專利名稱:熒光余輝測量裝置的制作方法
技術領域:
本發明涉及一種熒光余輝測量裝置。
背景技術:
長余輝熒光材料,又稱夜光粉、蓄光粉、夜光指示牌等。它受到光照射時,部分照射光能量被吸收、貯存;當光照停止后。將逐漸釋放出光能。它廣泛應用于夜間警示標識,輪船和公共場所應急指示牌等。余輝亮度及余輝時間是長余輝熒光材料最重要的參數。目前對這些參數的測量沒有統一、可靠的方法。現有的方法是先將長余輝熒光材料在太陽光、日光燈或某一特定燈下照射一段時間后,在暗室里用亮度計測量該熒光材料的余輝亮度,不斷讀取每一時刻亮度計上的讀數值,得到余輝亮度隨時間的變化關系。所有這些方法中,樣品的激發和余輝亮度測量都是分開操作,使用麻煩,一致性差。
發明內容
本發明的目的旨在提供一種集曝光和測量于一體,使用方便的熒光余輝測量裝置。
本發明的熒光余輝測量裝置包括激發光源、控制樣品曝光的曝光控制裝置、用于曝光和測量的暗箱,在暗箱上安裝有樣品座,在暗箱內設有接收樣品余輝光信號的余輝探測器,余輝探測器的輸出端與測量儀表相連。
工作時,在曝光控制裝置的控制下,樣品受到激發光源輻照曝光,曝光結束,樣品將不斷釋放熒光即余輝,由余輝探測器接收余輝,并將余輝光信號轉換成電信號輸入測量儀表,在儀表顯示余輝亮度和余輝時間參數值。
本發明的熒光余輝測量裝置結構緊湊、簡單,它利用曝光控制裝置和連體的曝光、測量暗箱,將樣品的曝光和測量有機地結合在一起,測量數據準確、一致性好,使用方便。
圖1是本發明構成示意圖;圖2是本發明一種具體結構示意圖。
具體實施例方式
參照圖1,本發明的熒光余輝測量裝置包括激發光源1、用于曝光和測量的暗箱3,在暗箱3上安裝有樣品座6,暗箱內設有接收樣品余輝光信號的余輝探測器4,余輝探測器4與測量儀表5相連,在激發光路上設有曝光控制裝置2,用于控制照到樣品表面的激發光。樣品釋放的余輝由余輝探測器4接收,并將余輝光信號轉換成電信號輸給測量儀表5。激發光源1可以用汞燈、氙燈、熒光燈或金屬鹵化燈。曝光控制裝置可以是控制激發光源點亮或關閉的控制器,如繼電器,或者也可以是安裝在激發光源1與樣品座6之間的光閘。
圖2是本發明的具體實例,它包括安裝在光源箱內的激發光源1,用于曝光和測量的暗箱3,此例,暗箱3具有曝光箱3a和測量箱3b兩部分,該兩箱利用余輝光孔11相連通,在曝光箱3a安裝有樣品座6,在測量箱3b內設有余輝探測器4。圖例,樣品座6用彈簧托架14支撐,緊貼在曝光箱底部的測試口上。在樣品座上裝有控制樣品溫度的溫控元件15,如熱電致冷器或電熱絲。
為使激發光源發光穩定,通常,將采用的汞燈、氙燈、熒光燈或金屬鹵化燈的兩個電極垂直安裝,再利用設在暗箱內的光轉折鏡8將激發光折射到樣品座6上,光轉折鏡可以是平面反光鏡或折光棱鏡。圖示實例中,曝光控制裝置2是設在暗箱內能繞軸9轉動90°的用于控制激發光孔10和余輝光孔11打開或關閉的電動光閘,曝光時,光閘打開激發光孔10,它同時關閉余輝光孔11,測量余輝時,光閘關閉激發光孔10,它同時打開余輝光孔11。余輝從余輝光孔進入測量箱3b,由余輝探測器4將余輝光信號轉換成電信號輸給測量儀表5。余輝探測器4可用硅光電二極管或高靈敏光電倍增管。
為使照射到樣品座的光均勻,可如圖所示,在激發光源1至暗箱3的光路上設置光漫射板7,該光漫射板可以采用漫透射板或漫反射板。此例中,在暗箱內的激發光路上還安裝了用于控制照到樣品光強的激發照度監測裝置,它由部分反光鏡12和光電探測器13組成,部分反光鏡12可以采用半透/反射鏡,由其將部分激發光反射到光電探測器13,光電探測器將光信號轉換成電信號輸入到測量儀表5,在測量儀表顯示光強,以便據此調節激發光源的光強。測量儀表5以采用帶有串行接口的儀表為好,如可用帶RS-232C串行接口的PR-305型儀表,將它與計算機16相連,這樣利用計算機采集每一時刻熒光樣品的余輝信號,可得到余輝的亮度曲線。
權利要求
1.熒光余輝測量裝置,其特征是它包括激發光源[1]、控制樣品曝光的曝光控制裝置[2]、用于曝光和測量的暗箱[3],在暗箱上安裝有樣品座[6],在暗箱內設有接收樣品余輝光信號的余輝探測器[4],余輝探測器[4]的輸出端與測量儀表[5]相連。
2.按權利要求1所述的熒光余輝測量裝置,其特征是激發光源[1]是汞燈、氙燈、熒光燈或金屬鹵化燈。
3.按權利要求1所述的熒光余輝測量裝置,其特征是所說的汞燈、氙燈、熒光燈或金屬鹵化燈的兩個電極垂直安裝。
4.按權利要求1所述的熒光余輝測量裝置,其特征是曝光控制裝置[2]是控制激發光源點亮或關閉的控制器。
5.按權利要求1所述的熒光余輝測量裝置,其特征是曝光控制裝置[2]是安裝在激發光源[1]與樣品座[6]之間的光閘。
6.按權利要求5所述的熒光余輝測量裝置,其特征是所說的光閘是設在暗箱[3]內能繞軸[9]轉動90°的用于控制激發光孔[10]和余輝光孔[11]打開或關閉的電動光閘,在光閘打開激發光孔[10]的同時,光閘又關閉余輝光孔[11],在光閘關閉激發光孔[10]的同時,光閘又打開余輝光孔[11]。
7.按權利要求1所述的熒光余輝測量裝置,其特征是在激發光源[1]至暗箱[3]的光路上設置光漫射板[7]。
8.按權利要求1所述的熒光余輝測量裝置,其特征是在暗箱[3]內設有將激發光折射到樣品座[6]的光轉折鏡[8]。
9.按權利要求1所述的熒光余輝測量裝置,其特征是在暗箱[3]的激發光路上安裝有由部分反光鏡[12]和光電探測器[13]組成的激發照度監測裝置,光電探測器[13]的輸出端與測量儀表[5]相連。
10.按權利要求1所述的熒光余輝測量裝置,其特征是在樣品座[6]上裝有控制測試樣品溫度的溫控元件[15]。
全文摘要
本發明涉及一種熒光余輝測量裝置。它包括激發光源、控制樣品曝光的曝光控制裝置、用于曝光和測量的暗箱,在暗箱上安裝有樣品座,在暗箱內設有接收樣品余輝光信號的余輝探測器,余輝探測器的輸出端與測量儀表相連。工作時,在曝光控制裝置的控制下,樣品受到激發光源輻照曝光,曝光結束,樣品將不斷釋放熒光即余輝,由余輝探測器接收余輝,并將余輝光信號轉換成電信號輸入測量儀表,在儀表顯示余輝亮度和余輝時間參數值。本發明的熒光余輝測量裝置結構緊湊、簡單,它利用曝光控制裝置和連體的曝光、測量暗箱,將樣品的曝光和測量有機地結合在一起,測量數據準確、一致性好,使用方便。
文檔編號G01N21/64GK1428603SQ0113918
公開日2003年7月9日 申請日期2001年12月22日 優先權日2001年12月22日
發明者牟同升 申請人:浙江大學