薄膜干涉測量裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種薄膜干涉測量裝置，屬于物理實驗演示儀器技術領域。
【背景技術】
[0002]薄膜干涉是一種常見的光干涉現象，其是由薄膜上、下表面反射或折射光束相遇而產生的干涉，薄膜通常由厚度很小的透明介質形成，如肥皂泡膜、油膜、介質膜等。薄膜干涉實驗是物理課程中的必修實驗，使用傳統的實驗方法，干涉效果不明顯，測量數據不夠準確，而專用的薄膜干涉測量儀價格昂貴，普及度不高。
【實用新型內容】
[0003]鑒于上述原因，本實用新型的目的在于提供一種薄膜干涉測量裝置，該裝置結構簡單、實驗效果良好，測量數據較為準確。
[0004]為實現上述目的，本實用新型采用以下技術方案:
[0005]—種薄膜干涉測量裝置，包括光源、支撐座、載物臺、望遠鏡筒，CXD成像儀，
[0006]該光源與載物臺上的被測樣本相對應，
[0007]該載物臺固定于該支撐座上，該載物臺可沿該支撐座上、下移動，該支撐座上連接有可繞支撐座旋轉的懸臂，該懸臂的端部固定有可上、下移動的調整柱體，該調整柱體上固定有該望遠鏡筒，
[0008]該望遠鏡筒的物鏡與該載物臺上的被測樣本相對應，該望遠鏡筒的目鏡與該CCD成像儀的鏡頭相對應。
[0009]所述調整柱體上與所述望遠鏡筒相對應的位置標刻有刻度盤。
[0010]裝置還包括微距測量單元，其設置于所述調整柱體的上端，包括:位移傳感器、微控芯片及顯示屏，該位移傳感器的數據輸出端與該微控芯片的數據輸入端相連接，該微控芯片的數據輸出端與該顯示屏的數據輸入端相連接。
[0011]本實用新型的優點在于:
[0012]本實用新型結構簡單、實驗效果良好，可對豎直放置形成的薄膜干涉圖樣進行厚度測量，為薄膜干涉條紋厚度隨高度的變化研究提供數據支持。
【附圖說明】
[0013]圖1是本實用新型的組成結構示意圖。
【具體實施方式】
[0014]以下結合附圖和實施例對本實用新型作進一步詳細的說明。
[0015]圖1是本實用新型的組成結構示意圖。如圖所示，本實用新型公開的薄膜干涉測量裝置，包括光源1、支撐座2、載物臺3、望遠鏡筒6，CXD成像儀8，
[0016]光源I與載物臺3上的被測樣本相對應，載物臺3固定于支撐座2的中心軸上，該載物臺3可沿支撐座2上、下移動，支撐座2的外柱上連接有可繞支撐座旋轉的懸臂4，懸臂4的端部固定有可上、下移動的調整柱體5，調整柱體5上固定有望遠鏡筒6，調整柱體5上與望遠鏡筒6相對應的位置標刻有刻度盤7，望遠鏡筒6的物鏡與載物臺3上的被測樣本相對應，望遠鏡筒6的目鏡與CCD成像儀8的鏡頭相對應。
[0017]使用本實用新型的薄膜干涉測量裝置，進行薄膜干涉實驗的方法是:
[0018]I)、配制溶液
[0019]于一具體實施例中，可分別量取蜂蜜20ml、水5ml、洗滌靈10ml，然后依次倒入調試盤中，用玻璃棒將混合溶液攪拌均勻。
[0020]2)、制備薄膜
[0021]用圓形器件(半徑越小，效果越好)蘸取上述混合溶液，豎直放置，片刻后圓形器件表面形成薄膜，將其放置在周圍空氣流動小，條件適宜的實驗桌上，觀察干涉條紋的形成過程，并等待干涉條紋穩定。
[0022]3)、調整薄膜干涉測量裝置
[0023]打開光源(如，鈉、汞光燈)，將表面形成薄膜干涉條紋的圓形器件豎直放置于載物臺3上；調節載物臺3、望遠鏡筒6的相對位置和高度位置，使得望遠鏡筒6的物鏡與載物臺3上的圓形器件表面相對應，調節望遠鏡筒6的焦距，使得望遠鏡中能夠清晰的顯示干涉條紋，調節CCD成像儀8的位置，使得CCD成像儀8的鏡頭與望遠鏡筒6的目鏡相對應，從CCD成像儀8的屏幕上可清晰的顯示出明暗相間的干涉條紋。
[0024]本實用新型的薄膜干涉測量裝置還包括微距測量單元9，可對干涉條紋的厚度進行測量，該微距測量單元9設置于調整柱體5的上端，其包括:位移傳感器、微控芯片及顯示屏，位移傳感器的數據輸出端與微控芯片的數據輸入端相連接，微控芯片的數據輸出端與顯示屏的數據輸入端相連接，調節調整柱體5的高度，使得望遠鏡筒的叉絲對準干涉條紋的不同位置，通過微距測量單元計算、讀取明暗條紋的厚度值。
[0025]以上所述是本實用新型的較佳實施例及其所運用的技術原理，對于本領域的技術人員來說，在不背離本實用新型的精神和范圍的情況下，任何基于本實用新型技術方案基礎上的等效變換、簡單替換等顯而易見的改變，均屬于本實用新型保護范圍之內。
【主權項】
1.薄膜干涉測量裝置，其特征在于，包括光源、支撐座、載物臺、望遠鏡筒，CCD成像儀， 該光源與載物臺上的被測樣本相對應， 該載物臺固定于該支撐座上，該載物臺可沿該支撐座上、下移動，該支撐座上連接有可繞支撐座旋轉的懸臂，該懸臂的端部固定有可上、下移動的調整柱體，該調整柱體上固定有該望遠鏡筒， 該望遠鏡筒的物鏡與該載物臺上的被測樣本相對應，該望遠鏡筒的目鏡與該CCD成像儀的鏡頭相對應。2.如權利要求1所述的薄膜干涉測量裝置，其特征在于，所述調整柱體上與所述望遠鏡筒相對應的位置標刻有刻度盤。3.如權利要求2所述的薄膜干涉測量裝置，其特征在于，還包括微距測量單元，其設置于所述調整柱體的上端，包括:位移傳感器、微控芯片及顯示屏，該位移傳感器的數據輸出端與該微控芯片的數據輸入端相連接，該微控芯片的數據輸出端與該顯示屏的數據輸入端相連接。
【專利摘要】本實用新型提供一種薄膜干涉測量裝置，包括光源、支撐座、載物臺、望遠鏡筒，CCD成像儀，該光源與載物臺上的被測樣本相對應，該載物臺固定于該支撐座上，該載物臺可沿該支撐座上、下移動，該支撐座上連接有可繞支撐座旋轉的懸臂，該懸臂的端部固定有可上、下移動的調整柱體，該調整柱體上固定有該望遠鏡筒，調整柱體上與望遠鏡筒相對應的位置標刻有刻度盤，該望遠鏡筒的物鏡與該載物臺上的被測樣本相對應，該望遠鏡筒的目鏡與該CCD成像儀的鏡頭相對應。本實用新型結構簡單，實驗效果良好。
【IPC分類】G01J9/02, G09B23/22
【公開號】CN204791727
【申請號】CN201520527929
【發明人】高興茹, 宗廣志, 姜玉杰, 張繼琛, 馬忱
【申請人】北京聯合大學
【公開日】2015年11月18日
【申請日】2015年7月20日