一種真空蒸發鍍膜設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及電子器件制造技術領域，尤其是指一種真空蒸發鍍膜設備。
【背景技術】
[0002]真空蒸發鍍膜設備廣泛地應用于集成電路、LED(發光二極管)等半導體晶圓芯片制造行業，常見為電子束加熱模式。
[0003]圖1為常見的一種單火山口電子束蒸發鍍膜設備示意圖。固態的蒸發源01由電子束加熱至熔融狀態、液態，達到材質沸點后蒸發，氣體分子向腔體頂部揮發，遇到溫度較低的基板03后迅速冷凝成膜。為確保基板上膜層的均勻性，基板03的載體多設計成傘具形狀，并以固定的速度旋轉，蒸發源I則位于傘具所處球面的球心位置附近。不同的蒸發源材料分別放置在不同的坩禍內，坩禍可進行旋轉切換。為進一步確保基板上不同位置膜層的均一性，則通常在蒸發源和基板之間設置厚度較薄并具有特定形狀的修正擋板02，人為選擇性地遮擋部分空間位置源材質的蒸發行程，減少膜層偏厚位置的沉積量。
[0004]在多層膜的鍍膜制程中，不同膜層對應的厚度不盡相同。例如以金屬電極的制備為例，金屬電極薄膜中起導電主體作用的膜層厚度最大(?幾個微米)，而起黏附、阻擋、歐姆接觸等作用的膜層則較薄(?幾十納米)，兩者厚度相差可達數十倍甚至百倍，如此大的耗量差異會造成蒸發過程中液面高度下降的差異，造成它們所受蒸發角度的影響程度不同，因此在共用同一塊修正擋板的條件下很難在高基準條件下兼顧所有膜層的均一性。
[0005]因此現有技術對于真空蒸發鍍膜設備的腔體內多個不同類型的蒸發源而言，僅利用同一塊修正擋板來兼顧所有膜層的均一性，很難確保所有膜層同時滿足極高均一性基準。
【實用新型內容】
[0006]本實用新型技術方案的目的是提供一種真空蒸發鍍膜設備，解決現有技術多個蒸發源采用一塊修改擋板時不能保證所有膜層均滿足較高均一性的問題。
[0007]本實用新型提供一種真空蒸發鍍膜設備，包括蒸發源和用于安裝待鍍膜基板的載體，其中，所述真空蒸發鍍膜設備還包括:
[0008]相互連接的多個擋板，設置于所述蒸發源和所述載體之間；多個所述擋板相組合構成至少兩組修正擋板；
[0009]用于驅動其中一組所述修正擋板位于所述蒸發源的材料蒸發行程內的驅動機構，所述驅動機構與每組所述修正擋板相連接。
[0010]優選地，上述所述的真空蒸發鍍膜設備，其中，所述驅動機構包括:
[0011]驅動馬達；
[0012]與所述驅動馬達的輸出軸相連接的支撐桿，其中每個所述擋板分別與所述支撐桿固定連接。
[0013]優選地，上述所述的真空蒸發鍍膜設備，其中，多個所述擋板在中部位置相互固定連接，一個所述擋板構成一組所述修正擋板。
[0014]優選地，上述所述的真空蒸發鍍膜設備，其中，相鄰組所述修正擋板之間交叉設置。
[0015]優選地，上述所述的真空蒸發鍍膜設備，其中，所述修正擋板為兩組，且第一組修正擋板與第二組修正擋板相互垂直。
[0016]優選地，上述所述的真空蒸發鍍膜設備，其中，多個所述擋板分別朝不同方向延伸，且其中一端分別連接在一起，相鄰所述擋板之間的角度為小于等于180度，其中的一個所述擋板與另一個所述擋板相組合構成為一組所述修正擋板。
[0017]優選地，上述所述的真空蒸發鍍膜設備，其中，所述擋板的數量為六個，且相鄰所述擋板之間的角度均為60度。
[0018]優選地，上述所述的真空蒸發鍍膜設備，其中，所述擋板中的第一擋板為豎直向下延伸時，位于所述第一擋板兩側的第二擋板和第三擋板構成為一組所述修正擋板。
[0019]優選地，上述所述的真空蒸發鍍膜設備，其中，所述修正擋板中的第一組修正擋板位于所述蒸發源的材料蒸發行程內時，其他組修正擋板垂直于所述蒸發源的蒸發液面或者相對于所述第一組修正擋板位于面對所述蒸發源一側的另一側。
[0020]優選地，上述所述的真空蒸發鍍膜設備，其中，所述蒸發源為至少兩個，其中所述驅動機構驅動不同組所述修正擋板與不同的所述蒸發源相對應。
[0021]本實用新型具體實施例上述技術方案中的至少一個具有以下有益效果:
[0022]本實用新型實施例所述真空蒸發鍍膜設備，相較于現有技術，通過增加修正擋板的數量，使不同蒸鍍膜層過程時，不同組修正擋板位于蒸發源的材料蒸發行程內，從而保證不同膜層的均一性。
【附圖說明】
[0023]圖1表示現有技術蒸發鍍膜設備的原理結構示意圖；
[0024]圖2表示本實用新型第一實施例所述真空蒸發鍍膜設備所設置修正擋板的正面結構示意圖；
[0025]圖3表示本實用新型第一實施例所述真空蒸發鍍膜設備所設置修正擋板的側面結構示意圖；
[0026]圖4表示本實用新型第二實施例所述真空蒸發鍍膜設備所設置修正擋板的側面結構示意圖；
[0027]圖5a與圖5b表示蒸發源處于不同液面高度時的蒸發行程范圍的對比示意圖。
【具體實施方式】
[0028]為使本實用新型的實施例要解決的技術問題、技術方案和優點更加清楚，下面將結合附圖及具體實施例進行詳細描述。
[0029]本實用新型實施例所述真空蒸發鍍膜設備，包括蒸發源和用于安裝待鍍膜基板的載體，其中所述真空蒸發鍍膜設備還包括:
[0030]相互連接的多個擋板，構成至少兩組修正擋板，設置于所述蒸發源和所述載體之間；
[0031]用于驅動其中一組所述修正擋板位于所述蒸發源的材料蒸發行程內的驅動機構，所述驅動機構與每組所述修正擋板相連接。
[0032]本實用新型所述真空蒸發鍍膜設備，相較于現有技術，通過增加修正擋板的數量，使不同蒸鍍膜層過程時，不同組修正擋板位于蒸發源的材料蒸發行程內，從而保證不同膜層的均一*性。
[0033]本實用新型實施例所述真空蒸發鍍膜設備，當所述修正擋板中的第一組修正擋板位于所述蒸發源的材料蒸發行程內時，其他組修正擋板垂直于所述蒸發源的蒸發液面或者相對于所述第一組修正擋板位于面對所述蒸發源一側的另一側。采用該種設置方式，保證當第一組修正擋板用于當前的蒸鍍膜層制程時，其他組修正擋板不會對當前的蒸鍍膜層制程產生影響。
[0034]圖2表示本實用新型第一實施例所述真空蒸發鍍膜設備所設置修正擋板的正面結構示意圖，圖3表示本實用新型第一實施例所述真空蒸發鍍膜設備所設置修正擋板的側面結構示意圖。參閱圖2和圖3，第一實施例中，真空蒸發鍍膜設備包括蒸發源10、用于安裝待鍍膜基板的載體(圖中未顯示)和交叉設置的兩個擋板，其中擋板設置于蒸發源10的上方，且位于蒸發源和安裝待鍍膜基板的載體之間。
[0035]其中，第一實施例中，如圖2和圖3所示，兩個擋板在中部位置相互固定連接，一個擋板構成一組修正擋板。具體地，修正擋板包括第一組修正擋板21和第二組修正擋板22，其中第一組修正擋板21與第二組修正擋板22相互垂直，在中間位置交叉連接設置。
[0036]另外，本實用新型實施例所述真空蒸發鍍膜設備還包括與第一組修正擋板21和第二組修正擋板22均連接的驅動機構，具體地，驅動機構包括:
[0037]驅動馬達(圖中未顯示)；
[0038]與驅動馬達的輸出軸相連接的支撐桿30，第一組修正擋板21和第二組修正擋板22分別與支撐桿30固定連接。
[0039]具體地，第一實施例中，支撐桿30分別與第一組修正擋板21與第二組修正擋板22的中部固定連接，使相互垂直的第一組修正擋板21與第二組修正擋板22在中間位置交叉連接。支撐桿30的兩端可以分別設置齒輪，與驅動馬達通過齒輪嚙合連接。該種設置結構簡單牢固，且通過多套齒輪的組合來旋轉修正擋板能夠實現精準的控制。
[0040]另外，為了實現第一組修正擋板21和第二組修正擋板22以上的連接方式，其中一種實施例結構，可以通過在其中一組修正擋板的中部位置設置開孔，另一組修正擋板垂直地插設于開孔中，之后支撐桿30分別固定兩組修正擋板的方式，實現第一組修正擋板21與第二組修正擋板22構成為在中間位置交叉連接的結構；另一種實施結構，第一組修正擋板21和第二組修正擋板分別包括兩部分，也即第一擋板和第二擋板，其中第一擋板和第二擋板相對的端面分別設置有穿設孔，用于與支撐桿30固定連接，且第一擋板和第二擋板位于同一平面，也即兩者所呈角度為180度，構成為第一組修正擋板21或第二組修正擋板22，且實現第一組修正擋板21與第二組修正擋板22構成為在中間位置交叉連接的結構。
[0041]另一方面，本實用新型實施例中，第一組修正擋板21和第二組修正擋板22采用具有耐高溫材料制成，且厚度在保證機械強度的前提下需要盡可能薄。具體修正擋板的制成材料和結構與現有技術修正擋板的制成材料和結構相同，且該部分并非為本實用新型的研究重點，在此不詳細說明。
[0042]第一實施例所述真空鍍膜設備，在使用過程中，第一組修正擋板21與第二組修正擋板22相互垂直，當第一組修正擋板21用于當前的蒸鍍膜層制程起遮擋作用時，與蒸發源10的蒸發液面相平行，第二組修正擋板22則與蒸發液面相垂直，此時第二組修正擋板22對蒸發源10的材料蒸發行程的遮擋有效面積較小且與第一組修正擋板21的遮擋面積相重合，屏蔽功能微弱。
[0043]根據圖5a和圖5b