專利名稱：沉降—分析天平的制作方法
技術領域：
本實用新型是一種天平，特別適用于以沉降重量法測定粉體粒度及其分布，同時具有光學分析天平的功能。
現有的沉降天平，如Gallenkamp沉降天平、Shimaelzu沉降天平等，都是用電磁起動，自動加碼平衡顆粒沉降的原理，每次加碼的間隔量不變，造成在細粒級部分誤差較大，分散相顆粒濃度大(1～5％)，操作復雜，易出故障。這些沉降天平僅適合測定100μm以下顆粒范圍和實驗室研究之用，不適合工業常規例行測試工作。對大于100μm以上的多分散體都用篩析法。而篩析法存在篩孔尺寸易變，測定精度低，勞動強度大，耗電耗試樣多，靜電粘附，技術不安全因素及粉塵損害操作人員身體健康等多種弊端，使其使用受到很大限制。目前有相當一部分工業粉體粒度上限在500微米以上，現有的沉降天平和篩析法都無法精確測定。
本實用新型的目的是提供一種沉降天平，能測定5～1200μm粉體粒度大小及其分布情況，并具有光學分析天平的功能。
本實用新型是采取以下措施達到上述目的的在雙盤光學分析天平的外殼上，于加碼架的下面增設了一個與原加碼架平行的加碼架及其控制的圈碼；在其橫梁A端的阻尼盒下面，設置了一個由沉降筒和置于沉降筒內的沉降盤組成的沉降承受器，沉降盤掛在與橫梁A端相連的掛鉤上。取下沉降承受器，換上稱樣盤，就成為一臺雙盤光學分析天平。
本實用新型具有結構簡單，操作方便，節電省試樣，測量范圍廣，精確度高，相對誤差小于±1.5％，適于工業常規和科研中測試粉體粒度大小及其分布情況。又可作為光學分析天平用。
以下結合附圖對本實用新型作進一步說明。


圖1是本實用新型的結構示意圖；圖2是圖1的C－C視圖；圖3是主凸輪組的5片凸輪圖；圖4是副凸輪組的3片凸輪圖。
參照圖1，在雙盤光學分析天平的外殼13上，位于原加碼架5的下面，增設了一個與加碼架5平行的加碼架4及其控制的圈碼3。雙盤光學分析天平的橫梁7兩端分別以A和B表示。橫梁7的B端為加圈碼端，在A端阻尼盒9的下面設置了一個沉降承受器，它是由透明或半透明的沉降筒2和置于其內的沉降盤1構成。沉降筒2是耐油性聚酯制成，沉降盤1是由黃銅桿的一頭固定在黃銅盤中心而成。黃銅桿的另一頭可通過尼龍線與橫梁7A端相連的掛鉤相連接。沉降承受器設置在外殼13外面，即阻尼盒9正下方的底板上有一個孔，由尼龍線通過該孔上下連接。沉降承受器也可以設置在外殼13內，這可根據需要而定。在橫梁7A端阻尼盒9下面可以設置一個配重體10，使其作為當沉降天平使用時起平衡作用。在支柱8上可以設置一個指針11的限擺器12，用作限制指針11的擺動范圍。
參照圖2、圖3，加碼架4是由5片齒緣齒谷所占相位相異的凸輪20、21、22、23、24構成的一組主凸輪組16。與主凸輪組16同軸的外定軸齒輪14是12個齒。主凸輪組16和外定軸齒輪14固定在外定軸15上。外定軸齒輪14將主凸輪組16分成12個檔次(相位)，這12個檔次又分為第一段是1～5檔，每檔加圈碼200mg；第二段是6～11檔，每檔加圈碼100mg；第12檔為0檔。而第三段10mg級的圈碼由加碼架5控制圈碼6完成。現將主凸輪組16調碼數值及程序列表如下
注“＋”——加入該圈碼；“－”——未加該圈碼。
參照圖2、圖3、圖4，加碼架4也可以由主凸輪組16和副凸輪組18組成。主凸輪組16和外定軸齒輪14如前段所述。副凸輪組18是由3片齒緣和齒谷所占相位相異的凸輪25、26、27構成。與副凸輪組18同軸的內定軸齒輪19是6個齒。副凸輪組18和內定軸齒輪19固定在內定軸17上。內定軸齒輪19將副凸輪組18分成6個檔次(相位)，第6檔為0檔，1～5檔為第三段，是試加圈碼段，承擔調動10mg級的圈碼。即先試加80mg圈碼，如沉降時間過長，可改為50mg、或30mg、或20mg、或10mg。現將副凸輪組18調碼數值及程序列表如下
注“＋”——加入該圈碼；“－”——未加該圈碼。
測試操作過程簡述放正沉降承受器，向沉降筒2內注入沉降介質，掛上沉降盤1，使沉降天平的指針11達到零點平衡，然后關閉天平，預加200mg圈碼3。測試工作開始前，將5克試樣加入沉降筒2內，用沉降盤1攪動到均勻。立即掛上沉降盤1，并同時打開天平和開動記時表，顆粒沉降量剛好平衡200mg圈碼，即指針11指到零點時，記下時間，再加第二次圈碼3，重復前面操作，直到測試完。根據每次累計的加碼值和測試時間作出曲線圖，并進行數據處理，就可確定粉體粒度的大小及其分布情況。這樣一臺沉降天平，每人每天可測試12～18個試樣。
權利要求1.一種沉降-分析天平，包括外殼[13]、支柱[8]、橫梁[7]、指針[11]、圈碼[6]、加碼架[5]、砝碼盤、阻尼盒[9]，本實用新型的特征在于所述外殼[13]上，增設了一個與加碼架[5]平行的加碼架[4]及其圈碼[3]；在所述橫梁[7]A端的阻尼盒[9]下面，設置了一個由沉降筒[2]和置于其內的沉降盤[1]組成的沉降承受器，沉降盤[1]掛在與橫梁[7]A端相連的掛鉤上。
2.根據權利要求1所述的沉降——分析天平，其特征在于所述加碼架〔4〕是由5片凸輪〔20、21、22、23、24〕構成一組主凸輪組〔16〕，與其同軸的外定軸齒輪〔14〕是12個齒。
3.根據權利要求1所述的沉降——分析天平，其特征在于所述加碼架〔4〕的主凸輪組〔16〕是由5片凸輪〔20、21、22、23、24〕構成，與其同軸的外定軸齒輪〔14〕是12個齒，副凸輪組〔18〕是由3片凸輪〔25、26、27〕構成，與其同軸的內定軸齒輪〔19〕是6個齒。
4.根據權利要求1或2或3所述的沉降——分析天平，其特征在于所述橫梁〔7〕A端的阻尼盒〔9〕下面，可以設置一個配重體〔10〕。
5.根據權利要求1或2或3所述的沉降——分析天平，其特征在于所述支柱〔8〕上可以設置一個指針〔11〕的限擺器〔12〕。
6.根據權利要求4所述的沉降——分析天平，其特征在于所述支柱〔8〕上可以設置一個指針〔11〕的限擺器〔12〕。
7.根據權利要求6所述的沉降——分析天平，其特征在于所述沉降承受器也可以設置在外殼〔13〕內。
8.根據權利要求4所述的沉降——分析天平，其特征在于所述沉降承受器也可以設置在外殼〔13〕內。
9.根據權利要求5所述的沉降——分析天平，其特征在于所述沉降承受器也可以設置在外殼〔13〕內。
專利摘要一種沉降—分析天平，是在光學分析天平加碼架下方增一個與其并立的沉降加碼架，并在橫梁左端下方設置一個由沉降筒和沉降盤構成的沉降承受器而成。該天平不但具有測試粉體顆粒大小及其分布狀況的作用，還具有光學分析天平的功能。這種天平結構簡單，精確度高，操作方便，每人每天可測試12～18個試樣，省電省試樣，安全可靠，無粉塵污染，適用于工業常規測試5～1200μm粒度粉體和科學研究。
文檔編號G01G1/00GK2160105SQ9320661
公開日1994年3月30日 申請日期1993年3月16日 優先權日1993年3月16日
發明者連嗣南 申請人:連嗣南