(圖未示)，主軸32的一端穿過底盤33且與驅動電機的輸出端連接，主軸32的另一端轉動連接于頂盤31，在頂盤31和底盤33之間設置有定桿35和轉桿36，裝料盤34安裝于轉桿36。主軸32的工作帶動頂盤31、底盤33以及轉桿36 —起旋轉，在旋轉的過程中使得鍍膜更均勻。裝料盤34包括托盤341和設置于托盤341的套筒342，托盤341設置為圓形結構，套筒342的數量設置為多個，多個套筒342均勻的分布于托盤341的邊緣，每個套筒342的底部均設置有旋轉齒輪。在定桿35上設置有撥片裝置37，撥片裝置37包括驅動部371和撥片372，驅動部371控制撥片372撥動裝料盤34旋轉。
[0018]優選地，真空泵I包括機械泵11、羅茨泵12和分子泵13，機械泵11、羅茨泵12和分子泵13依次通過抽氣管道14連通，分子泵13設置于鍍膜箱體2的頂部，分子泵13用于精抽、抽高真空時運轉，在羅茨泵12和分子泵13之間的抽氣管道14通過預抽閥15與鍍膜腔21連通，預抽閥15用于粗抽時打開。分子泵13的底部設置有插板閥131，插板閥131用于抽高真空時打開。
[0019]本實用新型的工作過程是:
[0020]I)抽真空，開啟機械泵11，打開預抽閥15，待真空度到達羅茨泵12的工作范圍時，開啟羅茨泵12，待真空度達到分子泵13的工作范圍時，按后續步驟依次操作一一關閉預抽閥15、啟動分子泵13、打開高真空插板閥131待真空度到達可以加熱的程度；
[0021]2)加熱，設定好最終鍍膜時的溫度，啟動加熱，待到達所需的溫度時，進行鍍膜；
[0022]3)鍍膜，開啟等離子體弧源4進行鍍膜，此過程持續的時間由膜層的厚度決定，待鍍膜時間結束，進行降溫；
[0023]4)降溫，關閉加熱器進行冷卻降溫。
[0024]本實用新型主要為工具模具鍍膜，如TiN、CrN, TiCN, AlTiN/TiAIN等工具模具上鍍硬質膜層，拓展工具模具應用范圍以及延長使用壽命，是目前世界范圍內比較流行的材料表面改性的一種高科技手段，設備工藝較為簡單，制作膜層性能良好，極大程度改善了純金屬工模具的使用性能。
[0025]本實用新型的PVD真空離子鍍膜機不會造成環境污染，是國家大力扶持的對象，對發展的新型綠色環保產業做出了貢獻，為高速發展的電子、軍工、船舶、航天等事業提供更優質的服務。
[0026]根據上述說明書的揭示和教導，本實用新型所屬領域的技術人員還能夠對上述實施方式進行變更和修改。因此，本實用新型并不局限于上述的【具體實施方式】，凡是本領域技術人員在本實用新型的基礎上所作出的任何顯而易見的改進、替換或變型均屬于本實用新型的保護范圍。此外，盡管本說明書中使用了一些特定的術語，但這些術語只是為了方便說明，并不對本實用新型構成任何限制。
【主權項】
1.一種PVD真空離子鍍膜機，其特征在于:包括真空泵、鍍膜箱體和轉架，所述鍍膜箱體設置有鍍膜腔，所述真空泵與所述鍍膜腔連通，所述轉架設置于所述鍍膜腔內，在對應所述轉架位置的所述鍍膜腔側壁上設置有等離子體弧源。2.根據權利要求1所述的PVD真空離子鍍膜機，其特征在于:所述轉架包括頂盤、主軸、底盤和裝料盤，所述底盤的底端設置有驅動電機，所述主軸的一端穿過所述底盤且與所述驅動電機的輸出端連接，所述主軸的另一端轉動連接于所述頂盤，在所述頂盤和所述底盤之間設置有定桿和轉桿，所述裝料盤安裝于所述轉桿。3.根據權利要求2所述的PVD真空離子鍍膜機，其特征在于:所述裝料盤包括托盤和設置于所述托盤的套筒，所述托盤設置為圓形結構，所述套筒的數量設置為多個，多個所述套筒均勻的分布于所述托盤的邊緣，每個所述套筒的底部均設置有旋轉齒輪。4.根據權利要求3所述的PVD真空離子鍍膜機，其特征在于:在所述定桿上設置有撥片裝置，所述撥片裝置包括驅動部和撥片，所述驅動部控制所述撥片撥動所述裝料盤旋轉。5.根據權利要求1所述的PVD真空離子鍍膜機，其特征在于:所述真空泵包括機械泵、羅茨泵和分子泵，所述機械泵、所述羅茨泵和所述分子泵依次通過抽氣管道連通，所述分子泵設置于所述鍍膜箱體的頂部，在所述羅茨泵和所述分子泵之間的所述抽氣管道通過預抽閥與所述鍍膜腔連通。6.根據權利要求5所述的PVD真空離子鍍膜機，其特征在于:所述分子泵的底部設置有插板閥。
【專利摘要】本實用新型屬于鍍膜機技術領域，特別涉及一種PVD真空離子鍍膜機，包括真空泵、鍍膜箱體和轉架，鍍膜箱體設置有鍍膜腔，真空泵與鍍膜腔連通，轉架設置于鍍膜腔內，在對應轉架位置的鍍膜腔側壁上設置有等離子體弧源。將需要鍍膜的工具模具放置在轉架上，開啟真空泵使腔體達到真空鍍膜狀態，進而開啟鍍膜腔內的等離子體弧源工作，從而實現對轉架上的工具模具進行鍍膜；本實用新型的結構簡單、鍍膜效果理想、維護難度小。
【IPC分類】C23C14/32
【公開號】CN204661820
【申請號】CN201520314087
【發明人】王俊鋒
【申請人】東莞市瑞鼎納米科技有限公司
【公開日】2015年9月23日
【申請日】2015年5月15日