一種高熔點合金霧化導液管用加熱裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于合金霧化裝置技術領域，特別涉及一種高熔點合金霧化導液管用加熱裝置。
【背景技術】
[0002]現有技術中霧化高熔點合金時一般不會對導液管單獨加熱，因為在有限的空間內普通加熱裝置效果不明顯。合金熔體流經導液管時溫度下降較多，很容易導致堵塞流嘴從而中斷霧化。
【實用新型內容】
[0003]本實用新型提供了一種高熔點合金霧化導液管用加熱裝置，具體技術方案如下:
[0004]—種高熔點合金霧化導液管用加熱裝置，所述加熱裝置包括上水冷導電塊1、螺旋加熱體2、螺栓3、絕緣固定塊4、上水冷進電裝置5、下水冷導電塊6和下水冷進電裝置7 ;
[0005]所述上水冷導電塊1、下水冷導電塊6作為兩個電極，分別被螺栓3固定在絕緣固定塊4上，螺旋加熱體2依靠自身彈性被壓縮在上水冷導電塊1和下水冷導電塊6之間；
[0006]所述上水冷導電塊1通過上水冷進電裝置5與冷卻水、電源連接；下水冷導電塊6通過下水冷進電裝置7與冷卻水、電源連接。
[0007]進一步地，導液管8中段伸入到所述加熱裝置的螺旋加熱體2中；通電通水后，螺旋加熱體2對流經導液管8的合金熔體進行加熱。
[0008]本實用新型加熱裝置中的水冷導電塊可以由銅板或其它導電性能好的材料加工而成，連接水冷進電裝置的回路中可以根據使用需要加裝水量控制閥和電流電壓調節旋鈕。螺旋加熱體2可以由石墨或其它耐高溫導體材料加工而成，而且可以根據需要來加工不同螺距和直徑的螺旋加熱體2，從而實現不同的加熱速率。
[0009]本實用新型的有益效果為:提供了一種與高熔點合金霧化導液管匹配使用的加熱裝置，使用這種加熱裝置后，可以在有限的空間內對流經導液管內的熔體進行快速加熱，熔體不容易堵塞流嘴。
【附圖說明】
[0010]圖1 (a)為本實用新型加熱裝置的主視圖，圖1 (b)為本實用新型加熱裝置的俯視圖。
[0011]圖2為本實用新型加熱裝置與導液管匹配示意圖。
【具體實施方式】
[0012]本實用新型提供了一種與高熔點合金霧化導液管匹配使用的加熱裝置，下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型做一步說明。
[0013]本實用新型的結構主視圖和俯視圖分別如圖1 (a)和圖1 (b)所示。圖中各標號的具體含義如下:1-上水冷導電塊；2_螺旋加熱體；3_螺栓；4_絕緣固定塊；5_上水冷進電裝置；6_下水冷導電塊；7_下水冷進電裝置。所述加熱裝置包括上水冷導電塊1、螺旋加熱體2、螺栓3、絕緣固定塊4、上水冷進電裝置5、下水冷導電塊6和下水冷進電裝置7。
[0014]該加熱裝置的上水冷導電塊1和下水冷導電塊6通過螺栓3固定在絕緣固定塊4上，螺旋加熱體2通過其自身彈性被壓縮在上水冷導電塊1和下水冷導電塊6之間，上水冷導電塊1和下水冷導電塊6作為螺旋加熱體2的兩個電極。上水冷導電塊1通過上水冷進電裝置5與冷卻水、電源連接；下水冷導電塊6通過下水冷進電裝置7與冷卻水、電源連接。
[0015]本實用新型與導液管匹配使用示意圖如圖2所示。導液管8的中段伸入到螺旋加熱體中，本裝置通水通電后可以對流經導液管中的合金熔體進行快速加熱。
【主權項】
1.一種高熔點合金霧化導液管用加熱裝置，其特征在于，所述加熱裝置包括上水冷導電塊(1)、螺旋加熱體(2)、螺栓(3)、絕緣固定塊(4)、上水冷進電裝置(5)、下水冷導電塊(6)和下水冷進電裝置(7); 所述上水冷導電塊(1)、下水冷導電塊(6)作為兩個電極，分別被螺栓(3)固定在絕緣固定塊(4)上，螺旋加熱體(2)依靠自身彈性被壓縮在上水冷導電塊(1)和下水冷導電塊(6)之間； 所述上水冷導電塊⑴通過上水冷進電裝置(5)與冷卻水、電源連接；下水冷導電塊(6)通過下水冷進電裝置(7)與冷卻水、電源連接。2.根據權利要求1所述的加熱裝置，其特征在于，導液管(8)中段伸入到所述加熱裝置的螺旋加熱體(2)中；通電通水后，螺旋加熱體(2)對流經導液管(8)的合金熔體進行加熱。
【專利摘要】本實用新型涉及一種高熔點合金霧化導液管用加熱裝置。所述加熱裝置包括上水冷導電塊、螺旋加熱體、螺栓、絕緣固定塊、上水冷進電裝置、下水冷導電塊和下水冷進電裝置。所述上水冷導電塊、下水冷導電塊分別被螺栓固定在絕緣固定塊上，螺旋加熱體被壓縮在上水冷導電塊和下水冷導電塊之間；所述水冷導電塊通過對應的水冷進電裝置分別與冷卻水、電源連接。當霧化高熔點合金時，將導液管中段伸入到所述加熱裝置的螺旋加熱體中；通電通水后，螺旋加熱體對流經導液管的合金熔體進行加熱，從而避免因熔體溫度下降導致的堵塞流嘴現象。
【IPC分類】H05B7/12, H05B7/06
【公開號】CN204993934
【申請號】CN201520709472
【發明人】劉紅偉, 黃樹暉, 李錫武, 閆宏偉, 李志輝, 張永安, 熊柏青, 胡春利
【申請人】北京有色金屬研究總院
【公開日】2016年1月20日
【申請日】2015年9月14日