一種具有熒光增強效果的基底的制備方法
【技術領域】
[0001] 本發明涉及一種具有熒光增強效果的基底的制備方法，特別針對于生物染色細胞 在熒光顯微鏡下的觀察與檢測過程中使用的基底。
【背景技術】
[0002] 熒光檢測技術作為一種成熟的現代光譜技術，因其靈敏度高和方法多樣等優點， 已廣泛用于各種分析表征過程。但隨著人們對微觀世界的深入探索，傳統提高熒光檢測靈 敏度的方法由于其普適性較差，已經無法滿足所有的測試需求因此，進一步提高熒光檢測 的靈敏度已經成為光譜研究的前沿。
[0003] 眾多光譜成像技術中，細胞熒光成像由于特異性強，靈敏度高，觀測方便，已經成 為現今醫療診斷和科學研究不可或缺的手段，其中，染料標記熒光成像的方式得到了最廣 泛的應用。但染料標記熒光成像的對光不穩定，易發生光漂白和容易產生自猝滅等缺點限 制了其在生物學、醫學方面的進一步發展。
[0004] 表面增強熒光技術能夠捕捉及其微弱的光學信號并將其發射強度大大增加，而這 大大減小了激發熒光所需要的光強度，能夠有效的降低染料標記熒光成像中對于光強度的 依賴性，進而減小其對于光的不穩定性，避免光漂白現象的發生。于此同時，表面增強熒光 技術由于其獨特的電子迀移特性，可以很好的避免熒光染料分子的自猝滅效應。表面增強 熒光還具有選擇性增強的特點，這避免了噪聲和背景的干擾，能夠實現技術層面的可探測 性，和可分辨性，更有助于細胞固有熒光探測的研究。

【發明內容】

[0005] 技術問題：針對上述技術存在的問題和不足，本發明的目的是提供一種具有表面 增強熒光效果、結構簡單、成本低廉的基底的制備方法，能使染色細胞在此方法制備的基底 上的熒光強度得到提高，增大分辨率。
[0006] 技術方案：為實現上述目的，本發明的一種具有熒光增強效果的基底的制備方法 采用的技術方案如下：
[0007] 1)氧化鋁去氧化，獲得有微納米結構的鋁作為基底的模板；
[0008] 2)使用熱蒸發的方式在基底的模板的整個表面蒸鍍一層金；
[0009] 3)將表面附有一層金的鋁模板放入真空管式爐中做熱處理，最終降溫后得到最終 的基底。
[0010] 所述的氧化鋁的原材料鋁和金的純度均為99. 99% ;使用的氧化鋁為二次或多次 氧化。
[0011] 所述的使用熱蒸發的方式在基底的模板的整個表面蒸鍍一層金，或使用磁控濺射 的方式來替代，金的厚度為5-15nm。
[0012] 所述的熱處理的溫度為350-450°C。
[0013] 有益效果：使用有微納米結構的鋁作為基底，結構明顯，制備方便，可重復性及穩 定性高；能使染色細胞在此方法制備的基底上的熒光強度得到提高，增大分辨率。
[0014] 使用金的LSPR特性，增強染料分子的熒光特性；
[0015] 復合結構制備方便，可重復利用，在空氣中可以長時間的穩定保存。
【具體實施方式】
[0016] a.使用二次氧化的方法制備具有結構的鋁基底模板
[0017] 首先將厚度為0.5mm的鋁片（3cm*3cm，純度為99. 99%)，先放在超純水中，再放入 乙醇中超聲清洗，去除表面油污。再將其放入拋光液中進行拋光，去除表面氧化層。拋光液 為乙醇與高氯酸的混合溶液，比例為4:1~5:1，并放置在冰箱中低溫保存。
[0018] 將拋光后的鋁片使用超純水清洗后放入訂制的器皿中進行氧化處理，氧化使用的 方法為陽極氧化的方式。其中，鋁片作為陽極，惰性的鉬片作為陰極，使用的溶液為0. 5M的 草酸溶液，反應的溫度為4°C，反應時間為2h。
[0019] 氧化完成后，將制備得到的樣品放入去氧化劑中進行去氧化處理。其中去氧化劑 的組成為，1. 8%的鉻酸溶液和6%的磷酸溶液，其體積比為1: 1。將去氧化的反應裝置放置 在75°C的恒溫水浴中反應2h，得到去氧化后的樣品。
[0020] 重復氧化與區氧化的步驟，最終得到的具有微納米結構的鋁作為基底的模板的鋁 片，作為最終的基底的模板。
[0021] b.使用熱蒸發的方式在具有微納米結構的鋁基底表面鍍一層金
[0022] 將獲得的具有微納米結構的鋁基底作為模板，使用熱蒸發的方式在結構表面蒸鍍 一層金。其中真空度要求為小于4el0 4Pa，其中蒸鍍使用的金為高純金顆粒（購買自中諾 新材，純度為99. 999% )，蒸鍍的溫度為室溫，蒸鍍速率小于0. M/s,厚度為5-10nm。
[0023] c.對具有金的鋁模板進行熱處理，得到最終的基底
[0024] 將上述步驟獲得的表面具有金的樣品基底放置在真空管式爐中進行熱處理。熱處 理的方式為，30min升溫至350-450°C，在此溫度下保持2h，直接打開，并冷卻至室溫。熱處 理得到的樣品為所需具有熒光增強效果的基底。
【主權項】
1. 一種具有熒光增強效果的基底的制備方法，其特征在于該方法包括以下步驟： 1) 氧化鋁去氧化，獲得有微納米結構的鋁作為基底的模板； 2) 使用熱蒸發的方式在基底的模板的整個表面蒸鍍一層金； 3) 將表面附有一層金的鋁模板放入真空管式爐中做熱處理，最終降溫后得到最終的基 底。2. 根據權利要求1所述的一種具有熒光增強效果的基底的制備方法，其特征在于所述 的氧化鋁的原材料鋁和金的純度均為99. 99% ;使用的氧化鋁為二次或多次氧化。3. 根據權利要求1所述的一種具有熒光增強效果的基底的制備方法，其特征在于所 述的使用熱蒸發的方式在基底的模板的整個表面蒸鍍一層金，或使用磁控濺射的方式來替 代，金的厚度為5-15nm〇4. 根據權利要求1所述的一種具有熒光增強效果的基底的制備方法，其特征在于所述 的熱處理的溫度為350-450°C。
【專利摘要】本發明是一種具有熒光增強效果的基底的制備方法，該方法包括以下步驟：1)氧化鋁去氧化，獲得有微納米結構的鋁作為基底的模板；2)使用熱蒸發的方式在基底的模板的整個表面蒸鍍一層金；3)將表面附有一層金的鋁模板放入真空管式爐中做熱處理，最終降溫后得到最終的基底。使用有微納米結構的鋁作為基底，結構明顯，制備方便，可重復性及穩定性高；能使染色細胞在此方法制備的基底上的熒光強度得到提高，增大分辨率。
【IPC分類】G01N21/64
【公開號】CN105203511
【申請號】CN201510583693
【發明人】杜的洋, 邱騰
【申請人】東南大學
【公開日】2015年12月30日
【申請日】2015年9月14日