專利名稱：用于收集顆粒的單元和方法以及包括該單元的設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及用于收集顆粒的單元、包括該單元的設備以及利用該 單元收集顆粒的方法。
背景技術：
通常，利用在半導體晶片上形成包括電路的半導體芯片的制造過 程、將半導體芯片分類為良好芯片或者不合格芯片的電子芯片分選過 程以及將半導體芯片互相分離并利用環氧樹脂密封良好芯片的封裝過 程，可以制造半導體器件。
制造過程可以包括在該半導體晶片上形成材料層的薄膜沉積過 程、用于使該材料層平坦的化學機械拋光(CMP)過程、在該材料層 上形成光致抗蝕劑圖形的光刻過程、利用該光致抗蝕劑圖形作為蝕刻 掩模形成材料圖形的蝕刻過程、將雜質注入該半導體晶片或者該材料 層上的預定區域的離子注入過程、去除該半導體晶片上的顆粒的清潔 過程以及用于去除該半導體晶片上的化學溶液或者去離子水的干燥過 程。
可以利用各種化學氣體和/或者各種化學溶液實現該制造過程，而 且通過安裝在處理設備上的一些排出管可以排出該制造過程使用的化學氣體和/或者化學溶液。利用排出風扇，可以強制該化學氣體和/或者 化學溶液流入排出管，而且可以將它們排出該處理設備位于其內的潔 凈室。在排出潔凈室之前，可以在最終處理系統中對該化學氣體和/或 者化學溶液進行處理。
為了平滑排出該化學氣體和/或者化學溶液，應該使各排出管內的 壓力保持恒定且穩定的值。當在該排出管內存在某些障礙時，該障礙 可能干擾諸如化學氣體和/或者化學溶液的液體在該排出管內的流動。 例如，從該處理設備排出的化學氣體和/或者化學溶液可能與該排出管 內的空氣或者其他化學物質發生反應而產生副產品，該副產品可能沉 積在該排出管的內壁上，這樣可能導致該排出管內的壓力發生變化， 而且可能腐蝕該排出管。
特別是，在流過該排出管的液體是易燃材料時，該易燃材料可能 自燃，而產生顆粒，而且該顆粒可能沉積在該排出管的內壁上，從而 產生不希望的問題。

發明內容
本發明的典型實施例涉及用于收集顆粒的單元、包括該單元的設 備以及利用該收集單元收集顆粒的方法。
根據第一方面，本發明涉及用于收集顆粒的收集單元。該收集單 元包括排出管，提供工藝氣體流過其的通路；以及捕集器，安裝在 該排出管上。該捕集器具有該工藝氣體中的顆粒通過其被引進入該捕 集器的入口。收集線路連接到該捕集器，該收集線路穿透該排出管的 一部分，以向著該排出管的外部區域延伸。
在一些實施例中，該入口的直徑可以小于該排出管的內徑，而且 該入口可以布置在該排出管內空間的中心區域。在一些實施例中，該單元可以進一步包括多個安裝在該排出管的 外壁上的聲波發生器。該聲波發生器產生的聲波傳播到該排出管的內 部區域。可以布置該聲波發生器，以在該排出管的截面圖上，在它們 之間具有相同距離。該排出管可以具有圓形截面。在這種情況下，可 以布置該聲波發生器，以使從該圓形截面的中心點連接到兩個相鄰聲 波發生器的兩條直線之間的夾角為90°。作為一種選擇，該排出管可以 具有矩形截面。在這種情況下，該聲波發生器分別布置在該排出管的 頂板、底板、左側壁和右側壁上。
在一些實施例中，該單元可以進一步包括儲存室，連接到該收 集線路，以儲存該顆粒；以及排出線路，連接到該儲存室的頂板，以 排出被引進入該儲存室的工藝氣體。該儲存室可以布置在該排出管下 面。該排出線路可以連接到該排出管。此外，可以布置阻擋板，以向 該儲存室的內部區域或者外部區域移動；而且可以布置驅動器，以連 接到該阻擋板，從而使該阻擋板移動。在該阻擋板完全移動到該儲存 室內時，該儲存室內的空間可以被分割為上部空間和下部空間。該儲 存室可以具有進入其側壁下部，從而接入該下部空間的開口。利用門 關閉或者開啟該開口。
根據另一個方面，本發明涉及具有該收集單元的設備。該設備包 括處理室，在其內進行處理；排出管，連接到該處理室，以排出該 處理室內的工藝氣體；以及收集單元，安裝在該排出管上，以收集流 過該排出管的工藝氣體中的顆粒。
根據另一個方面，本發明涉及一種用于收集流過排出管的工藝氣 體中的顆粒的方法。根據該方法，將具有入口的捕集器安裝在該排出 管內，而且收集通過該入口進入該捕集器的工藝氣體中的顆粒。
在一些實施例中，該入口可能具有小于該排出管的內徑的直徑， 而且該入口可能布置在該排出管內空間的中心區域。通過產生傳播到該排出管的內部區域的聲波，可以收集該顆粒。可以利用多個布置在 該排出管的外壁上的聲波發生器產生該聲波。在產生該聲波期間，該 工藝氣體中的顆粒集聚在該入口之前的空間的中心區域，而且該集聚 顆粒可以通過該入口流入該捕集器。
在一些實施例中，該方法可以進一步包括將該捕集器內的收集 顆粒儲存在布置在該排出管下面的儲存室內。通過將該儲存室連接到 該捕集器的收集線路，使該捕集器內的收集顆粒可以被引進入該儲存 室，而且通過將該儲存室連接到該排出管的排出線路，使流入該儲存 室、具有顆粒的工藝氣體排出該儲存室。此外，該方法可以進一步包 括將阻擋板插入該儲存室，以在空間上將該儲存室分割為上部空間 和下部空間；以及去除儲存在該下部空間內的顆粒。


通過更具體描述本發明的優選方面，本發明的上述以及其他目的、 特征和優點將顯而易見，如附圖所示，在不同視圖中，相同的參考編 號表示相同的部分。該附圖未必按比例示出，而是將重點放在說明本 發明原理上。
圖1是示出根據本發明實施例的設備的示意框圖。
圖2是示出圖1所示第一室的示意圖。
圖3是示出根據本發明實施例的收集單元的示意圖。
圖4至6是示出沿圖3所示線I-I'取的截面圖。
圖7至9是示出利用圖3所示收集單元收集顆粒的方法的示意圖。
圖io是示出根據本發明另一個實施例的收集單元的示意圖。
具體實施例方式
下面，將參考附圖更全面說明本發明，附圖示出本發明優選的實 施例。然而，可以以許多不同方式實現本發明，因此，不應該認為本 發明局限于在此描述的實施例。其實，提供這些實施例是為了使本公開徹底和全面，并向本技術領域內的技術人員完全傳達本發明范圍。 附圖中，為了清楚起見，元件的形狀被放大。
圖1是示出根據本發明實施例的襯底處理設備的示意框圖。
參考圖1，襯底處理設備1可以包括第一和第二室100a和100b; 第一和第二分排出管280，分別連接到第一和第二室100a和100b;以 及主排出管290，連接到第一和第二分排出管280。在本實施例中，假 定襯底處理設備1包括兩個室，例如，圖1所示的第一和第二室100a 和100b。然而，根據本發明的襯底處理設備1可以包括三個或者更多 個室。
第一和第二室100a和100b分別在其內提供第一和第二空間，而 且可以在該第一和第二空間內執行預定處理。在第一空間內執行的第 一處理可以是與在第二空間內執行的第二處理相同的處理。作為一種 選擇，第一處理可以是與第二處理不同的處理。可以在第一處理之后 執行第二處理，反之亦然。此外，第一分排出管280可以與第二分排 出管280具有相同的配置和結構。因此，下面僅說明第一室100a，而 不重復贅述第二室100b。
第一室100a連接到第一分排出管280的一端，如上所述。通過第 一分排出管280，可以將第一室100a中包括反應氣體、未反應氣體以 及副產品的工藝氣體排出第一室100a。可以在第一室100a內執行預定 處理的同時，排出第一室100a內的工藝氣體。甚至可以在該預定處理 之前或者之后，排出第一室100a內的工藝氣體。
泵282和洗滌器284可以安裝在第一分排出管280內。主排出管 290連接到第一分排出管280的另一端。因此，通過第一分排出管280， 可以使第一室100a內的工藝氣體被引進入主排出管290。可以在安裝 在預定位置(例如，襯底處理設備1安裝在其內的潔凈室的天花板上)的最終處理系統中處理主排出管290內的工藝氣體。然后，可以使處 理后的工藝氣體排出該潔凈室。該最終處理系統可以處理該工藝氣體， 以排出滿足環境規范的純凈氣體。
圖2是示出圖1所示第一室的實施例以及安裝在其上的附件的示
意圖。下面，盡管結合沉積室描述了第一室，但是第一室并不局限于 沉積室。例如，第一室可以相當于蝕刻室或者清潔室。
第一室100a可以提供在其內執行預定處理的空間。可以對裝載在 第一室100a內的晶片W實施預定處理。第一室100a可以包括內管 120和圍繞該內管120的外管140。內管120和外管140可以是石英管。 內管120可以是具有頂部開口和底部開口的圓柱形管。外管140也可 以是圓柱形的。然而，外管140可以僅具有底部開口，而沒有頂部開 口。即，外管140的頂部可以是封閉的。此外，圓柱形的法蘭200可 以附著在外管140的下部。法蘭200也可以具有頂部開口和底部開口。
加熱器160可以布置在外管140的外部。例如，可以安裝加熱器 160，以便包圍外管140的側壁。加熱器160可以加熱第一室100a，以 在預定處理期間，使第一室100a內的氣溫保持處理溫度。
將晶片W裝載在舟皿300內，然后，進行預定處理。舟皿300可 以具有上板312;下板314，對著上板312;以及多個垂直支撐320， 安裝在上板312與下板314之間。在第一室100a是垂直室時，上板312 和下板314平行于水平線。每個垂直支撐320分別具有多個其內用于 插入晶片W的槽。各支撐320上的槽的數量約為50至100。可以在下 板314的下面設置多個熱輻射板342。該熱輻射板342可以由石英構成， 而且可以平行于下板314地安裝該熱輻射板342。
舟皿300被罩蓋344支承。g卩，舟皿300安裝在罩蓋344上。罩 蓋344可以是水平板形的。因此，在將舟皿300裝載在內管120內時，
12罩蓋344可以接觸法蘭200的下部，以密封第一室100a內的空間。驅 動單元380可以附著在罩蓋344上。驅動單元380可以包括電機382， 用于使罩蓋344旋轉；以及升降器384，用于上/下移動罩蓋344。升降 器384可以具有由電機384c使其旋轉的垂直螺桿384b和螺桿384b插 入其內的托架384a。電機382可以布置在罩蓋344與托架384a之間。 因此，在將電機384c固定在預定位置，且使電機384c運行從而使螺桿 384b旋轉時，托架384a可以向上或者向下移動。結果，如果電機384c 運行，則罩蓋344和舟皿300可以向上或者向下移動。
在法蘭200的下面設置備用室(未示出)。在執行預定處理之前 將晶片W裝載在位于備用室內的舟皿300上，且具有晶片W的舟皿 300可以向上移動到管120內。法蘭200可以包括圓柱形的主體；外 環222，從該主體的上部向該主體的外部凸出；以及內環224，從該主 體的內壁向該主體的內側凸出。外環224附著在外管140的下端，以 支承外管140。同樣，內環224附著在內管120的下端，以支承內管 120。
工藝氣體供給管240安裝在法蘭200的外側，而且可以將工藝氣 體供給管240連接到工藝氣體端口 242。工藝氣體端口 242可以延伸， 以進入法蘭200的主體。因此，通過工藝氣體供給管240和工藝氣體 端口 242，工藝氣體可以進入內管120。此外，凈化氣體供給管260安 裝在法蘭200的外側，而凈化氣體供給管260可以連接到凈化氣體端 口 262。凈化氣體端口 262可以延伸，以進入法蘭200的主體。因此， 通過凈化氣體供給管260和凈化氣體端口 262，凈化氣體可以進入內管 120。此外，第一分排出管280安裝在法蘭200的外側，而且第一分排 出管280可以延伸，以進入法蘭200的主體。第一分排出管280可以 進入外環222與內環224之間的主體。
根據上面描述的第一室100a和附件，可以使工藝氣體被引進入法 蘭200的主體包圍的空間。被引進入法蘭200的工藝氣體可以向上流動，而且在內管120內發生反應，以在晶片W上形成薄膜。當工藝氣 體在內管120內發生反應時，可能產生一種或者多種副產品。內管120 內的工藝氣體和副產品可以通過內管120與外管140之間的空間向下 流動，然后，可以通過第一分排出管280排出。
圖3是示出根據本發明實施例的收集單元的示意圖，而圖4至6 是示出沿圖3所示線I-I'取的截面圖。
如上所述，通過第一分排出管280和主排出管290，可以排出工藝 氣體，例如，反應氣體、未反應氣體以及副產品。在這種情況下，該 工藝氣體可能與第一分排出管280和主排出管290內的空氣發生反應 而產生顆粒。該顆粒可能沉積在第一分排出管280和主排出管290的 內壁上，從而導致排出管280和290內的壓力發生變化，而且可能腐 蝕排出管280和290。特別是，諸如硅垸(SiH4)氣體和氫氣的易燃氣 體可能自燃而產生顆粒。因此，為了防止排出管280和290內的壓力 發生變化并防止排出管280和2卯被腐蝕，應該去除顆粒。
收集單元可以安裝在分排出管280 (例如，第一分排出管280)或 者主排出管290上，以收集顆粒。下面，假定收集單元安裝在主排出 管290上。然而，根據本發明的收集單元可以安裝在分排出管280上， 如上面所描述的。此外，在本實施例中，假定單個分排出管連接到一 個室(例如，第一室100a)。然而，分排出管280的數量并不局限于 一個。例如，多個分排出管可以連接到第一室100a。在這種情況下， 分別流過分排出管的工藝氣體可能互相不同。例如，在第一至第三分 排出管連接到第一室100a時，第一分排出管可以排出含有酸性化合物 的第一氣體，第二分排出管可以排出含有有機化合物的第二氣體，第 三分排出管可以排出含有易燃材料的第三氣體。
在第一室100a連接到多個分排出管，而收集單元安裝在分排出管 之一上時，該收集單元優選安裝在排出易燃氣體的分排出管上。這是因為，易燃氣體可能發生自燃而產生如上所述的大量顆粒。
該顆粒主要沉積在該排出管的彎曲部分的內壁上。例如，大多數 顆粒可能沉積在該分排出管與主排出管互相連接的接頭位置的內壁 上。此外，大多數顆粒可能沉積在安裝在排出管上用于控制該工藝氣 體的流速的阻尼器上。因此，該收集單元優選安裝在該工藝氣體的通 路上位于該阻尼器或者該排出管的彎曲部分之前的位置。在這種情況 下，該收集單元可以在顆粒到達該阻尼器或者該排出管的彎曲部分之 前，捕獲大多數顆粒。
如圖3所示，該收集單元可以包括捕集器420、收集線路440、 儲存室460以及排出線路480。捕集器420具有入口 422和出口。該捕 集器可以安裝在主排出管290上。此外，布置該捕集器420，以使捕集 器420的入口 422對著該工藝氣體的移動方向的相反方向。捕集器420 可以具有漏斗形配置。即，入口 422的面積可以大于出口的面積。在 這種情況下，入口 422的直徑M小于主排出管290的內徑D，而且入 口 422可以位于主排出管290包圍的空間的中心區域上。SP，捕集器 420的任意部分都不接觸主排出管290的內壁。因此，流過主排出管 290的一部分工藝氣體可以被引進入捕集器420，而且另一部分工藝氣 體可能流過捕集器420與主排出管290的內壁之間的空間。
儲存室460可以布置在主排出管290下面，而收集線路440可以 將捕集器420連接到儲存室460。收集線路440進入部分主排出管290 內，而且收集線路440的一端連接到捕集器420的出口，而收集線路 440的另一端連接到儲存室460的頂板。儲存室460內可以具有空空間， 而且捕集器420捕獲的工藝氣體中的顆粒可以存儲在儲存室460內。 儲存室460可以具有進入其側壁上部的縫隙462。縫隙462提供用于插 入阻擋板520的空間。此外，儲存室460可以具有進入其側壁下部的 開口 464。可以利用門468關閉或者開啟開口 464。排出線路480的一端可以連接到儲存室460的頂板，而排出線路 480的另一端可以連接到部分主排出管290上。
阻擋板520可以連接到驅動器540。阻擋板520和驅動器540構成 活門部件500。驅動器540可以使阻擋板520水平移動。在阻擋板520 通過縫隙462完全插入儲存室460內時，可以將儲存室460內的空空 間分割為上部空間和下部空間。在這種情況下，在開口 464被打開時， 下部空間可以通過開口 464連接到儲存室460的外部區域。即，開口 464可以用作從儲存室460的外部區域接入下部空間的通路。
可以將多個聲波發生器490布置在主排出管290的外壁上。每個 聲波發生器490都可以產生傳播到主排出管290的內部的聲波。該顆 粒對該聲波起反應，因為每個顆粒都具有自己的體積和質量。因此， 來自發生器490的聲波可以使主排出管290內的顆粒向特定方向移動。 例如，來自發生器490的聲波可以使主排出管290內的顆粒移動到主 排出管290內的中心區域。該顆粒的移動方向取決于聲波的傳播方向。
可以布置聲波發生器490，在主排出管290的截面圖上，在它們之 間具有相同的距離，如圖4至6所示。例如，在主排出管290是如圖4 所示的圓形管道，而聲波發生器490包括4個聲波發生器時，可以將 這4個聲波發生器4卯分別布置在主排出管2卯的上部、下部、左側 和右側。在這種情況下，連接該圓形截面的中心點與2個相鄰發生器 490的兩條直線之間的夾角可以是90度。在另一個實施例中，主排出 管290可以是如圖5所示的圓形管道，而且聲波發生器490可以包括8 個聲波發生器，例如，第一至第八聲波發生器。在這種情況下，第一 至第四發生器490可以分別布置在主排出管290的上部、下部、左側 和右側，如參考圖4所述，而第五至第八發生器可以分別布置在兩個 相鄰發生器之間。因此，連接該圓形截面的中心點與2個相鄰發生器 490的兩條直線之間的夾角可以是45度。在又一個實施例中，主排出 管290可以是如圖6所示的矩形管道，而且聲波發生器490可以包括4個聲波發生器，例如，第一至第四聲波發生器。在這種情況下，可以
將第一至第四發生器490布置在主排出管290的頂板、底版、左側壁 和右側壁上。
如圖4至6所示，在所有聲波發生器490產生的聲波傳播到主排 出管290的中心區域時，可以使主排出管290中的顆粒集聚在主排出 管290的空間內的中心區域。發生器490的數量越多，顆粒的收集效 率越高。例如，與圖4所示具有4個發生器的收集單元相比，圖5所 示具有8個發生器的收集單元展示較高的收集效率，因為圖5所示發 生器490的數量大于圖4所示發生器的數量。
根據圖4至6所示的實施例，該收集單元可以具有4個至8個聲 波發生器。然而，該聲波發生器的數量并不局限于4個或者8個。例 如，根據本發明的收集單元可以具有2、 3、 5至7、 9或者更多個發生 器。此外，可以將該發生器布置在與圖4至6所示實施例不同的位置。 此外，可以適當調節該聲波發生器的輸出功率，以調整顆粒的移動速 度。
圖7至9是示出根據本發明實施例利用圖3所示收集單元收集顆 粒的方法的示意圖。
參考圖7，從處理室流出的工藝氣體流過主排出管290。工藝氣體 可以包括該處理室內產生的顆粒，而且根據圖7所示的視圖，它可以 從左側流到右側。捕集器420可以安裝在主排出管290上，而且布置 捕集器420，以使捕集器420的入口 422對著該工藝氣體的移動方向的 相反方向，如圖所示。
多個聲波發生器490可以布置在主排出管290的外壁上。在工藝 氣體的移動方向上，聲波發生器490可以位于捕集器420之前。聲波 發生器490產生的聲波傳播到主排出管290的中心區域，如虛線箭頭所示。該聲波可以使工藝氣體中的顆粒移動到主排出管290內的中心
區域。因此，可以使工藝氣體中的顆粒集聚在捕集器420的入口 422 之前的空間內的中心區域。與流過入口 422的一部分工藝氣體一起， 集聚在主排出管290的中心區域的顆粒可以被引進入捕集器420。沒有 顆粒的另一部分工藝氣體可以流過捕集器420與主排出管290的內壁 之間的空間。因此，盡管捕集器420安裝在主排出管290內，但是沒 有顆粒的工藝氣體仍保持均勻流動。捕集器420具有出口，而且該出 口連接到進入主排出管290的一部分的收集線路440。因此，通過收集 線路440，可以排出具有顆粒的工藝氣體。
參考圖8，收集線路440連接到布置在主排出管290的下面的儲存 室460的頂板上。儲存室460可以具有進入其一部分側壁的縫隙462。 縫隙462提供在其內插入阻擋板520的空間。阻擋板520可以通過縫 隙462水平移動。因此，在阻擋板520完全插入儲存室460時，可以 將儲存室460內的空空間分割為上部空間和下部空間。然而，在聲波 發生器490工作，以捕獲工藝氣體中的顆粒時，阻擋板520從儲存室 460抽出，如圖8所示。結果，在聲波發生器490工作期間，顆粒和一 部分工藝氣體可以被引進入儲存室460。
通過如圖3所示的排出線路480，儲存室460可以連接到主排出管 290的一部分上。顆粒和工藝氣體被引進入儲存室460的速度可以變得 更低。這是因為儲存室460內顆粒和工藝氣體的移動通路的截面積大 于顆粒和工藝氣體在收集線路440內的移動通路的截面積。因此，自 身具有質量的顆粒可能因為重力沉淀在儲存室460的底板上，而且只 有工藝氣體可以再一次通過排出線路480流入主排出管290。
根據上面所做的描述，利用聲波發生器490、捕集器420和儲存室 460，可以收集并儲存主排出管290內的顆粒。因此，可以防止顆粒沉 積在主排出管290的內壁上。結果，可以使主排出管290內的壓力保 持均勻，而且可以防止腐蝕主排出管290。此外，可以平滑地排出第一室100a內的工藝氣體。此外，捕集器420的入口 422具有比主排出管 290的內徑小的直徑。因此，可以最小化主排出管290內壓力的變化， 而且即使不使用附加風扇，也可以排出主排出管290內的工藝氣體。 此外，可以安全地將工藝氣體內的顆粒儲存在儲存室460內。在儲存 在儲存室460內的顆粒的數量增加時，需要清潔儲存室460。
參考圖9，為了清潔儲存室460，可以使阻擋板520通過縫隙462 滑入儲存室460。驅動器540可以使阻擋板520移動。如果阻擋板520 完全滑入儲存室460，則將儲存室460內的空間分割為互相分離的上部 空間和下部空間。因此，儲存的顆粒可以位于下部空間內。
儲存室460可以具有進入其側壁下部的開口 464。門468可以關閉 或者開啟開口 464。開啟開口 464，然后，通過開口 464可以去除儲存 在儲存室460內的顆粒。可以利用諸如真空清潔器的真空設備，去除 儲存室460內的顆粒。結果，完全清潔儲存室460。
圖IO是示出根據本發明另一個實施例的收集單元的示意圖。
參考圖10，關于排出線路480a的配置，根據本實施例的收集單元 與圖3所示收集單元不同。根據本實施例，排出線路480a的一端連接 到儲存室460，而排出線路480a的另一端可以直接連接到上面描述的 最終處理系統。因此，可以在最終處理系統內處理儲存室460排出的 工藝氣體，而不流入主排出管290。該最終處理系統可以凈化該工藝氣 體，然后，使凈化氣體排出潔凈室。
泵482和洗滌器484可以安裝在排出線路480a內。泵482可以強 制排出排出線路480a內的工藝氣體，而洗滌器484可以中和流過排出 線路480a的工藝氣體內的毒性元素。
盡管該圖中沒有示出，但是泵482和洗滌器484可以安裝在參考圖3描述的收集線路440內。
根據本發明，利用聲波發生器、捕集器以及儲存室，可以收集和 儲存主排出管內的顆粒。因此，可以防止顆粒沉積在主排出管的內壁 上。結果，可以使主排出管內的壓力保持均勻，而且可以防止腐蝕主 排出管。此外，可以平滑地排出處理室內的工藝氣體。此外，可以將 工藝氣體中的顆粒安全地儲存在儲存室內。
盡管結合附圖所示的本發明實施例描述了本發明，但是本發明并 不局限于此。本技術領域內的技術人員明白，在不脫離本發明實質范 圍的情況下，可以進行各種替換、修改或者變更。
權利要求
1.一種襯底處理設備，包括處理室，在其內進行處理；排出管，連接到所述處理室，以排出所述處理室內的工藝氣體；以及收集單元，安裝在所述排出管上，以收集流過所述排出管的所述工藝氣體中的顆粒，其中，所述收集單元包括捕集器，安裝在所述排出管內，所述捕集器具有所述顆粒通過其被引進入的入口和通過其排出所述顆粒的出口；以及收集線路，連接到所述捕集器的所述出口，所述收集線路穿透所述排出管的一部分，以向著所述排出管的外部區域延伸。
2. 根據權利要求l所述的設備，其中，所述入口的直徑小于所述 排出管的內直徑，而且其中，所述入口布置在所述排出管內的空間的 中心區域。
3. 根據權利要求l所述的設備，其中，所述收集單元還包括安裝 在所述排出管的外壁上的多個聲波發生器，而且其中，所述聲波發生 器產生向著所述排出管的內部區域傳播的聲波。
4. 根據權利要求3所述的設備，其中，所述聲波發生器布置成在 所述排出管的截面圖上在所述聲波發生器之間具有相同距離。
5. 根據權利要求4所述的設備，其中，所述排出管具有圓形截面，而且其中，所述聲波發生器布置成使得從所述圓形截面的中心點連接到相鄰的兩個聲波發生器的兩條直線之間的夾角為90°。
6. 根據權利要求4所述的設備，其中，所述排出管具有矩形截面，而且其中，所述聲波發生器分別布置在所述排出管的頂板、底板、左 側壁和右側壁上。
7. 根據權利要求l所述的設備，其中，所述收集單元還包括儲 存室，連接到所述收集線路，以儲存所述顆粒；以及排出線路，連接 到所述儲存室的頂板，以排出引入所述儲存室的所述工藝氣體；而且 其中，所述儲存室布置在所述排出管下面。
8. 根據權利要求7所述的設備，其中，所述排出線路連接到所述 排出管。
9. 根據權利要求7所述的設備，其中，所述收集單元還包括 阻擋板，向著所述儲存室的內部區域或者外部區域移動；以及 驅動器，連接到所述阻擋板，以使所述阻擋板移動，其中，當所述阻擋板完全移動到所述儲存室內時，所述儲存室內 的空間被分割為上部空間和下部空間。
10. 根據權利要求9所述的設備，其中，所述儲存室具有穿透其 側壁的下部以通向所述下部空間的開口，而且其中，由門關閉或者開 啟所述開口。
11. 根據權利要求l所述的設備，其中，所述收集單元還包括 泵，安裝在所述收集線路上，以使所述收集線路內的所述工藝氣體移動；以及洗滌器，安裝在所述收集線路上，用于過濾流過所述收集線路的 所述工藝氣體。
12. —種收集單元，包括排出管，提供工藝氣體所流過的通路；捕集器，安裝在所述排出管中，所述捕集器具有入口，所述工藝氣體中的顆粒通過該入口被引入所述捕集器；以及 收集線路，連接到所述捕集器，其中，所述收集線路穿透所述排出管的一部分，以向著所述排出 管的外部區域延伸。
13. 根據權利要求12所述的收集單元，其中，所述入口的直徑小 于所述排出管的內直徑，而且其中，所述入口布置在所述排出管內的 空間的中心區域。
14. 根據權利要求12所述的收集單元，還包括安裝在所述排出管 的外壁上的多個聲波發生器，其中，所述聲波發生器產生向著所述排出管的內部區域傳播的聲波。
15. 根據權利要求14所述的收集單元，其中，所述聲波發生器布 置成在所述排出管的截面圖上在所述聲波發生器之間具有相同距離。
16. 根據權利要求15所述的收集單元，其中，所述排出管具有圓 形截面，而且其中，所述聲波發生器布置成使得從所述圓形截面的中 心點連接到相鄰兩個聲波發生器的兩條直線之間的夾角為90°。
17. 根據權利要求15所述的收集單元，其中，所述排出管具有矩 形截面，而且其中，所述聲波發生器分別布置在所述排出管的頂板、 底板、左側壁和右側壁上。
18. 根據權利要求12所述的收集單元，還包括 儲存室，連接到所述收集線路，以儲存所述顆粒；以及 排出線路，連接到所述儲存室的頂板，以排出引入所述儲存室的所述工藝氣體，其中，所述儲存室布置在所述排出管下面。
19. 根據權利要求18所述的收集單元，其中，所述排出線路連接到所述排出管。
20. 根據權利要求18所述的收集單元，還包括阻擋板，向著所述儲存室的內部區域或者外部區域移動；以及 驅動器，連接到所述阻擋板，以使所述阻擋板移動， 其中，當所述阻擋板完全移動到所述儲存室內時，所述儲存室內 的空間被分割為上部空間和下部空間。
21. 根據權利要求20所述的收集單元，其中，所述儲存室具有穿透其側壁的下部以通向所述下部空間的開口，而且其中，由門關閉或 者開啟所述開口。
22. —種用于收集流過排出管的工藝氣體中的顆粒的方法，所述 方法包括將捕集器安裝在所述排出管內，所述捕集器具有入口；以及收集通過所述入口進入所述捕集器的所述工藝氣體中的所述顆粒。
23. 根據權利要求22所述的方法，其中，所述入口具有小于所述 排出管的內直徑的直徑，而且所述入口布置在所述排出管內的空間的 中心區域，其中，收集所述顆粒包括利用布置在所述排出管的外壁上的多個 聲波發生器產生向著所述排出管的內部區域傳播的聲波，而且其中，在產生所述聲波期間，所述工藝氣體中的所述顆粒集 聚在所述入口前的所述空間的所述中心區域，而且所集聚的顆粒通過 所述入口流入所述捕集器。
24. 根據權利要求22所述的方法，還包括將所述捕集器內的所述收集的顆粒儲存到布置在所述排出管下面 的儲存室內，其中通過將所述儲存室連接到所述捕集器的收集線路，所述捕集 器內的所述收集的顆粒被引入所述儲存室，而且通過將所述儲存室連 接到所述排出管的排出線路，流入所述儲存室的具有所述顆粒的所述 工藝氣體被排出所述儲存室。
25.根據權利要求24所述的方法，還包括將阻擋板插入所述儲存室，以在空間上分離所述儲存室中的上部空間和下部空間；以及去除儲存在所述下部空間內的所述顆粒。
全文摘要
本發明提供用于收集顆粒的單元和方法以及包括該單元的設備。一種收集單元包括排出管，提供工藝氣體流過其的通路；捕集器，安裝在該排出管上；以及收集線路，連接到該捕集器。該捕集器具有該處理中的顆粒被引入該捕集器的入口，而且該收集線路穿透該排出管的一部分，以向著該排出管的外部區域延伸。還提供了一種包括該收集單元的設備以及利用該收集單元收集顆粒的方法。
文檔編號H01L21/00GK101308769SQ20081000375
公開日2008年11月19日 申請日期2008年1月22日 優先權日2007年1月22日
發明者金基洙, 金重鉉 申請人:三星電子株式會社