專利名稱：測量玻璃基板厚度的設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種厚度測量設備，其能夠精確測量例如通過化學拋光處理的薄玻璃基板厚度，同時傳送該玻璃基板。
背景技術：
“平板顯示器”(以下簡稱為“FPD”)是用來與帶有臃腫外形如CRT顯示器的Braun管的顯示裝置相對照的術語，其特點是厚度小并節省空間，以及顯示板厚度小。FPD已作為液晶顯示器、等離子顯示器、有機EL顯示器投入實際使用。在FPD中，特別是液晶顯示器已不僅廣泛用作為TV電視機，而且用于便攜式電話和計算機裝置的顯示裝置。
近年來，為了滿足開發重量輕厚度薄的液晶顯示器的需要，趨向于采用一種化學拋光技術，盡可能拋光構成液晶顯示器的疊層玻璃基板。更具體來說，其上形成多個顯示板區域PN到PN的第一和第二玻璃基板60，60被粘合在一起形成疊層玻璃基板GL。然后疊層玻璃基板GL浸入含有氟化酸的水溶液，同時疊層玻璃基板GL的周邊62被嚴密地密封，從而進行化學拋光以減少厚度(參見圖9)。根據這種化學拋光技術，其優點是不僅能夠同時生產多個顯示板PN到PN，而且可獲得很好的生產率，因為與機械拋光所達到的相比增加了處理速度。此外，由于能夠把疊層玻璃基板GL做得盡可能的薄，還滿足了對顯示板PN降低厚度和降低重量的要求。
然后通過這樣化學拋光變薄的疊層玻璃基板，在多個檢測點分別受到厚度測量，檢測厚度的變化是否落在預定的范圍內。在這一厚度檢測中，使用了一種激光傳感器，并通過抽取第一玻璃基板的反射波R1和第二玻璃基板中的反射波R2確定厚度(參見圖10)。
隨著疊層玻璃基板不斷變薄，測量厚度就變得很困難。換言之，由于玻璃基板很小，兩個反射波R1和R2的路徑之間差別很小，使得難以分別抽取他們。特別地，在用于液晶顯示器的疊層玻璃基板中，由于存在來自于第一和第二玻璃基板之間密封的基板的散射波Rn，精確測量厚度幾乎是不可能的。
為了進一步改進顯示板的生產率，希望測量傳送路徑中運動的玻璃基板的厚度。然而，運動的玻璃基板的玻璃表面在傳送路徑上有輕微的波動，這使得傳統的設備不能提供精確的測量。
本發明是鑒于上述問題而設計的，且本發明的目的在于提供一種厚度測量設備，其能夠精確測量厚度小的玻璃基板的厚度。本發明還有一個目的是提供一種厚度測量設備，其能夠精確測量運動著的玻璃基板的厚度。

發明內容
為了實現以上目的，通過接收已經過薄化處理的玻璃基板并在多個位置測量該玻璃基板的厚度，本發明提供了一種測量用于平板顯示器的玻璃基板厚度的設備。該設備的特點在于，在玻璃基板前和后表面側有多組傳感器與傳送玻璃基板的傳送路徑垂直排布；第一裝置，其基于來自傳感器的輸出信號計算每一傳感器和玻璃基板表面之間的間隙；以及第二裝置，其基于在第一裝置中計算的值和事先確定的一對傳感器的間隙，計算被傳送的玻璃基板的厚度。
本發明中，傳感器優選地是一種位移傳感器，該傳感器以預定的時間間隔發射波，同時接收反射波。優選地使用在玻璃基板外表面反射的反射波。
本發明優選地還包括一個PLC，用于獲取由第二裝置計算的厚度值，和/或通過傳感器，該傳感器不斷監視傳送路徑，并當其抓取到一個玻璃基板時輸出“開”信號。作為玻璃基板，通過粘合兩個玻璃基板形成的疊層玻璃基板能夠有利地被無限制使用。其優點在于，傳感器具有發射激光束的發射部件，以及接收來自玻璃基板的反射波的光接收部件，且光接收部件包括CCD。
根據以上的發明，能夠實現一種厚度測量設備，即使玻璃基板薄化時也能夠以高精確度測量這種玻璃基板的厚度。此外，即使玻璃基板在傳送時也能夠以高精確度測量這種玻璃基板的厚度。


圖1是表示裝有厚度測量設備的后處理設備的總體構成的視圖；圖2是表示厚度測量設備的電路配置的框圖；圖3是表示傳感器頭的排布位置的視圖；圖4是表示測量操作的視圖；圖5是表示厚度測量設備中各部件的操作的時序圖；圖6是表示引入單元的一部分的透視圖；圖7是表示引入單元的其它部分的透視圖；圖8是表示另一厚度測量設備的電路配置的方框圖；圖9是表示疊層玻璃基板的總體結構的視圖；以及圖10是表示傳統技術的問題的視圖。
具體實施例方式
現在將參照優選實施例詳細說明本發明。圖1是表示裝有實施本發明的厚度測量設備40的后處理設備EQU的框圖。在圖1中，圖示出平面圖(a)，前視圖(b)，和左側立式圖(c)。在這一后處理設備EQU中，通過化學拋光處理變薄的玻璃基板按順序受到洗滌處理、干燥處理和厚度測量處理。
在本實施例中，用于液晶顯示器的疊層玻璃基板GL沒有限制地假設為玻璃基板GL(參見圖9)，其中顯示器中液晶封閉區61裝設在兩個玻璃基板60，60之間。化學拋光處理，例如但非限制地通過把疊層玻璃基板GL浸入基于氟化酸的拋光溶液進行，其周邊62以抗酸密封劑密封，這樣基板均勻地變薄。
圖1所示的后處理設備EQU包括引入單元1，該單元接收已受到拋光處理的疊層玻璃基板GL，洗滌單元2，該單元用水洗滌接收的疊層玻璃基板GL的頂和底表面，使用空氣刀AK的瀝干單元3，測量干燥的疊層玻璃基板GL的厚度的測量單元4，以及該單元移除已經完成測量處理的疊層玻璃基板GL的彈出單元5。測量單元4裝有厚度測量設備40。
在后處理設備EQU中，多個旋轉輥子RL到RL裝在從引入單元1到彈出單元5的同一平面中。在這些旋轉輥子RL上水平傳送疊層玻璃基板GL的過程中，自動進行拋光溶液沖洗處理、干燥處理和厚度測量處理。引入單元1和彈出單元5有基本上相同的配置，但以完全相反的方式操作。
圖2是表示構成測量單元4的厚度測量設備40的框圖。厚度測量設備40包括激光位移量規41，用于對于疊層玻璃基板GL的前或后表面測量間隙D，通過傳感器部件42，用于監視疊層玻璃基板GL的通過；PLC(可編程邏輯控制器)43，用于從激光位移量規41和通過傳感器部件42接收數據；在設備的初始設置及其它操作中使用的觸摸板44；以及PC(個人計算機)45，用于存儲包括疊層玻璃基板GL的厚度T的控制數據。
PLC 43包括輸入端口43a，用于從通過傳感器部件42接收“開”/“關”(ON/OFF)信號；AN轉換器43b，用于從激光位移量規41接收厚度信號T；以太網控制器43c，用于往/來于PC 45發送/接收數據；串行輸入/輸出端口43d，用于往/來于觸摸板44發送/接收數據；以及CPU單元43e，用于控制后處理部件的操作。以太網是一注冊商標。
當激光位移量規41從傳感器頭Si獲得一個有意義的檢測信號時，其執行一個預定的算法處理，并把該處理結果以厚度模擬信號T的形式連續地傳送到PLC 43。另一方面，當PLC 43基于來自通過傳感器部件42的“開”信號識別出玻璃基板GL已到達測量單元4時，PLC 43執行以下描述的測量操作。
首先，PLC 43通過AD轉換器43b把從激光位移量規41接收的厚度模擬信號T轉換為數字，并向所得的厚度數據添加時間信息(年-月-日和時-分-秒)，并在內部寄存器順序地存儲這些數據。當在完成預定數目的厚度數據的獲取之后從通過傳感器部件42收到“關”信號時，PLC 43把就緒標記切換為“開”狀態并完成當前的測量操作。
另一方面，PC 45通過標記感測處理捕獲就緒標記的“開”狀態，并從PLC 43通過以太網電纜收集包括厚度數據的控制數據。然后PC45基于該控制數據執行紙頁顯示或圖形顯示。在收集的厚度數據值T超過上限或下限的非正常情形下，出現警告顯示。由于PLC 43對于一個疊層玻璃基板GL采樣80次，因而每一玻璃基板GL獲取3×80＝240組厚度數據。
為了通過PLC 43實現以上操作，通過傳感器部件42包括兩個光電傳感器SN，和用來放大每一光電傳感器SN的輸出的前置放大器AMP。光電傳感器SN包括發光部件和光接收部件。在本實施例中，光電傳感器SN確定來自發光部件的檢查光是否被疊層玻璃基板GL反射并到達光接收部件。這兩個光電傳感器SN例如配置在與激光位移量規41靠近的上游。因而，當疊層玻璃基板GL到達測量單元4時，通過傳感器部件42輸出“開”信號，并當疊層玻璃基板GL結束通過測量單元4時輸出“關”信號。
激光位移量規41包括傳感器頭Si，其具有發射部件TR和光接收部件RV；傳感器控制器CT1到CT3，它們使發射部件TR按預定的周期操作并接收來自光接收部件RV的模擬信號；以及模擬控制器ANC1到ANC3，它們基于從傳感器控制器CTi接收的時間差信號τij計算疊層玻璃基板GL的厚度。
在這一厚度測量設備40中，使用按圖3(b)所示方式排布的六個傳感器頭Si。激光束從每一傳感器頭Si的發射部件TR向疊層玻璃基板GL發射。在這一結構中，來自疊層玻璃基板GL的反射波通過由CCD(電荷耦合裝置)形成的接收部件RV接收。
發射部件TR的配置使其對于在水平面上運動的疊層玻璃基板GL以相對于垂直線成θ的角度發射激光束(參見圖4(c))。因而，相對于激光束向外行進距離L，從激光束的發射點P到玻璃基板GL的垂直距離為D＝L×COS(θ)。這里，向外行進距離L基于發射點P和接收點Q之間的間隙δ，及激光束的行進時間τ由L＝(τxv+δ)定義。因而，到玻璃基板GL的垂直距離D通過D＝(τxv+δ)/2×COS(θ)計算。注意，δ是沿接收波測量的相對距離，而v是光速。
圖3的視圖表示上述功能的六個傳感器頭Si的排布狀態，其中圖示出平面圖(a)、前視圖(b)和沿箭頭A-A的視圖(c)。如圖中所示，右和左垂直板46R，46L以及橋接在垂直板46之間的上和下保持軌道47U，47D形成了矩形框架FM，且矩形框架FM環繞玻璃基板GL的傳送路徑。具體來說，保持軌道47U橋接在玻璃基板GL上方，而保持軌道47D橋接在玻璃基板GL下方。
傳感器頭S1u到S3u通過連接部件48連接到上保持軌道47。傳感器頭S1d到S3d通過連接部件48連接到下保持軌道47。上和下傳感器頭Siu和Sid在垂直方向相對于在其間水平傳送的疊層玻璃基板GL對稱布置，且上和下傳感器頭Siu，Sid的發射部件TR，TR之間的垂直距離，被精確地控制在預定值D0(參見圖4(a))。對于每一疊層玻璃基板GL的檢測線LN1-LN3由各對上和下傳感器頭Siu和Sid定義。如圖3(d)所示，沿檢測線LN1-LN3在左、右和中心位置測量疊層玻璃基板GL的厚度T。
按圖3所示方式排布的每一對上和下傳感器頭Siu和Sid連接到傳感器控制器CTi(參見圖2)。傳感器控制器CT1-CT3以預定的周期驅動六個傳感器頭Si的發射部件TR，并從光接收部件RV接收傳感器信號。在圖4(d)和4(e)中，根據該原理示出一個理想的發射波和光接收波。如圖4(b)所示，從疊層玻璃基板GL，獲得在第一玻璃基板60a前表面處反射的波RF1、在第一玻璃基板60a后表面處反射的波RF2、來自液晶封閉區61的不規則反射波RF3，在第二玻璃基板60b前表面處反射的反射波RF4、在第二玻璃基板60b后表面處反射的反射波RF5等。
在傳感器控制器CTi(＝CT1-CT3)，在從上和下傳感器頭Siu和Sid接收的反射波RF1-RF4之中，正比于初始接收的被反射的前反射波RF1與發射波之間的時間差τ的模擬時間差信號τij(i＝1到3，j＝1到2)，輸出到模擬控制器ANCi。如上所述，由于傳感器頭Si與玻璃基板GL之間的垂直距離D由D＝(τxv+δ)/2×COS(θ)定義，基于從傳感器控制器CTi輸出的時間差信號τij確定垂直距離D。
然后模擬控制器ANCi(ANC1-ANC3)基于從傳感器控制器接收的時間差信號τij，計算從發射部件TR到玻璃基板的間隙D1，D2。例如，相對于第一檢測線LN1，從上傳感器頭S1u的發射部件到疊層玻璃基板GL的頂面的垂直距離D1通過D1＝(τ11xv+δ1)/2×COS(θ)計算，而從下傳感器頭S1d的發射部件到疊層玻璃基板GL的底面的垂直距離D2通過D2＝(τ12xv+δ2)/2×COS(θ)計算。這里τ11和τ12每一個表示發射波的發射定時與前反射波RF1的光接收定時之間的時間差，δ1和δ2每一個表示發射點P和接收點Q之間沿接收波計算的相對距離，它們分別是對于上和下傳感器頭Siu和Sid的值。
然后，模擬控制器ANCi基于計算的間隙D1，D2確定疊層玻璃基板GL的厚度T。更具體來說，基于上和下發射部件TR，TR的垂直間隙D0，通過T＝D0-D1-D2計算疊層玻璃基板GL的厚度T(參見附圖4(a))。然后確定的厚度T以模擬信號的形式輸出。
這樣，根據本實施例，通過在多個反射波RF1-RF4之中僅使用表面反射波RF1確定各發射部件TR與玻璃基板之間的間隙D1，D2，并通過D0-D1-D2的計算確定玻璃基板的厚度T。因而，只要通過改進上和下發射部件TR，TR的垂直間隙D0的機械精確性，不論由旋轉輥子RL形成的傳送路徑的機械精確性是否良好，就能夠精確地測量疊層玻璃基板GL的厚度T。
圖5提供的時序圖表示由模擬控制器ANCi從傳感器控制器CTj接收的時間差信號τij，以及由模擬控制器ANCi輸出到PLC 43的厚度模擬信號T。如前所述，(a)時間差信號τij正比于激光束的發射波與來自玻璃基板的表面反射波RF1之間的時間差，以及(b)因此，時間差信號τij定義了激光發射部件TR及玻璃基板前和后表面之間的距離D1，D2。
從圖5可看到的時間差信號τij的波動變化(實質上是間隙D1，D2)可歸因于與旋轉輥子RL的旋轉一同被傳送的疊層玻璃基板GL。即使疊層玻璃基板GL以某種波動方式被傳送，相對于疊層玻璃基板GL的前表面的間隙D1和相對于后表面的間隙D2以相反的方向位移，(參見圖5(a)，(b))，始終通過D0-(D1+D2)的計算高精確度計算疊層玻璃基板GL的厚度T(參見圖5(c))。
在本實施例中，傳感器控制器CTi和PLC 43受到各模擬控制器ANCi的干預，且激光束的發射和接收之間的時間差τij，和疊層玻璃基板GL的厚度T以模擬信號的形式傳送。這有助于實現快速傳送處理，以改進被處理信號的分辨率，并改進所計算的厚度T的精確度。
并不限于圖2所示的電路配置，基于從傳感器頭Si接收到的傳感器信號計算厚度的控制器CTL1-CTL3可按圖8所示提供。計算出的厚度T不必以模擬信號的形式提供給PLC 43，但優選地以數字數據的形式提供給PLC 43輸入端口IN1-IN3。PLC43不是必須的，且PC 45可起PLC 43的作用。
以下將說明構成后處理設備EQU的其它部件。圖6和圖7是透視圖，表示引入單元1(彈出單元5)的結構，其中示出用于保持疊層玻璃基板GL的安放單元10，及用于使安放部件10擺動的驅動部件20。安放部件10和驅動部件20通過一個驅動部件20的輸出軸21連接，使得安放部件10響應驅動部件20的往復活塞的運動，在處于水平面的降下狀態(參見圖6)與以大約60到80度起立的起立狀態之間進行切換。
現將參照圖6進一步說明安放部件10。所示的安放部件10的構成主要是一對梳狀轉動臂11，11、固定到轉動臂11近端的固定塊12，12、以及用于支撐疊層玻璃基板GL的多個支撐板13到13。
這些部件11到13例如由鋁合金形成，且轉動臂11和固定塊12通過鋁焊接或其它方式結合。轉動臂11和固定塊13設有用于容納輸出軸21的通孔。通孔具有鍵槽KY，且輸出軸21的鍵適配到鍵槽KY，以保證輸出軸21的旋轉可靠地傳遞到轉動臂11，11(參見圖6(b))。
如圖6(b)所示，轉動臂11由整體L形的主體BDY，和從主體BDY突出的梳狀齒CMB結合形成。梳狀齒CMB的排列節距與旋轉輥子RL的排列節距相同，但梳狀齒CMB與旋轉輥子RL彼此錯開它們的半個節距。結果是，在轉動臂11的降下狀態(圖6)，每一梳狀齒CMB來到相鄰的旋轉輥子RL，RL之間。這些梳狀齒CMB只裝有一個缺口部分SP，通過該缺口操作者可接近疊層玻璃基板GL的后表面，并可靠地握持疊層玻璃基板GL。當轉動臂11處于最降下狀態時，已由轉動臂11保持在其上的疊層玻璃基板GL由旋轉輥子RL保持(參見圖6(b))。
如圖6(b)所示，每一梳狀齒CMB具有一個U突出形狀的遠端，或換言之，每一梳狀齒CMB在其遠端形成有對應于支撐板13厚度的凹口14。阻擋板15固定到轉動臂11的遠端，其狀態是支撐板13的兩端都適配到凹口14中，并通過這一阻擋板15，支撐板13靜態固定到轉動臂11。
支撐板13具體分為具有不同垂直寬度的兩個支撐板13A，13B。它們之中，配置在轉動臂11最近端側的支撐板13A的寬度大于另一支撐板13B的寬度。在支撐板13A與疊層玻璃基板GL周邊的接觸面中，粘有一個襯墊部件16，用來保護疊層玻璃基板GL。
另一方面，對于其它支撐板13B，多個O形環17纏繞在每一板的周圍，以防護支撐板13B上疊層玻璃基板GL的后表面。如上所述，在圖6所示的安放部件10的降下狀態，疊層玻璃基板GL從與O形環17接觸的狀態釋放，并被帶入與旋轉輥子RL接觸。圖7的透視圖表示驅動部件20的具體結構示例。驅動部件20包括保持部分22A，22B，用于以可旋轉的方式承載輸出軸21的兩端，固定到從保持部分22A之一突出的輸出軸21的連接臂23，以及用來允許連接臂23擺動的驅動源24。
驅動源24包括以擺動方式配置的缸體25，和在圖中未示出的控制裝置的控制下往復運動的活塞25。在活塞26的遠端，形成呈輻射狀延伸的圓柱狀的通孔，以及通過該圓柱孔的貫通針27固定到連接臂23。貫通針27松散地配合到活塞26的圓柱孔中，且其結果是，連接臂23和活塞26相連接，使得它們能夠彼此相對旋轉。缸體25的遠端由支撐軸28承載，使得允許驅動源24作為整體擺動。
由于連接臂23和驅動源24按上述方式連接，在活塞26被拖入缸體25的第一狀態(參見圖1(a))，安放部件10下降到水平狀態。另一方面，在活塞26從缸體25伸出類似的模擬狀態下(參見圖1(b))，安放部件10從水平狀態上升到大約60到80度并起立。
考慮上述各點，將說明圖1所示后處理設備EQU的操作。當操作者對于控制裝置(未示出)形成適當的切換操作時，引入單元1的驅動部件20從第一狀態移動到第二狀態，其結果是，引入單元1的安放部件10從降下狀態上升到起立狀態。
這時，由于已受到化學拋光處理的疊層玻璃基板GL被傳送到引入單元1的位置，操作者握持疊層玻璃基板GL并將其放置到起立狀態的安放部件10上。在這一放置操作中，操作者在垂直方向的中點握持右和左邊緣。由于轉動臂11，11在梳狀齒中有缺口部分SP，能夠使用缺口部分SP把被握持的疊層玻璃基板GL輕輕放置到安放部件10上。在這一安放狀態，疊層玻璃基板GL的下周邊與支撐板13A的襯墊部件16鄰接，且疊層玻璃基板GL的背面與支撐板13B的O形環17鄰接。
之后，當操作者進一步形成切換操作時，引入單元1的驅動部件20緩慢地從第二狀態向第一狀態移動，且引入單元1的安放部件10從起立狀態返回到降下狀態。如上所述，在安放部件10的最降下狀態下，疊層玻璃基板GL的背面從與O形環17接觸釋放，并被帶入與旋轉輥子RL接觸。
因而，通過使旋轉輥子RL在安放部件10已到達最降下狀態的條件下旋轉，容納在引入單元1中的疊層玻璃基板GL饋送到水洗滌單元2。由于洗滌水在水洗滌單元2中運動的疊層玻璃基板GL的前和后表面流動，在化學拋光處理中附著到玻璃基板上的拋光溶液被清洗掉。
然后已經過洗滌單元2這種操作的疊層玻璃基板GL被饋送到瀝干單元3。在瀝干單元3，細線形式的高壓空氣有力地噴射到在圖1右方向中傳送的疊層玻璃基板GL，從而附著在疊層玻璃基板GL前和后表面的洗滌水被可靠地去除。然后，疊層玻璃基板GL的傳送也使疊層玻璃基板的前和后表面干燥。
這樣，疊層玻璃基板GL在其前和后表面被清潔的條件下通過測量單元4。測量單元4裝有厚度測量設備40，其中傳感器頭Siu，Sid配置在行進在傳送路徑的疊層玻璃基板GL的上方和下方(參見圖2)。然后厚度測量設備40，基于在疊層玻璃基板GL前和后表面反射的激光束，確定上或下傳感器頭Siu，Sid與疊層玻璃基板GL之間的距離D1，D2，并基于D0-D1-D2的計算結果計算疊層玻璃基板GL的厚度。對每一疊層玻璃基板GL獲取來自三個檢測線LN1-LN3總共240組的厚度數據，這些數據存儲在PC 45中。
然后，疊層玻璃基板GL移動到彈出單元并停止在那里。彈出單元5具有與圖6和7所示引入單元1相同的結構，并當疊層玻璃基板GL被饋送時，彈出單元5的固定部件10待命在降下狀態。
當操作者在疊層玻璃基板GL被引入固定部件10的條件下進行適當的切換操作時，固定部件10對此響應緩慢地開始上升，且由旋轉輥子RL保持在其上的疊層玻璃基板GL傳送到固定部件10的支撐板13B并被提升。在這一提升的過程中，玻璃基板GL傾向于在支撐板13B的O形環17上滑動，然而由于疊層玻璃基板GL的下側周邊由襯墊部件16容納，不必擔心疊層玻璃基板GL將會滑動及被損壞。
在固定部件10上升到限制位置后就停在那里，操作者通過轉動臂11的缺口部分SP在疊層玻璃基板GL的背后插入他/她的手，并然后握持疊層玻璃基板GL。然后操作者從彈出單元5移除握持的疊層玻璃基板GL。從被移除的疊層玻璃基板GL被化學拋光處理到一定的厚度，然后它被饋送到后繼的處理，諸如釋放疊層玻璃基板GL周邊的密封之后的液晶封裝過程。
如上所述，本實施例中，由于提供了具有特別配置的厚度測量設備40，其能夠在其傳送期間，精確測量已受到化學拋光處理的疊層玻璃基板GL的厚度。
雖然已使用特別的術語說明了本發明的優選實施例，這種說明只是為示例的目的，并應當理解，在不背離以下權利要求的精神或范圍之下可作出改變和變形。
權利要求
1.一種用于平板顯示器的玻璃基板的厚度測量設備，該設備接收已經過薄化處理的玻璃基板，并在多個位置測量玻璃基板的厚度，所述設備包括多組傳感器，它們垂直于玻璃基板被傳送的傳送路徑在玻璃基板的前和后表面側排布；第一裝置，其基于從傳感器輸出的信號計算每一傳感器與玻璃基板表面之間的間隙；以及第二裝置，其基于在第一裝置中計算的值和事先確定的一對傳感器的間隙，計算被傳送的玻璃基板的厚度。
2.根據權利要求1的厚度測量設備，其中傳感器是位移傳感器，其以預定的時間間隔發送發射波，同時接收反射波。
3.根據權利要求2的厚度測量設備，其中反射波是在玻璃基板的外表面反射的反射波。
4.根據權利要求3的厚度測量設備，還包括用于獲取由第二裝置計算的厚度值的PLC(可編程邏輯控制器)。
5.根據權利要求4的厚度測量設備，還包括通過傳感器，其連續不斷地監視傳送路徑，并當其抓取玻璃基板時輸出“開”信號。
6.根據權利要求1到5任意一個的厚度測量設備，其中玻璃基板通過粘合兩個玻璃基板形成。
7.根據權利要求1的厚度測量設備，其中傳感器具有發射激光束的發射部件，以及接收來自玻璃基板的反射波的光接收部件，且光接收部件包括CCD(電荷耦合裝置)。
全文摘要
本發明涉及一種厚度測量設備(40)，其接收已經過薄化處理用于平板顯示器的疊層玻璃基板(GL)，并在多個檢測線(LN1－LN3)測量玻璃基板的厚度。提供了三組位移傳感器(Si)，它們垂直于玻璃基板被傳送的傳送路徑在玻璃基板的前和后表面側排布；第一裝置，其基于從位移傳感器輸出的信號計算每一傳感器與玻璃基板(GL)表面之間的間隙(D1，D2)；以及第二裝置，其基于在第一裝置中計算的值和事先確定的一對傳感器的間隙(D0)，計算被傳送的玻璃基板的厚度(T)。根據本發明，能夠精確測量已薄化的玻璃基板厚度。
文檔編號G01B11/06GK101050946SQ20061012622
公開日2007年10月10日 申請日期2006年8月28日 優先權日2006年4月7日
發明者西山智弘 申請人:西山不銹化學股份有限公司