透明顯示面板、透明顯示裝置及透明顯示面板的制作方法
【專利摘要】本發明涉及顯示技術領域，公開了一種透明顯示面板、透明顯示裝置及透明顯示面板的制作方法。透明顯示面板包括陣列排布的多個像素單元，每個像素單元包括發光區和透明區，所述發光區設置有至少三個微米級的無機發光器件。在本發明實施例中，發光區的無機發光器件為微米級別，由此可見，發光區占像素單元的比例很小，相應的，透明區占像素單元的比例相對較大，透明顯示面板的光線透過率較大，因而該透明顯示面板可以實現較佳的透明顯示效果，進一步可以應用于虛擬現實顯示領域。
【專利說明】
透明顯示面板、透明顯示裝置及透明顯示面板的制作方法
技術領域
[0001]本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種透明顯示面板、透明顯示裝置及透明顯示面板的制作方法。
【背景技術】
[0002]隨著平板顯示技術的發展，各種顯示技術層出不窮，尤其是近年來透明顯示、虛擬現實等概念已經逐步進入人們的生活。
[0003]現有的平板顯示裝置中，較為常用的有TFT-LCD(Thin Film Transistor LiquidCrystal Display，薄膜晶體管液晶顯示器，簡稱TFT-LCD)和OLED(Organic Light-Emitting D1de，有機發光二級管，簡稱0LED)顯示裝置。其中，TFT-LCD如果要實現透明顯示，需要將背光模組拆除，并增加外界光源，然而，采用該方案的TFT-LCD，其透明顯示效果并不十分理想，且難以實現全彩顯示和高亮度顯示;OLED顯示裝置可以實現一定程度的透明顯示，然而由于其電極無法做到全透明，導致其透明顯示的效果也不甚理想。因此，如何使顯示裝置具備較佳的透明顯示性能，已成為當今顯示技術領域亟待解決的問題。

【發明內容】

[0004]本發明的目的是提供一種透明顯示面板、透明顯示裝置及透明顯示面板的制作方法，以提高顯示裝置的透明顯示性能。
[0005]本發明實施例提供一種透明顯示面板，包括陣列排布的多個像素單元，每個像素單元包括發光區和透明區，所述發光區設置有至少三個微米級的無機發光器件。
[0006]在本發明實施例中，發光區的無機發光器件為微米級別，由此可見，發光區占像素單元的比例很小，相應的，透明區占像素單元的比例相對較大，透明顯示面板的光線透過率較大，因而該透明顯示面板可以實現較佳的透明顯示效果。
[0007]優選的，所述發光區占像素單元的比例不大于10%。
[0008]優選的，所述透明顯示面板還包括與每個無機發光器件連接的薄膜晶體管，每個無機發光器件具有第一電極和第二電極，所述第一電極與對應的薄膜晶體管連接，所述第二電極與外圍電路連接，所述薄膜晶體管的開啟電流大于對應的無機發光器件的開啟電流。
[0009]優選的，每個無機發光器件的面積不大于lOOum2。
[0010]具體的，所述無機發光器件為矩形，所述無機發光二極器件的邊長為3μπι?ΙΟμπι。
[0011]具體的，每個無機發光器件為單色無機發光器件，所述至少三個無機發光器件包括紅發光器件、綠發光器件和藍發光器件。
[0012]優選的，所述薄膜晶體管為低溫多晶硅薄膜晶體管。采用該方案，薄膜晶體管的尺寸可以做得較小，發光區占像素單元的比例較小，因而有利于提高透明顯示面板的透明顯示效果，此外，薄膜晶體管做得較小時，像素單元也可以做得較小，因而也有利于提高透明顯示面板的分辨率。
[0013]優選的，所述薄膜晶體管與所述至少三個無機發光器件之間設置有平坦層，所述平坦層具有過孔，所述無機發光器件與對應的薄膜晶體管通過過孔連接。
[0014]具體的，所述平坦層為聚酰亞胺層。
[0015]優選的，每個無機發光器件與對應的薄膜晶體管之間的接觸面為粗糙面。
[0016]采用這樣的設計，可以增大無機發光器件與薄膜晶體管之間的粘附力，從而有利于提高透明顯示面板的產品品質。
[0017]具體的，所述無機發光器件為無機發光二極管。
[0018]本發明實施例提供一種透明顯示裝置，包括上述任一技術方案的透明顯示面板。該透明顯示裝置具備較佳的透明顯示效果。
[0019]本發明實施例提供一種透明顯示面板的制作方法，包括:
[0020]在晶圓上形成多個陣列排布的微米級的無機發光器件；
[0021]將所述多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至襯底基板上。
[0022]采用該方法制作的透明顯示面板，其透明顯示效果較好。
[0023]優選的，將所述多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至襯底基板上，包括:在襯底基板上形成薄膜晶體管;將所述多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至形成有薄膜晶體管的襯底基板上。
[0024]優選的，在襯底基板上形成薄膜晶體管之前，所述制作方法還包括:
[0025]對位于無機發光器件下方的晶圓進行刻蝕，形成與無機發光器件位置相對的溝槽；
[0026]在所述溝槽內注入酸液，對所述無機發光器件的下表面進行粗糙化處理。
[0027]當對無機發光器件的下表面進行粗糙化處理后，可以大大增強無機發光器件與薄膜晶體管之間的粘附作用，從而有利于提高透明顯示面板的產品品質。
[0028]優選的，將所述多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至形成有薄膜晶體管的襯底基板上，包括:在薄膜晶體管上方形成平坦層;將所述多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至所述平坦層上。
[0029]優選的，所述平坦層為聚酰亞胺層，在將所述多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至所述平坦層上后，所述制作方法還包括:
[0030]對所述平坦層進行加熱，加熱溫度為80°C?150°C。
[0031 ]當平坦層在80 °C?150 0C的溫度進行加熱后，平坦層會玻璃化，進而可以增強平坦層與無機發光器件之間的粘附性，并有利于提高透明顯示裝置的產品品質。
【附圖說明】
[0032]圖1為本發明實施例透明顯示面板的截面圖；
[0033]圖2為本發明實施例像素單元在第一視角方向的截面圖；
[0034]圖3為本發明實施例像素單元在第二視角方向的截面圖；
[0035]圖4為本發明實施例透明顯示面板的制作方法流程圖；
[0036]圖5為本發明又一實施例透明顯示面板的制作方法流程圖。
[0037]附圖標記說明:
[0038]100-像素單元
[0039]10a-發光區
[0040]I OOb-透明區[0041 ]I O-襯底基板
[0042]30-薄膜晶體管
[0043]11-光阻擋層
[0044]12-緩沖層
[0045]13-溝道層
[0046]14-源極
[0047]15-漏極
[0048]16-柵絕緣層
[0049]17-柵極
[0050]18-平坦層
[0051]180-過孔
[0052]19-無機發光器件
[0053]191-第一電極
[0054]192-第二電極
【具體實施方式】
[0055]為了提高顯示裝置的透明顯示性能，本發明實施例提供了一種透明顯示面板、透明顯示裝置及透明顯示面板的制作方法。為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚，以下舉實施例對本發明作進一步詳細說明。
[0056]如圖1和圖2所示，本發明實施例提供的透明顯示面板，包括陣列排布的多個像素單元100，每個像素單元100包括發光區10a和透明區10b，發光區10a設置有至少三個微米級的無機發光器件19。
[0057]其中，微米級的無機發光器件19指的是無機發光器件19的尺寸單位為微米(μπι)。無機發光器件19的具體類型不限，例如可以為無機發光二極管等等。每個無機發光器件19為單色無機發光器件，單色無機發光器件的具體發光顏色不限，例如發光區10a設置的至少三個無機發光器件19可以為紅發光器件、綠發光器件和藍發光器件，或者發光區10a設置的至少三個無機發光器件19可以為紅發光器件、綠發光器件、藍發光器件和白發光器件，在此不做具體限定。
[0058]在本發明實施例中，發光區10a的無機發光器件19為微米級別，由此可見，發光區I OOa占像素單元100的比例很小，相應的，透明區I OOb占像素單元100的比例相對較大，透明顯示面板的光線透過率較大，因而該透明顯示面板可以實現較佳的透明顯示效果，進一步可以應用于虛擬現實顯示領域。。
[0059]在本發明的優選實施例中，發光區10a占像素單元100的比例不大于10%。在本實施例中，透明顯示面板的光線透過率高達90%及以上，因而可以實現更佳的透明顯示效果。
[0060]請參考圖3所示，在一個具體實施例中，透明顯示面板還包括與每個無機發光器件19連接的薄膜晶體管30，每個無機發光器件19具有第一電極191和第二電極192，其中，第一電極191與對應的薄膜晶體管30連接，第二電極192與外圍電路(圖中未示出)連接，薄膜晶體管30的開啟電流大于對應的無機發光器件19的開啟電流。當薄膜晶體管30的開啟電流大于對應的無機發光器件19的開啟電流時，可以利用薄膜晶體管30驅動對應的無機發光器件19發光。
[0061]基于上述實施例的一個優選實施例中，每個無機發光器件19的面積不大于lOOum2。具體的，請參考圖1和圖2所示，無機發光器件19為矩形，無機發光器件19的邊長為3Um?1um0
[0062]考慮到目前薄膜晶體管30的開啟電流通常為0.5?3.ΟμΑ，為了確保無機發光器件19可以由薄膜晶體管30驅動，無機發光器件19的面積優選不大于10um2。其中，無機發光器件19的具體形狀不限，例如可以為矩形、圓形或者三角形等等，當無機發光器件19為矩形時，無機發光器件的邊長為3μηι?ΙΟμπι。
[0063]其中，薄膜晶體管的具體類型不限，例如可以為底柵型薄膜晶體管(此時溝道層位于柵線層的上方)或者頂柵型薄膜晶體管(此時溝道層位于柵線層的下方)等。薄膜晶體管各膜層的結構位置可以有很多種變化，只要制作出透明顯示裝置驅動所必要的元素(比如柵極、溝道層、源極和漏極等)，確保透明顯示裝置正常驅動即可。
[0064]具體的，如圖3所示，本發明實施例的透明顯示面板，采用的薄膜晶體管為頂柵型薄膜晶體管，頂柵型薄膜晶體管包括:位于襯底基板10前側的溝道層13，位于溝道層13前側的源極14和漏極15，位于源極14和漏極15前側的柵絕緣層16，以及位于柵絕緣層16前側的柵極17。其中，襯底基板10與薄膜晶體管30之間設置有光阻擋層11。光阻擋層11的具體材質不限，只要能夠阻擋光線即可，例如可以為金屬層。光阻擋層可以保護薄膜晶體管不受光線照射而發生損壞，進而使薄膜晶體管內的載流子濃度保持相對穩定。光阻擋層11與薄膜晶體管30之間還設置有緩沖層12。當襯底基板存在缺陷時，緩沖層可以使透明顯示面板的產品品質不受襯底基板缺陷的影響。
[0065]此外，薄膜晶體管30的具體種類也不限，例如可以為單晶硅薄膜晶體管、低溫多晶硅薄膜晶體管或者氧化物薄膜晶體管。通常情況下，為了滿足薄膜晶體管的驅動電流，單晶硅薄膜晶體管的溝道比(溝道層的寬度與溝道層的長度之比)要大于6，氧化物薄膜晶體管的溝道比要大于2，低溫多晶硅薄膜晶體管的溝道比要大于0.5。因此，本發明實施例中，為了減小薄膜晶體管的尺寸，優選采用低溫多晶硅薄膜晶體管，這樣薄膜晶體管的尺寸可以做得較小，發光區占像素單元的比例較小，因而有利于提高透明顯示面板的透明顯示效果，此外，薄膜晶體管做得較小時，像素單元也可以做得較小，因而也有利于提高透明顯示面板的分辨率。
[0066]請繼續參考圖3所示，在本發明一個具體實施例中，薄膜晶體管30與至少三個無機發光器件19之間設置有平坦層18，平坦層18具有過孔180，無機發光器件19與對應的薄膜晶體管30通過過孔180連接。其中，平坦層18的具體材質不限，例如可以為聚酰亞胺層。
[0067]在一個優選實施例中，每個無機發光器件19與對應的薄膜晶體管30之間的接觸面為粗糙面。采用這樣的設計，可以增大無機發光器件與薄膜晶體管之間的粘附力，從而有利于提高透明顯示面板的產品品質。
[0068]本發明實施例還提供了一種透明顯示裝置，包括前述任一實施例的透明顯示面板。該透明顯示裝置可以實現較佳的透明顯示效果，并可以應用于虛擬現實現實顯示領域。其中，透明顯示裝置的具體類型不限，例如可以為電視機、顯示器、平板電腦或者柜臺展示柜等等。對于透明顯示裝置的其它必不可少的組成部分均為本領域的普通技術人員應該理解具有的，在此不做贅述，也不應作為對本發明的限制。
[0069]如圖4所示，本發明實施例提供了一種透明顯示面板的制作方法，包括:
[0070]步驟101:在晶圓上形成多個陣列排布的微米級的無機發光器件；
[0071]步驟102:將多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至襯底基板上。
[0072]在上述方法步驟中，晶圓指的是硅半導體集成電路制作所用的硅晶片，因為其形狀為圓形，故而稱之為晶圓。在將無機發光器件轉印至襯底基板的過程中需要一個PDMS(聚二甲基硅氧烷，簡稱有機硅，英文為Polydimethysi 1xane，簡稱PDMS)印章作為過渡，PDMS與硅片之間具有良好的粘附性，具有良好的化學惰性，是一種應用廣泛的聚合物材料。在轉印過程中，首先將無機發光器件轉印至PDMS印章上，然后再將無機發光器件由TOMS印章轉印至襯底基板上。
[0073]采用該方法制作的透明顯示面板，其可以實現較佳的透明顯示效果，并可以應用于虛擬現實顯示領域。
[0074]其中，步驟102具體包括:
[0075]在襯底基板上形成薄膜晶體管；
[0076]將多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至形成有薄膜晶體管的襯底基板上。
[0077]在襯底基板上形成薄膜晶體管之前，透明顯示面板的制作方法還包括:
[0078]對位于無機發光器件下方的晶圓進行刻蝕，形成與無機發光器件位置相對的溝槽；
[0079]在溝槽內注入酸液，對無機發光器件的下表面進行粗糙化處理。
[0080]在該方法實施例中，當對無機發光器件的下表面進行粗糙化處理后，可以大大增強無機發光器件與薄膜晶體管之間的粘附作用，從而有利于提高透明顯示面板的產品品質。
[0081]將多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至形成有薄膜晶體管的襯底基板上，具體包括:
[0082]在薄膜晶體管上方形成平坦層；
[0083]將多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至平坦層上。其中，平坦層的具體材質不限，優選采用聚酰亞胺層。
[0084]將多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至平坦層上之后，透明顯示面板的制作方法還包括:對平坦層進行加熱，加熱溫度為80 °C?150 °C。
[0085]在該方法實施例中，當平坦層在80°C?150°C的溫度進行加熱后，平坦層會玻璃化，進而可以增強平坦層與無機發光器件之間的粘附性，并有利于提高透明顯示裝置的產品品質。
[0086]以下僅舉一個具體實施例來說明本發明透明顯示面板的制作方法，但讀者應知，透明顯示面板的制作方法并不局限于此，凡是基于本發明構思的制作方法均在本發明保護范圍內。如圖5所示，在一個具體實施例中，透明顯示面板的制作方法包括:
[0087]步驟201:在晶圓上形成多個陣列排布的微米級的無機發光器件；
[0088]步驟202:對位于無機發光器件下方的晶圓進行刻蝕，形成與無機發光器件位置相對的溝槽；
[0089]步驟203:在溝槽內注入酸液，對無機發光器件的下表面進行粗糙化處理；
[0090]步驟204:在襯底基板上形成薄膜晶體管；
[0091 ]步驟205:在薄膜晶體管上方形成平坦層；
[0092]步驟206:將多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至平坦層上;其中平坦層具有過孔，無機發光器件與對應的薄膜晶體管通過過孔連接；
[0093]步驟207:對平坦層進行加熱，加熱溫度為80 °C?150 °C。
[0094]采用上述方法實施例制作的透明顯示面板，其可以實現較佳的透明顯示效果。
[0095]顯然，本領域的技術人員可以對本發明進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和范圍。這樣，倘若本發明的這些修改和變型屬于本發明權利要求及其等同技術的范圍之內，則本發明也意圖包含這些改動和變型在內。
【主權項】
1.一種透明顯示面板，其特征在于，包括陣列排布的多個像素單元，每個像素單元包括發光區和透明區，所述發光區設置有至少三個微米級的無機發光器件。2.如權利要求1所述的透明顯示面板，其特征在于，所述發光區占像素單元的比例不大于 10% ο3.如權利要求1所述的透明顯示面板，其特征在于，所述透明顯示面板還包括與每個無機發光器件連接的薄膜晶體管，每個無機發光器件具有第一電極和第二電極，所述第一電極與對應的薄膜晶體管連接，所述第二電極與外圍電路連接，所述薄膜晶體管的開啟電流大于對應的無機發光器件的開啟電流。4.如權利要求1所述的透明顯示面板，其特征在于，每個無機發光器件的面積不大于10um205.如權利要求1所述的透明顯示面板，其特征在于，所述無機發光器件為矩形，所述無機發光二極器件的邊長為3μηι?ΙΟμπι。6.如權利要求1所述的透明顯示面板，其特征在于，每個無機發光器件為單色無機發光器件，所述至少三個無機發光器件包括紅發光器件、綠發光器件和藍發光器件。7.如權利要求3所述的透明顯示面板，其特征在于，所述薄膜晶體管為低溫多晶硅薄膜晶體管。8.如權利要求3所述的透明顯示面板，其特征在于，所述薄膜晶體管與所述至少三個無機發光器件之間設置有平坦層，所述平坦層具有過孔，所述無機發光器件與對應的薄膜晶體管通過過孔連接。9.如權利要求8所述的透明顯示面板，其特征在于，所述平坦層為聚酰亞胺層。10.如權利要求1所述的透明顯示面板，其特征在于，每個無機發光器件與對應的薄膜晶體管之間的接觸面為粗糙面。11.如權利要求1?10任一項所述的透明顯示面板，其特征在于，所述無機發光器件為無機發光二極管。12.—種透明顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1?11任一項所述的透明顯示面板。13.—種透明顯示面板的制作方法，其特征在于，包括: 在晶圓上形成多個陣列排布的微米級的無機發光器件； 將所述多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至襯底基板上。14.如權利要求13所述的制作方法，其特征在于，將所述多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至襯底基板上，包括: 在襯底基板上形成薄膜晶體管； 將所述多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至形成有薄膜晶體管的襯底基板上。15.如權利要求14所述的制作方法，其特征在于，在襯底基板上形成薄膜晶體管之前，所述制作方法還包括: 對位于無機發光器件下方的晶圓進行刻蝕，形成與無機發光器件位置相對的溝槽； 在所述溝槽內注入酸液，對所述無機發光器件的下表面進行粗糙化處理。16.如權利要求14或15所述的制作方法，其特征在于，將所述多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至形成有薄膜晶體管的襯底基板上，包括: 在薄膜晶體管上方形成平坦層； 將所述多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至所述平坦層上。17.如權利要求16所述的制作方法，其特征在于，所述平坦層為聚酰亞胺層，在將所述多個陣列排布的微米級的無機發光器件從晶圓轉印至所述平坦層上后，所述制作方法還包括: 對所述平坦層進行加熱，加熱溫度為80°C?150°C。
【文檔編號】H01L27/15GK106057843SQ201610638449
【公開日】2016年10月26日
【申請日】2016年8月5日 公開號201610638449.X, CN 106057843 A, CN 106057843A, CN 201610638449, CN-A-106057843, CN106057843 A, CN106057843A, CN201610638449, CN201610638449.X
【發明人】何曉龍, 姚繼開
【申請人】京東方科技集團股份有限公司