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光罩及彩色濾光片基板的制作方法_2

文(wen)檔序號:9374132閱讀:來源(yuan):國知局
2,可使曝光區510邊緣衍射的光強度變弱,用于彩色濾光片基板上色阻層的制程中時,可產生曝光的灰階(Gray tone)效果,牛角區的曝光量較小,顯影后被部分洗掉,因此彩色濾光片基板的膜面平坦性變好;可改善現有技術中彩色濾光片基板上色阻層因光罩曝光區邊緣衍射光光強過大而造成的牛角問題。
[0032]基于以上光罩,請參閱圖4,本發明還提供一種彩色濾光片基板的制作方法,包括如下步驟:
[0033]步驟1、提供基板10,在所述基板10上形成黑色矩陣20,所述黑色矩陣20在所述基板10上圍出數個子像素區域;
[0034]步驟2、在所述基板10及黑色矩陣20上涂布色阻材料,提供光罩500,對所述色阻材料進行曝光、顯影,以對應所述數個子像素區域形成數個色阻單元30,得到色阻層,所述色阻單元30完全覆蓋所述子像素區域且所述色阻單元30的邊緣交疊于所述黑色矩陣20上;
[0035]如圖3所示,所述光罩500包括對應色阻單元30位置的曝光區510、及包圍所述爆光區510錯開對應色阻單元30位置的遮光區520,所述遮光區520完全不透光,所述曝光區510包括完全透光的透光區511及靠近所述曝光區31邊緣的不透光的線形的遮光線512 ;
[0036]如圖5所示,由于光罩500的曝光區510的靠近邊緣位置具有擋光的遮光線512,使光從曝光區510邊緣衍射的光強度變弱,疊加于黑色矩陣20上的色阻材料部分曝光量變少,膜厚降低,從而改善彩色濾光片基板的膜面平坦性、改善色阻層的牛角問題。
[0037]具體的,所述色阻材料為負型色阻材料,顯影時,未被曝光的部分被去除,被曝光的部分被保留,從而使色阻材料形成所需的圖形。
[0038]具體的,所述色阻單元30包括紅色色阻單元、綠色色阻單元、及藍色色阻單元;所述紅色色阻單元、綠色色阻單元、及藍色色阻單元分別由紅色色阻材料、綠色色阻材料、及藍色色阻材料按任意順序依次形成。
[0039]或者,所述色阻單元30還包括白色色阻單元,所述白色色阻單元、紅色色阻單元、綠色色阻單元、及藍色色阻單元分別由白色色阻材料、紅色色阻材料、綠色色阻材料、及藍色色阻材料按任意順序依次形成。
[0040]具體的,還包括,步驟3、在所述基板、黑色矩陣、及色阻層上形成外敷層,在所述外敷層上形成公共電極層,或者直接在所述基板、黑色矩陣、及色阻層上直接形成公共電極層。
[0041]綜上所述,本發明提供的光罩,曝光區內靠近邊緣位置具有擋光的遮光線,使曝光區邊緣衍射的光強度變弱,可用于改善現有技術中彩色濾光片基板上色阻層的色阻單元與黑色矩陣交疊處的牛角問題;本發明的彩色濾光片基板的制作方法,用于形成色阻層的光罩的曝光區的靠近邊緣位置具有擋光的遮光線,使曝光區邊緣衍射的光強度變弱,疊加于黑色矩陣上的色阻材料的曝光量變少,膜厚降低,膜面平坦性變好,從而改善色阻層的色阻單元與黑色矩陣交疊處的牛角問題,使得子像素邊緣處的液晶排列效果好,進而可改善液晶顯不廣品尤其是IPS型液晶顯不廣品的品質,。
[0042]以上所述,對于本領域的普通技術人員來說,可以根據本發明的技術方案和技術構思作出其他各種相應的改變和變形,而所有這些改變和變形都應屬于本發明后附的權利要求的保護范圍。
【主權項】
1.一種光罩,其特征在于,包括曝光區(510)、及包圍所述曝光區(510)的遮光區(520),所述遮光區(520)完全不透光,所述曝光區(510)包括完全透光的透光區(511)及靠近所述曝光區(510)邊緣的不透光的線形的遮光線(512)。2.如權利要求1所述的光罩,其特征在于,所述遮光線(512)與所述遮光區(520)由同種材料構成。3.—種彩色濾光片基板的制作方法,其特征在于,包括如下步驟: 步驟1、提供基板(10),在所述基板(10)上形成黑色矩陣(20),所述黑色矩陣(20)在所述基板(10)上圍出數個子像素區域; 步驟2、在所述基板(10)及黑色矩陣(20)上涂布色阻材料,提供光罩(500),對所述色阻材料進行曝光、顯影,以對應所述數個子像素區域形成數個色阻單元(30),得到色阻層,所述色阻單元(30)完全覆蓋所述子像素區域且所述色阻單元(30)的邊緣交疊于所述黑色矩陣(20)上; 所述光罩(500)包括對應色阻單元(30)位置的曝光區(510)及包圍所述曝光區(510)的遮光區(520),所述遮光區(520)完全不透光,所述曝光區(510)包括完全透光的透光區(511)及靠近所述曝光區(510)邊緣的不透光的線形的遮光線(512)。4.如權利要求3所述的彩色濾光片基板的制作方法,其特征在于,所述步驟2中色阻材料為負型色阻材料。5.如權利要求3所述的彩色濾光片基板的制作方法,其特征在于,所述色阻單元(30)包括紅色色阻單元、綠色色阻單元、及藍色色阻單元。6.如權利要求5所述的彩色濾光片基板的制作方法,其特征在于,所述紅色色阻單元、綠色色阻單元、及藍色色阻單元分別由紅色色阻材料、綠色色阻材料、及藍色色阻材料按任意順序依次形成。7.如權利要求3所述的彩色濾光片基板的制作方法,其特征在于,所述色阻單元(30)包括白色色阻單元、紅色色阻單元、綠色色阻單元、及藍色色阻單元。8.如權利要求7所述的彩色濾光片基板的制作方法,其特征在于,所述白色色阻單元、紅色色阻單元、綠色色阻單元、及藍色色阻單元分別由白色色阻材料、紅色色阻材料、綠色色阻材料、及藍色色阻材料按任意順序依次形成。9.如權利要求3所述的彩色濾光片基板的制作方法,其特征在于,還包括,步驟3、在所述基板、黑色矩陣、及色阻層上形成外敷層,在所述外敷層上形成公共電極層。
【專利摘要】本發明提供一種光罩及彩色濾光片基板的制作方法,本發明提供的光罩,曝光區內靠近邊緣位置具有擋光的遮光線,使曝光區邊緣衍射的光強度變弱,可用于改善現有技術中彩色濾光片基板上色阻層的色阻單元與黑色矩陣交疊處的牛角問題;本發明的彩色濾光片基板的制作方法,用于形成色阻層的光罩的曝光區的靠近邊緣位置具有擋光的遮光線,使曝光區邊緣衍射的光強度變弱,疊加于黑色矩陣上的色阻材料的曝光量變少,膜厚降低,膜面平坦性變好,從而改善色阻層的色阻單元與黑色矩陣交疊處的牛角問題,使得子像素邊緣處的液晶排列效果好,進而可改善液晶顯示產品尤其是IPS型液晶顯示產品的品質。
【IPC分類】G02F1/1335
【公開號】CN105093647
【申請號】CN201510492335
【發明人】翁國光
【申請人】武漢華星光電技術有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請日】2015年8月12日
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