顯示裝置和顯示裝置的制造方法
【專利摘要】本發明涉及顯示裝置和顯示裝置的制造方法。本發明提供簡化制造工序且可靠性高的顯示裝置。顯示裝置具備：像素電極，其針對多個像素中的每一個設有；公共像素電極，其被多個像素中的每一個共用，并設于像素電極之上；有機層，其設于各像素電極與公共像素電極之間；第一絕緣層，其設于公共像素電極之上；公共電位線，其在第一絕緣層、公共像素電極和有機層層疊起來區域，設于比有機層靠下層的位置；接觸電極，其設于在公共電位線之上，貫穿第一絕緣層、公共像素電極和有機層的開孔部；第二絕緣層，其覆蓋第一絕緣層和接觸電極。
【專利說明】
顯示裝置和顯示裝置的制造方法
技術領域
[0001]本發明涉及一種發光元件的有機層的圖案形成方法和使用該方法制作出來的顯示裝置。
【背景技術】
[0002]有機電致發光(以下稱為有機EL)顯示裝置在各像素設有發光元件，通過對發光元件分別控制發光來顯示圖像。發光元件所具有的構造是，在一側為正電極、另一側為負電極區分開的一對電極間隔著含有有機EL材料的層(以下也稱為“有機層”)。有機EL顯示裝置中，針對每個像素將一側電極設為像素電極，將另一側電極設為跨多個像素施加公共電位的公共像素電極。有機EL顯示裝置通過針對每個像素施加像素電極的電位，控制在流向發光層的電流量，來控制像素的發光。
[0003]有機EL顯示裝置的制造工藝中，通常，使用金屬掩模來成膜有機層。即，通過金屬掩模來使有機膜進行圖案形成。例如專利文獻I中公開的方法是，在通過真空蒸鍍法形成有機膜時，使用針對每個像素具有開口部的金屬掩模來進行成膜。
[0004]但是，由于使用金屬掩模，需要使用專用設備、定期做維護。
[0005]此外，在圖案形成工序中有時基板和金屬掩模接觸，有時因為該接觸產生微粒。所存在問題點是，這樣的微粒與進入顯示裝置的內部的水分一起使發光元件的性能下降，進而降低顯示裝置的壽命。
[0006]因此，通過確立了不使用掩模來使有機層進行圖案形成的制造工藝(所謂無掩膜工藝)，可期待降低制造成本。
[0007]作為無掩膜工藝之一，正研究通過激光磨削術(laser abras1n)來對作為發光層的有機膜進行圖案形成的方法。在該方法中，通過利用激光光束來除去不要的有機膜來進行圖案形成。但是，圖案形成后來成膜正極膜和封固膜，因而在由于激光磨削術而飛散出來的有機膜在后續工序中會成為微粒而成為導致黑點(dark spot)的主要原因。
[0008]此外，在使用有機EL層作為發光層的有機EL顯示裝置的情況下，有機EL層對水分的抗性極弱，當有水分從外部進入顯示裝置、到達有機EL層時，會產生黑點。在有機EL顯示裝置中，有機平坦化膜、堤岸(bank)使用丙烯酸樹脂、聚酰亞胺樹脂等有機物。該有機物成為輸送水分的路徑，會出現從外部侵入的水分到達直至有機EL元件而導致劣化。
[0009]專利文獻I:日本特開

【發明內容】

[0010]本發明鑒于上述課題而提供一種制造工序簡化、可靠性高的顯示裝置。
[0011]本發明的顯示裝置的一個技術方案是，具備:針對多個像素中的每一個設置的像素電極;針對多個像素中每一個共用設置的公共像素電極;設于像素電極和公共像素電極之間的有機層;設于公共像素電極之上的第一絕緣層;在第一絕緣層、公共像素電極和有機層層疊起來的區域，比有機層靠下層地設置的公共電位線;在公共電位線之上，設于貫穿第一絕緣層、公共像素電極和有機層的開孔部的接觸電極;覆蓋第一絕緣層和接觸電極的第二絕緣層。
[0012]本發明的顯示裝置的另一技術方案是，具備:針對多個像素中每一個設置的像素電極;設于所述像素電極之上的有機層;針對多個像素中每一個共用而設于所述有機層之上的公共像素電極;設于公共像素電極之上的第一絕緣層;在第一絕緣層、公共像素電極和有機層層疊起來的區域中，比有機層靠下層地設置的無機絕緣層;在無機絕緣層之上，并在包圍多個像素的環狀的區域中，貫穿第一絕緣層、公共像素電極和有機層的開孔部;設于該開口部的接觸電極；以及覆蓋第一絕緣層和接觸電極的第二絕緣層。
[0013]本發明的顯示裝置的制造方法的一個技術方案中，包含:在基板的第一面之上形成多個像素電極;在基板的第一面之上形成公共電位線;在基板的整個面上成膜有機層;在有機層之上形成公共像素電極;在公共像素電極之上成膜第一絕緣層;在公共電位線之上，從基板的第一面側照射激光形成開孔部;在開孔部形成接觸電極；以覆蓋第一絕緣層和所述接觸電極的方式成膜第二絕緣層。
[0014]本發明的顯示裝置的制造方法的另一技術方案中，包含在基板的第一面之上成膜絕緣層;比絕緣層靠上方地形成多個獨立的像素電極;在基板的整個面成膜有機層，有機層之上形成公共像素電極，公共像素電極之上成膜第一絕緣層;在絕緣層之上，在圍繞多個像素電極的環狀區域形成開孔部;在開孔部形成接觸電極；以覆蓋第一絕緣層和所述接觸電極的方式成膜第二絕緣層。
【附圖說明】
[0015]圖1是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的概略結構的平面圖。
[0016]圖2是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的概略結構的剖視圖。
[0017]圖3A是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0018]圖3B是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0019]圖3C是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0020]圖3D是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0021]圖3E是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0022]圖3F是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0023]圖3G是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0024]圖3H是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0025]圖4是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的概略結構的平面圖。
[0026]圖5是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的概略結構的剖視圖。
[0027]圖6A是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0028]圖6B是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0029]圖6C是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0030]圖6D是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0031]圖6E是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0032]圖6F是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0033]圖6G是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0034]圖6H是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的制造方法的剖視圖。
[0035]圖7是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的概略結構的平面圖。
[0036]圖8是表示本發明一實施方式的顯示裝置10的概略結構的平面圖。
[0037]附圖標記說明
[0038]顯示裝置:10，基板:11，顯示區域:12，周邊部:14，水分阻隔區域:16，無機絕緣層:17，晶體管:18，有機平坦化膜:20，像素電極:22，公共電位線:24，像素:25，堤岸:26，有機層:28，反射膜:30，公共像素電極:32，封裝膜:34，接觸電極:36，鈍化層:37，填充材料:38，彩色濾光片:40，黑矩陣:42，密封材料:44，對置基板:46。
【具體實施方式】
[0039]以下，參照附圖等說明本發明的實施方式。但是，本發明能以多個不同的方式實施，本發明并不限定解釋為以下示例的實施方式的記載內容。此外，為了更明確地做說明，與實際方式相比，附圖中有時對各部分的寬度、厚度、形狀等做示意性表示，但是這些只是例子，并不能限定本本發明的解釋。此外，本說明書和各圖中，對于既已使用的圖中與之前說明的物件相同的要素，標注相同的附圖標記，適宜省略詳細說明。
[0040]在本說明書中，將某部件或區域定義在其它部件或區域“之上(或之下)”的情況下，只要沒有特別的限定，這并不是指其它部件或區域正上方(或正下方)，包含位于其它部件或區域的上方(或下方)的情況，即，也包含在其它部件或區域的上方(或下方)并在該部件與其它部件之間還有其他結構要素的情況。
[0041 ]〈第一實施方式〉
[0042]參照圖1和圖2，說明本發明第一實施方式的顯示裝置10的概略結構。圖1是表示本發明第一實施方式的顯示裝置10的概略結構的平面圖。圖2是表示本發明的第一實施方式的顯示裝置10的概略結構的剖視圖。本實施方式的顯示裝置10在基板11之上設有形成顯示屏幕的顯示區域12。此外，在基板11之上的顯示區域12以外的周邊部14，設有將下文描述的公共像素電極32和公共電位線24連接起來的接觸電極36。此外，還可以在周邊部14，作為其它要素而附加向顯示區域12輸入信號的垂直掃描電路、水平電路、驅動IC等。
[0043]在顯示區域12上以矩陣狀排列有多個像素。多個像素分別包含用于產生紅光的子像素、用于產生綠光的子像素、用于產生藍光的子像素以及用于產生白光的子像素。在圖1中代表性地示例了 2行2列的像素排列。在圖1中示例的布局是，各子像素的發光區域是L形的形狀，將分別發出不同顏色的光的4個像素作為I個單位，但是并不限于該形狀，也可是其它形狀。
[0044]圖2是沿著圖1所示的顯示裝置10的A-B線的剖視構造。如圖2所示，顯示裝置10的多個像素中各自具有晶體管18和發光元件。當發光元件是例如有機EL元件的情況下，發光元件具有例如利用形成于各像素中的每一個中的像素電極22和與之對置配置的對置電極32夾著由有機材料構成的有機層28的構造。像素電極22在每個像素獨立，分別與晶體管18連接。對置電極相對于多個像素共用地形成(以下，稱為公共像素電極)。有機層28含有發光層，通過在公共像素電極32和像素電極22之間流過電流來發光。
[0045]相鄰的2個像素之間設有堤岸26。堤岸26以端部覆蓋像素電極22的周緣部的方式設置。另外，堤岸26優選以絕緣材料形成。例如，在形成堤岸26時，優選使用聚酰亞胺、丙烯酸等有機材料、或是氧化硅等無機材料。通過配置用絕緣材料形成的堤岸26，可以防止像素電極22的端部處的公共像素電極32和像素電極22間的短路，而且，可以切實地進行相鄰的像素間的絕緣。
[0046]本實施方式所示的顯示裝置10具有使發光元件發出的光向公共像素電極32側出射的所謂頂部發光型的構造。本實施方式雖然示例了頂部發光型，但是并不限于此，本實施方式也能應用到向像素電極22側出射的所謂底部發光型。像素電極22將由有機層28發出的光向公共像素電極32側反射，因此，優選是由反射率高的金屬膜形成。或者，像素電極22也可以采用金屬膜和透明導電膜的層疊構造，含有光反射面。另一方面，公共像素電極32使有機層28發出的光透過，因此，優選由具有透光性并具有導電性的ΙΤ0(添加有氧化錫的氧化銦)、ΙΖ0(氧化銦.氧化鋅)等透明導電膜形成。或者是，作為公共像素電極32，可以以出射光能夠透過程度的膜厚形成金屬層。另外，優選公共像素電極32的上部預設有封固膜34。封固膜34只要是能阻隔水分侵入的絕緣膜即可，例如可以使用氮化硅膜等。
[0047]由例如有機EL層形成的有機層28，使用低分子系或高分子系有機材料形成。當使用低分子系有機材料的情況下，有機層28的結構是，在含有發光性有機材料的發光層的基礎上，以夾著該發光層的方式含有空穴注入層、電子注入層以及空穴傳輸層、電子傳輸層等。有機層28可以是發光紅色(R)、綠色(G)、藍色(B)各色光，也可以是所謂的呈現白色發光。
[0048]在本實施方式的顯示裝置10中，在基板11的周邊部14設有接觸電極36。上述本實施方式顯示裝置的層構造中，公共像素電極32隔著有機層28配置于公共電位線24的上層。接觸電極36設于貫穿封固膜34、公共像素電極32、有機EL層28的開孔部，使公共像素電極32和公共電位線24的一端導通。公共電位線的另一端連接于包含晶體管18等的電路層。利用這樣的接觸電極36的構造，可以在公共像素電極32上介由公共電位線24供給共用的電位。
[0049]接觸電極36可以以填充開孔部的方式設置，也可以以附著于開孔部的側壁和底面的方式設置。
[0050]此外，接觸電極36可以配置于多個位置，也可以以具有一定長度的線狀形狀配置。
[0051]通過采用這種構造，接觸電極可以使公共像素電極32和公共電位導通，形成低電阻的接合部。雖然會產生若配線自身的電阻、配線間的接觸電阻增大，則不能流有充分的電流，根據顯示區域的位置不同，發光元件的發光量不同的問題(所謂著色)，但采用本發明的接觸電極構造可以抑制這種問題。
[0052]接觸電極36和封固膜34可以由下文說明的鈍化層37覆蓋。鈍化層37可以使用無機絕緣層、有機絕緣層。例如，在使用無機材料作為絕緣層的情況下，可以使用Si0x、SiNx、S1xNy、SiNx0y、A10x、AlNx、A10xNy、AlNx0y、TE0S膜等(x、y是任意值)。此外，也可以使用層疊這些材料所得到的構造。此外，在使用有機材料作為絕緣性材料的情況下，可以使用聚酰亞胺樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、有機硅樹脂，氟樹脂、硅氧烷樹脂等。此外，也可使用層疊這些材料而得到的構造。此外，也可以使用層疊上述無機絕緣層和有機絕緣層而得到的構造。
[0053]在基板11上利用密封材料44以與基板11之間保持間隔的方式覆蓋透明的對置基板46。利用該對置基板46、密封材料44和封固膜34圍成的空間中填充由透明的環氧樹脂形成的填充材料38。
[0054]〈變形例1>
[0055]接觸電極36可以配置于顯示區域12內。作為本實施方式的變形例，可以如圖7所示，將接觸電極36配置于在顯示區域12內配置的多個像素之間。此外，可以組合本實施方式和本變形例，在基板11的周邊部14和配置于顯示區域12內的多個像素之間配置多個接觸電極。由此，能使多個像素的公共電極中各公共電極和公共電位線之間的距離縮短，抑制像素和公共電位線之間的電壓下降。由此，上述著色問題得到抑制。特別是，顯示區域越是變得大面積化則效果越顯著。
[0056]〈變形例2>
[0057]作為本實施方式的其它的變形例，如圖8所示，可以將接觸電極36配置于在顯示區域配置的多個像素的內部。在該情況下，可以針對所有的像素，在其內部配置接觸電極36，也可以只在一部分像素配置接觸電極36。在像素內形成接觸電極36的情況下，避開像素電極22和晶體管18間的連接部形成接觸電極36。此外，在本實施方式中，可以任意組合變形例I和本變形例。由此，能使多個像素的公共電極中各公共電極和公共電位線間的距離更短，更能抑制像素和公共電位線之間的電壓下降。由此，更能抑制上述著色問題。
[0058]〈制造方法〉
[0059]圖3A到圖3H是對本實施方式的顯示裝置10的制造方法做說明的剖視圖。表示的是圖2所示的區間C-D和區間E-F。參照圖3A到圖3H，對本實施方式的顯示裝置10的制造方法做說明。另外，在本實施方式中，省略從形成包含晶體管18的周邊電路后到有機平坦化膜20形成之前的說明。
[0060]圖3A表示在有機平坦化膜20之上形成像素電極22和公共電位線24之后。像素電極22和公共電位線24利用光刻工序形成，兩者可使用不同的金屬材料，形成的順序不受限定。此外，可以使用相同的金屬層同時做圖案形成處理來形成。
[0061]特別是在顯示區域12中，以覆蓋像素電極22的周緣部的方式形成堤岸26(圖3B)。堤岸26由絕緣材料形成。作為絕緣材料可以使用有機材料或無機材料。作為有機材料優選使用聚酰亞胺、丙烯酸等形成，作為無機材料優選使用氧化硅等形成。
[0062]有機層28成膜于基板11的整個面(圖3C)。另外，在本實施方式中，示出了只是形成了發光層的例子，但是在有機EL元件的情況下，可以利用使用了相同的蒸鍍用掩模的蒸鍍法來形成電子注入層、電子傳輸層、空穴注入層、空穴傳輸層這些功能層。
[0063]構成公共像素電極的透明電極層成膜于基板11的整個面(圖3D)。公共像素電極32優選用具有透光性的ΙΤ0、ΙΖ0等透明導電膜形成。或者是，以能透過出射光的程度的膜厚形成金屬層。
[0064]封固膜34成膜于基板11整個面(圖3Ε)。封固膜34只要是能阻隔水分侵入的絕緣膜即可，可以使用例如氮化硅膜等。
[0065]在做了上述有機層28、公共像素電極32、封固膜34的成膜后，形成貫穿這些膜而使下層的公共電位線24暴露的開孔部(圖3F)。為了形成該開孔部，可以使用激光磨削術法、光刻工序。在不使用掩模這點上，優選使用激光磨削術法。
[0066]在使用激光磨削術法除去比公共電位線24靠上層的部分的方法中，將激光照射于形成了接觸電極36的區域，使被激光照射的部分瞬間升華。例如，作為所使用的激光，可以列舉出KrF準分子激光(波長:248nm)、ArF準分子激光(波長:193nm)等。另外，本發明并不限于使用這樣的激光。
[0067]在開孔部形成接觸電極36(圖3G)。形成接觸電極36的過程可合適地使用例如激光CVD法、噴墨法。如果使用激光CVD法，則容易形成在開孔部的側壁和底面部堆積金屬材料的構造，如果使用噴墨法，則容易形成在開孔部填充金屬材料這樣的構造。
[0068]成膜鈍化層37(圖3H)。接觸電極36和封固膜34被鈍化層37覆蓋。鈍化層37可以使用無機絕緣層、有機絕緣層。例如，使用無機材料作為絕緣層的情況下，可以使用S1x、SiNx、S1xNy、SiNxOy、A10x、AlNx、AlOxNy、AlNxOy、TEOS膜等(x，y是任意值)。此外，也可以使用層疊這些材料所得到的構造。此外，在使用有機材料作為絕緣性材料的情況下，可以使用聚酰亞胺樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、有機硅樹脂、氟樹脂、硅氧烷樹脂等。此外，也可以使用層疊這些材料所得到的構造。此外，也可以使用層疊上述無機絕緣層和有機絕緣層而得到的構造。
[0069]通過使鈍化層37為層疊構造，能期待進一步防止水分侵入。例如，作為三層構造，在第一層成膜第一無機絕緣膜。此時，由于顯示區域12內的發光元件、接觸電極36形成凹凸，因而用第一絕緣膜不能充分覆蓋，有出現產生水分輸送路徑的情況。因此，作為第二層，成膜用于確保高平坦性的第二絕緣層。作為第二絕緣層，可以使用丙烯酸等有機絕緣層、TEOS等無機絕緣層。在平坦化了的第二絕緣層之上，成膜第三絕緣層。由于存在用第二絕緣層得到的平坦化，第三絕緣層具有高覆蓋性，能抑制水分輸送路徑的產生。作為第三絕緣層，優選是水分阻隔性高的膜，可以使用例如氮化硅膜等。
[00"70]貼合對置基板46而完成本實施方式的顯不裝置10(未圖不)。在圖2中，對置基板46是玻璃基板。在對置基板46上，配置有與紅色像素對應的紅色用彩色濾光片、與綠色像素對應的綠色用彩色濾光片、與藍色像素對應的藍色用彩色濾光片以及設置于各彩色濾光片40之間的黑矩陣42。
[0071]然后，對上述對置基板46配置由樹脂構成的填充材料38，完成圖2所示的顯示裝置
10。另外，作為填充材料38，可以使用聚酰亞胺、丙烯酸等透明樹脂。只要是在基板11和對置基板46之間填充填充材料38，然后照射光使之固化即可。此外，可以使密封材料44具有粘合功能。
[0072]根據本實施方式的顯示裝置10的制造方法，由于不使用掩模來形成有機層28的圖案，因而可以避免由基板11和掩模的接觸所導致的微粒產生的問題。此外，在成膜有機層28后，在其上層成膜公共像素電極32和封固膜34，一起形成這些層的圖案，因而容易除去所產生的加工肩。此外，可以減少圖案形成的次數。從這些來看，可期待提高成品率、提高生產率。
[0073]〈第二實施方式〉
[0074]在顯示裝置10中，在有機平坦化膜20、堤岸26使用丙烯酸樹脂、聚酰亞胺樹脂等有機物。這些有機物變成輸送水分的路徑，因而特別是在有機EL顯示裝置中，這是導致從外部侵入的水分到達發光元件而使之劣化的原因。為了防止這些，可以設置用于使顯示區域12的有機平坦化膜20、堤岸26這些有機膜與其它區域的有機膜分離的水分阻隔區域，形成切斷水分從外部到顯示區域12的輸送路徑的結構。
[0075]第一實施方式中使用激光磨削術進行接觸電極36的圖案形成，但是使用該激光磨削術的圖案形成方法可以同時進行水分阻隔區域16的圖案形成。參照圖4和圖5，說明本發明第二實施方式的顯示裝置10的概略結構。圖4是表示本發明第二實施方式的顯示裝置10的概略結構平面圖。圖5是表示本發明第二實施方式的顯示裝置10的概略結構的剖視圖。與第一實施方式相比，本實施方式的顯示裝置10在還具有以圍繞顯示區域12的方式配置的水分阻隔區域16這點上有差異。
[0076]圖5是沿著圖4所示的顯示裝置10的A-B線的剖視構造。如圖7所示，顯示裝置10的多個像素中的各像素具有包含晶體管18的晶體管元件和包含有機層28的發光元件。發光元件具有用像素電極22和與像素電極22對置配置的公共像素電極32夾持有機層28的構造。像素電極22針對每個像素都是獨立的，與各晶體管18分別連接。
[0077]本實施方式的顯示裝置10中以圍繞基板11的顯示部的方式設置水分阻隔區域16。如圖5所示，在本實施方式中，采用的也是沒有使用掩模的工序，因而，有機層28在基板11的整個面成膜。因此，令人擔心的是，有機層28會構成水分的輸送路徑。相對于第一實施方式的顯示裝置10而言，本實施方式的顯示裝置10還設有圍繞顯示部的水分阻隔區域16，具有將該區域中的有機層28、公共像素電極32和封固膜34的層疊構造貫穿的接觸電極36。由此，顯示區域12內的有機層28和該顯示區域12以外的區域的有機層28分離，可以抑制水分從顯示裝置10外部向顯示區域12輸送。
[0078]接觸電極36可以以填充開孔部的方式設置，也可以以附著于開孔部的側壁和底面的方式設置。
[0079]顯示區域12中公共像素電極32的電位由接觸電極36確保為公共電位線24的電位。而且，在水分阻隔區域16中也因存在接觸電極36，能夠使顯示區域12內的從公共像素電極32到公共電位線24這段路徑低電阻化。通過在水分阻隔區域16形成接觸電極36向公共像素電極32供給公共電位，能使顯示區域的公共電極為均勻的電壓，抑制著色。
[0080]〈制造方法〉
[0081]圖6A到圖6H是對本實施方式的顯示裝置10的制造方法做說明的剖視圖。表示的是圖5所示的區間C-D和區間G-Η。參照圖6A到圖6H，對本實施方式的顯示裝置10的制造方法做說明。另外，對于與第一實施方式共有的工序，省略其說明。此外，本實施方式中，省略了形成包含晶體管18的周邊電路之后到形成有機平坦化膜20之前的說明。
[0082]圖6A表示在顯示區域12中在有機平坦化膜20之上分開形成像素電極22之后。各像素電極22由光刻工序形成。
[0083]特別是在顯示區域12中，以覆蓋各像素電極22的周緣部的方式形成堤岸26(圖6B)。堤岸26由絕緣材料形成。作為絕緣材料，可以使用有機材料或無機材料。作為有機材料，優選以聚酰亞胺、丙烯酸等形成，作為無機材料，可以使用氧化硅等形成。
[0084]將有機層28成膜于基板11的整個面(圖6C)。另外，在本實施方式中，示出了僅形成發光層的例子，但在有機EL元件的情況下，通過使用了相同的蒸鍍用掩模的蒸鍍法形成電子注入層、電子傳輸層、空孔注入層、空孔傳輸層這些功能層。
[0085]構成公共像素電極32的透明電極層成膜于基板11的整個面(圖6D)。公共像素電極32優選用具有透光性的ΙΤ0、ΙΖ0等透明導電膜形成。或者，以能讓出射光透過的程度的膜厚形成金屬層。
[0086]將封固膜34成膜于基板11的整個面(圖6Ε)。封固膜34只要是能阻隔水分侵入的絕緣膜即可，可以使用例如氮化硅膜等。
[0087]在成膜上述有機層28、公共像素電極32、封固膜34之后，形成貫穿這些膜而使下層的絕緣層暴露的開孔部(圖6F)。為了形成該開孔部，可以使用激光磨削術法、光刻工序。本發明中不使用掩模這點上，優選使用激光磨削術法。
[0088]使用激光磨削術法除去比公共電位線24靠上層的部分的方法中，對形成接觸電極36的區域照射激光，被照射激光的部分瞬間升華。例如，作為所使用的激光，可以列舉KrF準分子激光(波長:248nm)、ArF準分子激光(波長:193nm)等。另外，本發明并不限于使用這些激光。
[0089]在開孔部形成接觸電極36(圖6G)。形成接觸電極36的過程中，可以合適地使用例如激光CVD法、噴墨法。如果使用激光CVD法，則容易形成在開孔部的側壁和底面部堆積金屬材料的構造，如果使用噴墨法，則容易形成在開孔部填充金屬材料這樣的構造。
[0090]成膜鈍化層37(圖6H)。接觸電極36和封固膜34被鈍化層37覆蓋。鈍化層37可以使用無機絕緣層、有機絕緣層。例如，在使用無機材料作為絕緣層的情況下，可以使用S1x、SiNx、S1xNy、SiNxOy、A10x、AlNx、AlOxNy、AlNxOy、TEOS膜等(x、y是任意值)。此外，也可以使用層疊這些材料所得到的構造。此外，在使用有機材料作為絕緣性材料的情況下，可以使用聚酰亞胺樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、有機硅樹脂、氟樹脂、硅氧烷樹脂等。此外，也可以使用層疊這些材料而得到的構造。再者，也可以使用層疊上述無機絕緣層和有機絕緣層而得到的構造。
[0091 ]通過使鈍化層37為層疊構造，可期待進一步防止水分侵入。例如，作為三層構造，第一層成膜第一無機絕緣膜。此時，由于有顯示區域12內的發光元件、接觸電極36形成的凹凸，第一絕緣膜不能充分覆蓋，存在會產生水分輸送路徑的情況。因此，作為第二層，成膜用于確保高平坦性的第二絕緣層。作為第二絕緣層，可以使用丙烯酸等有機絕緣層、TEOS等無機絕緣層。在平坦化了的第二絕緣層之上，成膜第三絕緣層。由于由第二絕緣層形成了平坦化，第三絕緣層具有高被覆性，能抑制產生水分輸送路徑。作為第三絕緣層優選是水分阻隔性高的膜，可以使用例如氮化硅膜等。
[0092]最后，貼合對置基板46而完成本實施方式的顯示裝置10(未圖示)。在圖5中，對置基板46是玻璃基板。在對置基板46上配置有與紅色像素對應的紅色用彩色濾光片、與綠色像素對應的綠色用彩色濾光片、與藍色像素對應的藍色用彩色濾光片以及設于各彩色濾光片之間的黑矩陣42。
[0093]然后，使用由樹脂構成的填充材料38來對基板11和上述對置基板46進行粘合，完成圖5所示的顯示裝置10。另外，作為填充材料38，可以使用聚酰亞胺、丙烯酸等透明樹脂，只要在填充到基板11和對置基板46之間后，利用光照射使填充材料固化即可。
[0094]采用本實施方式的顯示裝置10的制造方法，可以不使用掩模就進行有機層28的圖案形成，因而，能夠避免因基板11和掩模的接觸所導致的微粒發生這樣的問題。此外，在成膜有機層28后，在其上層成膜公共像素電極32和封固膜34，一起進行這些層的圖案形成，因此容易除去所產生的加工肩。
[0095]通過使用這樣的工序來形成圍繞顯示區域12的水分阻隔區域16，連同密封材料44，能夠形成以雙層來切斷水分向顯示區域12傳輸的路徑的結構。此外，可以減少圖案形成的次數。從這些方面來看，可以期待成品率提尚、生廣率提尚。
[0096]以上，對本發明的優選實施方式的顯示裝置10及其制造方法做了說明。但是，這些不過是示例，并不限定本發明的技術范圍。實際上，只要是本領域技術人員，都應該能在不脫離權利要求書記載的本發明的要旨的前提下，做各種改變。所以，這些改變當然也應理解為屬于本發明的技術范圍。
【主權項】
1.一種顯不裝置，具備: 像素電極，其針對多個像素中每一個設置； 公共像素電極，其針對所述多個像素中每一個共用設置； 有機層，其設于所述像素電極和所述公共像素電極之間； 第一絕緣層，其設于所述公共像素電極之上； 公共電位線，其在所述第一絕緣層、所述公共像素電極和所述有機層層疊起來的區域中設于比所述有機層靠下側的位置； 第一接觸電極，其在所述公共電位線之上，設于貫穿所述第一絕緣層、所述公共像素電極和所述有機層的開孔部； 第二絕緣層，其覆蓋所述第一絕緣層和所述第一接觸電極。2.根據權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于， 所述第一接觸電極配置于基板的周邊部。3.根據權利要求1所述的顯示裝置，其特征在于， 所述第一接觸電極配置于基板的顯示區域內。4.根據權利要求3所述的顯示裝置，其特征在于， 所述第一接觸電極配置于所述基板的所述顯示區域內的所述像素內。5.根據權利要求1?4中任一項所述的顯示裝置，其特征在于， 所述第一接觸電極以填充所述開孔部的方式設置。6.根據權利要求1?4中任一項所述的顯示裝置，其特征在于， 所述第一接觸電極設于所述開孔部的側壁和底面。7.一種顯不裝置，具備: 像素電極，其針對多個像素中每一個設置； 有機層，其設于所述像素電極； 公共像素電極，其由所述多個像素中每一個所共用并設于所述有機層之上； 第一絕緣層，其設于所述公共像素電極之上； 無機絕緣層，其在所述第一絕緣層、所述公共像素電極和所述有機層層疊起來的區域，設于比所述有機層靠下層的位置； 開孔部，其在所述無機絕緣層之上，并且在圍繞所述多個像素的環狀區域，貫穿所述第一絕緣層、所述公共像素電極和所述有機層； 第二接觸電極，其設于所述開口部； 第二絕緣層，其覆蓋所述第一絕緣層和所述第二接觸電極。8.根據權利要求7所述的顯示裝置，其特征在于， 所述第二接觸電極以填充所述開孔部的方式設置。9.根據權利要求7所述的顯示裝置，其特征在于， 所述第二接觸電極設于所述開孔部的側壁和底面。10.根據權利要求1?9中任一項所述的顯示裝置，其中， 還具備:第三絕緣層，其覆蓋所述第二絕緣層； 第四絕緣層，其覆蓋所述第三絕緣層。11.一種顯示裝置的制造方法，包含: 在基板的第一面之上形成多個像素電極； 在所述基板的第一面之上形成公共電位線； 在所述基板的整個面成膜有機層； 在所述有機層之上形成公共像素電極； 在所述公共像素電極之上成膜第一絕緣層； 在所述公共電位線之上形成開孔部； 在所述開孔部形成第一接觸電極； 以覆蓋所述第一絕緣層和所述第一接觸電極的方式成膜第二絕緣層。12.根據權利要求11所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于， 形成所述開孔部是通過從所述基板的所述第一面照射激光來形成的。13.根據權利要求11所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于， 在所述開孔部形成第一接觸電極是通過在所述開孔部填充金屬來進行的。14.根據權利要求11所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于， 在所述開孔部形成第一接觸電極是通過在所述開孔部的側壁和底面附著金屬來進行的。15.根據權利要求11所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于， 在所述開孔部形成第一接觸電極是通過激光CVD法來形成的。16.根據權利要求11所述的顯示裝置的制造方法，其特征在于， 在所述開孔部形成第一接觸電極是通過噴墨法來形成的。17.根據權利要求11?16中任一項所述的顯示裝置的制造方法，還包括: 以覆蓋所述第二絕緣層的方式成膜第三絕緣層； 以覆蓋所述第三絕緣層的方式成膜第四絕緣層。
【文檔編號】H01L27/32GK106057849SQ201610207664
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年4月5日 公開號201610207664.4, CN 106057849 A, CN 106057849A, CN 201610207664, CN-A-106057849, CN106057849 A, CN106057849A, CN201610207664, CN201610207664.4
【發明人】三村壽文, 佐藤敏浩
【申請人】株式會社日本顯示器