一種在銅絲上電鍍純錫的鍍液配方及電鍍方法
【專利摘要】本發明公開了一種在銅絲上電鍍純錫的鍍液配方及電鍍方法，其中鍍液的pH值為1.0，它包含硫酸亞錫、添加劑氧化鉍、添加劑非離子型表面活性劑、穩定劑對苯二酚、光亮劑明膠、溶劑甲烷磺酸；電鍍方法：銅絲經堿洗除油、熱水洗、酸洗、冷水洗、干燥后做電鍍的陰極，鈦板做電鍍陽極；電流密度為2.5?4A/dm2，電鍍時間為10min，溫度為常溫。本發明鍍液組成簡單易控制，廢液環保易處理，電鍍工藝易于控制，鍍層均勻光滑結合力好。
【專利說明】
一種在銅絲上電鍍純錫的鍍液配方及電鍍方法
技術領域
[0001] 本發明屬于電鍍技術領域，特別涉及一種在銅絲上電鍍純錫的鍍液配方及電鍍方 法。
【背景技術】
[0002] 近年來，電子工業的高速發展使得人們對可焊性鍍層的要求越來越高。由于錫的 可焊性較好，而鉛的使用又受到限制，所以人們對鍍錫鍍層及鍍錫合金鍍層做了大量的研 究。
[0003] 目前鍍錫的工藝很多，分為兩大部分:堿性體系鍍錫和酸性體系鍍錫。堿性體系鍍 錫有很多缺點如：沉積速度較慢，陰極電流效率比較低，堿濃度過高時會導致析氫反應嚴 重，對錫陽極也有影響等等。酸性體系鍍錫一般有硫酸鹽體系鍍錫、氟硼酸體系鍍錫、甲基 磺酸體系鍍錫。酸性體系鍍錫大多也都考慮到了高的電流效率、鍍液的穩定性、鍍液具有的 均鍍能力和深鍍能力，鍍液對環境的污染，鍍液的周期、電鍍廢液的處理成本等等問題，而 要解決這些問題就會向鍍液中添加各種添加劑，而有的添加劑就會對鍍層的可焊性造成影 響。目前光伏產業中的一些焊接中需要用到具有良好可焊性鍍層的細銅絲，而現有工藝中 很少有在細銅絲上電鍍錫能達到鍍層均勻，表面光滑，結合力高且焊接性能良好的電鍍液 及工藝。
【發明內容】
[0004] 發明目的：本發明提供一種在銅絲上電鍍純錫的鍍液配方及電鍍方法，以解決現 有技術中細銅絲上電鍍錫的鍍液添加添加劑影響焊層可焊性，且電鍍鍍層不均勻，表面不 光滑的問題。
[0005] 技術方案:為實現上述目的，本發明采用的技術方案為： 一種在銅絲上電鍍純錫的鍍液配方，所述鍍液的pH為1.0,且每1L鍍液中含有以下成 分： 硫酸亞錫30-40g; 添加劑氧化鉍〇.5-2g; 添加劑非離子型表面活性劑〇. 5-2g; 穩定劑對苯二酸5-8g; 光亮劑明膠2-4g; 溶劑甲烷磺酸100-120mL; 其余為去離子水。
[0006] 所述添加劑非離子型表面活性劑為聚氧乙烯(E015)十二醇和0P乳化劑中的任意 一種或兩種以任意比的混合物。
[0007] -種在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，包括以下步驟， 步驟一、配制鍍液： a、 量取100-120mL的甲烷磺酸加入到去離子水中，攪拌； b、 稱取0.5-2g的氧化鉍，溶于步驟a所配溶液中，攪拌； c、 稱取5-8g的對苯二酚，溶于步驟b所配溶液中，攪拌； d、 稱取0.5-2g的非離子型表面活性劑，溶于步驟c所配溶液中，攪拌； e、 稱取30-40g的硫酸亞錫，溶于步驟d所配溶液中，攪拌； f、 稱取2-4g的明膠，溶于熱水中，使其充分溶解后再將其加入步驟e所配溶液中，攪拌， 最后用去離子水定容至1L; 步驟二、選取銅絲，選取直徑為0.25-0.30mm的銅絲，并依次經過堿洗、熱水洗，酸洗、冷 水洗清潔； 步驟三、將步驟二的銅絲排線作為陰極放入步驟一所配的鍍液中，陽極采用鈦板，在電 流密度為2.5-4A/dm2下電鍍，鍍液溫度為室溫 所述步驟一中的步驟f用于溶解明膠的熱水溫度為50-60°C。
[0008] 所述步驟二中，堿洗采用的堿洗液由55g/L的氫氧化鈉、16g/L的碳酸鈉、20g/L的 磷酸鈉組成，酸洗采用的酸洗液為8-10g/L的鹽酸溶液。
[0009] 所述熱水為溫度高于常溫的水，冷水為溫度低于常溫的水。
[0010] 所述步驟三的電鍍過程中，每4小時檢測一次鍍液中錫離子的濃度，通過補加硫酸 亞錫化合物來使鍍液中的硫酸亞錫濃度保持在30_40g/L。
[0011] 所述步驟三中電鍍過程中對鍍液進行攪拌，且攪拌速度為60-100r/min。
[0012]所述步驟三中電鍍采用的電鍍裝置為導線表面處理類裝置。
[0013] 有益效果:本發明提供的鍍液配方簡單、環保、穩定性好，電鍍工藝易于控制，電鍍 出的鍍層均勻、致密、結合力好，在焊接方面應用廣泛。在電鍍過程中鍍液不會產生氣泡，且 鍍液一直保持清澈。
【附圖說明】
[0014] 圖1是實施例1所得鍍層的電鏡掃描圖。
【具體實施方式】
[0015] 下面結合實施例對本發明作更進一步的說明。
[0016] 實施例1 表1
一種在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，所述鍍液的pH為1.0，且每1L鍍液中含有表1中成 分，按如下步驟配制1L鍍液并對銅絲電鍍： 步驟一、配制鍍液： a、量取100mL甲烷磺酸加入到去離子水中，攪拌； b、 稱取0.5g氧化鉍，溶于步驟a所配溶液中，攪拌； c、 稱取5g對苯二酚，溶于步驟b所配溶液中，攪拌； d、 稱取lg聚氧乙烯(E015)十二醇，溶于步驟c所配溶液中，攪拌； e、 稱取30g硫酸亞錫，溶于步驟d所配溶液中，攪拌； f、 稱取2g明膠，溶于50°C的熱水中，使其充分溶解后再將其加入步驟e所配溶液中，攪 拌，最后用去離子水定容至1L; 步驟二、選取銅絲，選取直徑為0.25mm的銅絲，并依次經過堿洗、熱水洗，酸洗、冷水洗 清潔;堿洗采用的堿洗液由55g/L的氫氧化鈉、16g/L的碳酸鈉、20g/L的磷酸鈉組成，酸洗采 用的酸洗液為8g/L的鹽酸溶液，熱水洗采用的熱水溫度為80°C，冷水洗采用的冷水為常溫 25°C的水。
[0017]步驟三、將步驟二的銅絲排線作為陰極放入步驟一所配的鍍液中，陽極采用鈦板， 在電流密度為2.6A/dm2下電鍍，鍍液溫度為室溫;每4小時檢測一次鍍液中錫離子的濃度， 通過補加硫酸亞錫化合物來使鍍液中的硫酸亞錫濃度保持在30g/L;電鍍過程中對鍍液進 行攪拌，且攪拌速度為60r/min;電鍍采用的電鍍裝置為導線表面處理類裝置，電鍍時間 10min〇
[0018] 銅絲表面形成約為20微米厚的鍍層。圖1為實施例1樣品的掃描電鏡圖片，通過圖 片可以看出鍍層無晶須，鍍層結晶較致密均勻。
[0019] 實施例2 表2
一種在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，所述鍍液的pH為1.0，且每1L鍍液中含有表2中成 分，按如下步驟配制1L鍍液并對銅絲電鍍： 步驟一、配制鍍液： a、 量取110mL甲烷磺酸加入到去離子水中，攪拌； b、 稱取1 g氧化鉍，溶于步驟a所配溶液中，攪拌； c、 稱取6g對苯二酚，溶于步驟b所配溶液中，攪拌； d、 稱取0.5g0P乳化劑，溶于步驟c所配溶液中，攪拌； e、 稱取35g硫酸亞錫，溶于步驟d所配溶液中，攪拌； f、 稱取3g明膠，溶于60°C的熱水中，使其充分溶解后再將其加入步驟e所配溶液中，攪 拌，最后用去離子水定容至1L; 步驟二、選取銅絲，選取直徑為0.3mm的銅絲，并依次經過堿洗、熱水洗，酸洗、冷水洗清 潔;堿洗采用的堿洗液由55g/L的氫氧化鈉、16g/L的碳酸鈉、20g/L的磷酸鈉組成，酸洗采用 的酸洗液為l〇g/L的鹽酸溶液，，酸洗采用的酸洗液為8g/L的鹽酸溶液，熱水洗采用的熱水 溫度為83°C，冷水洗采用的冷水為常溫25°C的水。
[0020] 步驟三、將步驟二的銅絲排線作為陰極放入步驟一所配的鍍液中，陽極采用鈦板， 在電流密度為3A/dm2下電鍍，鍍液溫度為室溫;每4小時檢測一次鍍液中錫離子的濃度，通 過補加硫酸亞錫化合物來使鍍液中的硫酸亞錫濃度保持在35g/L;電鍍過程中對鍍液進行 攪拌，且攪拌速度為80r/min;電鍍采用的電鍍裝置為導線表面處理類裝置，電鍍時間 lOmin。銅絲表面形成約為20微米厚的鍍層。
[0021] 實施例3 表3
一種在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，所述鍍液的pH為1.0，且每1L鍍液中含有表3中成 分，按如下步驟配制1L鍍液并對銅絲電鍍： 步驟一、配制鍍液： a、 量取120mL甲烷磺酸加入到去離子水中，攪拌； b、 稱取1.8g氧化鉍，溶于步驟a所配溶液中，攪拌； c、 稱取8g對苯二酚，溶于步驟b所配溶液中，攪拌； d、 稱取lg聚氧乙烯(E015)十二醇和lg 0P乳化劑，溶于步驟c所配溶液中，攪拌； e、 稱取40g硫酸亞錫，溶于步驟d所配溶液中，攪拌； f、 稱取4g明膠，溶于58°C的熱水中，使其充分溶解后再將其加入步驟e所配溶液中，攪 拌，最后用去離子水定容至1L; 步驟二、選取銅絲，選取直徑為0.25mm的銅絲，并依次經過堿洗、熱水洗，酸洗、冷水洗 清潔;堿洗采用的堿洗液由55g/L的氫氧化鈉、16g/L的碳酸鈉、20g/L的磷酸鈉組成，酸洗采 用的酸洗液為9g/L的鹽酸溶液，酸洗采用的酸洗液為8g/L的鹽酸溶液，熱水洗采用的熱水 溫度為77°C，冷水洗采用的冷水為常溫25°C的水。
[0022] 步驟三、將步驟二的銅絲排線作為陰極放入步驟一所配的鍍液中，陽極采用鈦板， 在電流密度為4A/dm2下電鍍，鍍液溫度為室溫;每4小時檢測一次鍍液中錫離子的濃度，通 過補加硫酸亞錫化合物來使鍍液中的硫酸亞錫濃度保持在40g/L;電鍍過程中對鍍液進行 攪拌，且攪拌速度為l〇〇r/min;電鍍采用的電鍍裝置為導線表面處理類裝置，電鍍時間 lOmin。銅絲表面形成約為25微米厚的鍍層。
[0023] 實施例4 表4
一種在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，所述鍍液的pH為1.0，且每1L鍍液中含有表4中成 分，按如下步驟配制1L鍍液并對銅絲電鍍： 步驟一、配制鍍液： a、 量取llOmL甲烷磺酸加入到去離子水中，攪拌； b、 稱取1.5g氧化鉍，溶于步驟a所配溶液中，攪拌； c、 稱取6g對苯二酚，溶于步驟b所配溶液中，攪拌； d、 稱取2g聚氧乙烯(E015)十二醇，溶于步驟c所配溶液中，攪拌； e、 稱取35g硫酸亞錫，溶于步驟d所配溶液中，攪拌； f、 稱取3g明膠，溶于53°C的熱水中，使其充分溶解后再將其加入步驟e所配溶液中，攪 拌，最后用去離子水定容至1L; 步驟二、選取銅絲，選取直徑為0.30mm的銅絲，并依次經過堿洗、熱水洗，酸洗、冷水洗 清潔;堿洗采用的堿洗液由55g/L的氫氧化鈉、16g/L的碳酸鈉、20g/L的磷酸鈉組成，酸洗采 用的酸洗液為8g/L的鹽酸溶液，酸洗采用的酸洗液為8g/L的鹽酸溶液，熱水洗采用的熱水 溫度為80°C，冷水洗采用的冷水為常溫25°C的水。
[0024]步驟三、將步驟二的銅絲排線作為陰極放入步驟一所配的鍍液中，陽極采用鈦板， 在電流密度為4A/dm2下電鍍，鍍液溫度為室溫;每4小時檢測一次鍍液中錫離子的濃度，通 過補加硫酸亞錫化合物來使鍍液中的硫酸亞錫濃度保持在35g/L;電鍍過程中對鍍液進行 攪拌，且攪拌速度為l〇〇r/min;電鍍采用的電鍍裝置為導線表面處理類裝置，電鍍時間 lOmin。銅絲表面形成約為25微米厚的鍍層。
[0025] 實施例5 表5
一種在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，所述鍍液的pH為1.0，且每1L鍍液中含有表5中成 分，按如下步驟配制1L鍍液并對銅絲電鍍： 步驟一、配制鍍液： a、 量取llOmL甲烷磺酸加入到去離子水中，攪拌； b、 稱取2g氧化鉍，溶于步驟a所配溶液中，攪拌； c、 稱取7g對苯二酚，溶于步驟b所配溶液中，攪拌； d、 稱取lg聚氧乙烯(E015)十二醇和lg 0P乳化劑，溶于步驟c所配溶液中，攪拌； e、 稱取30g硫酸亞錫，溶于步驟d所配溶液中，攪拌； f、 稱取3g明膠，溶于55°C的熱水中，使其充分溶解后再將其加入步驟e所配溶液中，攪 拌，最后用去離子水定容至1L; 步驟二、選取銅絲，選取直徑為0.25mm的銅絲，并依次經過堿洗、熱水洗，酸洗、冷水洗 清潔;堿洗采用的堿洗液由55g/L的氫氧化鈉、16g/L的碳酸鈉、20g/L的磷酸鈉組成，酸洗采 用的酸洗液為l〇g/L的鹽酸溶液，酸洗采用的酸洗液為8g/L的鹽酸溶液，熱水洗采用的熱水 溫度為80°C，冷水洗采用的冷水為常溫25°C的水。
[0026] 步驟三、將步驟二的銅絲排線作為陰極放入步驟一所配的鍍液中，陽極采用鈦板， 在電流密度為2.5A/dm2下電鍍，鍍液溫度為室溫;每4小時檢測一次鍍液中錫離子的濃度， 通過補加硫酸亞錫化合物來使鍍液中的硫酸亞錫濃度保持在40g/L;電鍍過程中對鍍液進 行攪拌，且攪拌速度為60r/min;電鍍采用的電鍍裝置為導線表面處理類裝置，電鍍時間 10min。銅絲表面形成約為25微米厚的鍍層。
[0027] 對比例1 同實施例1，區別在于不使用氧化鉍。
[0028] 表 6
一種在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，所述鍍液的pH為1.0，且每1L鍍液中含有表6中成 分，按如下步驟配制1L鍍液并對銅絲電鍍： 步驟一、配制鍍液： a、量取100mL甲烷磺酸加入到去離子水中，攪拌； c、 稱取5g對苯二酚，溶于步驟a所配溶液中，攪拌； d、 稱取lg聚氧乙烯(E015)十二醇，溶于步驟c所配溶液中，攪拌； e、 稱取30g硫酸亞錫，溶于步驟d所配溶液中，攪拌； f、 稱取2g明膠，溶于50°C的熱水中，使其充分溶解后再將其加入步驟e所配溶液中，攪 拌，最后用去離子水定容至1L; 步驟二、選取銅絲，選取直徑為0.25mm的銅絲，并依次經過堿洗、熱水洗，酸洗、冷水洗 清潔;堿洗采用的堿洗液由55g/L的氫氧化鈉、16g/L的碳酸鈉、20g/L的磷酸鈉組成，酸洗采 用的酸洗液為8g/L的鹽酸溶液，酸洗采用的酸洗液為8g/L的鹽酸溶液，熱水洗采用的熱水 溫度為80°C，冷水洗采用的冷水為常溫25°C的水。
[0029] 步驟三、將步驟二的銅絲排線作為陰極放入步驟一所配的鍍液中，陽極采用鈦板， 在電流密度為2.6A/dm2下電鍍，鍍液溫度為室溫;每4小時檢測一次鍍液中錫離子的濃度， 通過補加硫酸亞錫化合物來使鍍液中的硫酸亞錫濃度保持在30g/L;電鍍過程中對鍍液進 行攪拌，且攪拌速度為60r/min;電鍍采用的電鍍裝置為導線表面處理類裝置，電鍍時間 lOmin。銅絲表面形成約為20微米厚的鍍層。
[0030] 對比例2 同實施例1，區別在于:不使用聚氧乙烯(E015)十二醇，氧化鉍的濃度調整為5g/L。
[0031] 表 7
一種在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，所述鍍液的pH為1.0，且每1L鍍液中含有表7中成 分，按如下步驟配制1L鍍液并對銅絲電鍍： 步驟一、配制鍍液： a、 量取100mL甲烷磺酸加入到去離子水中，攪拌； b、 稱取5g氧化鉍，溶于步驟a所配溶液中，攪拌； c、 稱取5g對苯二酚，溶于步驟b所配溶液中，攪拌； e、 稱取30g硫酸亞錫，溶于步驟c所配溶液中，攪拌； f、 稱取2g明膠，溶于50°C的熱水中，使其充分溶解后再將其加入步驟e所配溶液中，攪 拌，最后用去離子水定容至1L; 步驟二、選取銅絲，選取直徑為0.25mm的銅絲，并依次經過堿洗、熱水洗，酸洗、冷水洗 清潔;堿洗采用的堿洗液由55g/L的氫氧化鈉、16g/L的碳酸鈉、20g/L的磷酸鈉組成，酸洗采 用的酸洗液為8g/L的鹽酸溶液，酸洗采用的酸洗液為8g/L的鹽酸溶液，熱水洗采用的熱水 溫度為80°C，冷水洗采用的冷水為常溫25°C的水。
[0032]步驟三、將步驟二的銅絲排線作為陰極放入步驟一所配的鍍液中，陽極采用鈦板， 在電流密度為2.6A/dm2下電鍍，鍍液溫度為室溫;每4小時檢測一次鍍液中錫離子的濃度， 通過補加硫酸亞錫化合物來使鍍液中的硫酸亞錫濃度保持在30g/L;電鍍過程中對鍍液進 行攪拌，且攪拌速度為60r/min;電鍍采用的電鍍裝置為導線表面處理類裝置，電鍍時間 lOmin。銅絲表面形成約為20微米厚的鍍層。
[0033] 對比例3 同實施例2，區別在于不使用0P乳化劑。
[0034] 表 8
一種在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，所述鍍液的pH為1.0，且每1L鍍液中含有表8中成 分，按如下步驟配制1L鍍液并對銅絲電鍍： 步驟一、配制鍍液： a、 量取110mL甲烷磺酸加入到去離子水中，攪拌； b、 稱取1 g氧化鉍，溶于步驟a所配溶液中，攪拌； c、 稱取6g對苯二酚，溶于步驟b所配溶液中，攪拌； e、 稱取35g硫酸亞錫，溶于步驟c所配溶液中，攪拌； f、 稱取3g明膠，溶于60°C的熱水中，使其充分溶解后再將其加入步驟e所配溶液中，攪 拌，最后用去離子水定容至1L; 步驟二、選取銅絲，選取直徑為0.3mm的銅絲，并依次經過堿洗、熱水洗，酸洗、冷水洗清 潔;堿洗采用的堿洗液由55g/L的氫氧化鈉、16g/L的碳酸鈉、20g/L的磷酸鈉組成，酸洗采用 的酸洗液為l〇g/L的鹽酸溶液，酸洗采用的酸洗液為8g/L的鹽酸溶液，熱水洗采用的熱水溫 度為83°C，冷水洗采用的冷水為常溫25°C的水。
[0035] 步驟三、將步驟二的銅絲排線作為陰極放入步驟一所配的鍍液中，陽極采用鈦板， 在電流密度為3A/dm2下電鍍，鍍液溫度為室溫;每4小時檢測一次鍍液中錫離子的濃度，通 過補加硫酸亞錫化合物來使鍍液中的硫酸亞錫濃度保持在35g/L;電鍍過程中對鍍液進行 攪拌，且攪拌速度為80r/min;電鍍采用的電鍍裝置為導線表面處理類裝置，電鍍時間 lOmin。銅絲表面形成約為20微米厚的鍍層。
[0036] 以上所有樣品制備完成后，通過掃描式電子顯微鏡(SEM)從各組樣品中取樣，分析 晶須的存在;通過掃描能譜分析(EDS)，分析鍍層的鍍層金屬;通過表面觀察、彎折實驗，判 斷鍍層表面質量及鍍層結合力;樣品保存3個月后再觀察樣品表面質量。所得對比結果如表 9中所述。
[0037] 表 9
以上所述內容僅為本發明構思下的基本說明，而依據本發明的技術方案所作的任何等 效變換，均應屬于本發明的保護范圍。
【主權項】
1. 一種在銅絲上電鍍純錫的鍍液配方，其特征在于，所述鍍液的pH為1.0,且每1L鍍液 中含有以下成分： 硫酸亞錫30-40g; 添加劑氧化鉍〇.5-2g; 添加劑非離子型表面活性劑〇. 5-2g; 穩定劑對苯二酸5-8g; 光亮劑明膠2-4g; 溶劑甲烷磺酸100-120mL; 其余為去離子水。2. 根據權利要求1所述的銅絲上電鍍純錫的鍍液配方，其特征在于:所述添加劑非離子 型表面活性劑為聚氧乙烯(E015)十二醇和OP乳化劑中的任意一種或兩種以任意比的混合 物。3. 根據權利要求1-2任一所述的在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，其特征在于，包括以下 步驟， 步驟一、配制鍍液： a、 量取100-120mL的甲烷磺酸加入到去離子水中，攪拌； b、 稱取0.5-2g的氧化鉍，溶于步驟a所配溶液中，攪拌； c、 稱取5-8g的對苯二酚，溶于步驟b所配溶液中，攪拌； d、 稱取0.5-2g的非離子型表面活性劑，溶于步驟c所配溶液中，攪拌； e、 稱取30-40g的硫酸亞錫，溶于步驟d所配溶液中，攪拌； f、 稱取2-4g的明膠，溶于熱水中，使其充分溶解后再將其加入步驟e所配溶液中，攪拌， 最后用去離子水定容至1L; 步驟二、選取銅絲，選取直徑為0.25-0.30mm的銅絲，并依次經過堿洗、熱水洗，酸洗、冷 水洗清潔； 步驟三、將步驟二的銅絲排線作為陰極放入步驟一所配的鍍液中，陽極采用鈦板，在電 流密度為2.5-4A/dm2下電鍍，鍍液溫度為室溫。4. 根據權利要求3所述的在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，其特征在于:所述步驟一中的 步驟f用于溶解明膠的熱水溫度為50-60°C。5. 根據權利要求3所述的在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，其特征在于： 所述步驟二中，堿洗采用的堿洗液由55g//L的氫氧化鈉、16g/L的碳酸鈉、20g/L的磷酸 鈉組成，酸洗采用的酸洗液為8-10g/L的鹽酸溶液。6. 根據權利要求3所述的在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，其特征在于： 所述步驟二中熱水洗采用的熱水溫度為80 ± 3°C，冷水洗采用的冷水為常溫25°C的水。7. 根據權利要求3所述的在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，其特征在于:所述步驟三的電 鍍過程中，每4小時檢測一次鍍液中錫離子的濃度，通過補加硫酸亞錫化合物來使鍍液中的 硫酸亞錫濃度保持在30-40g/L。8. 根據權利要求3所述的在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，其特征在于:所述步驟三中電 鍍過程中對鍍液進行攪拌，且攪拌速度為60-100r/min。9. 根據權利要求3所述的在銅絲上電鍍純錫的電鍍方法，其特征在于:所述步驟三中電 鍍采用的電鍍裝置為導線表面處理類裝置。
【文檔編號】C25D7/06GK105821452SQ201610332061
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2016年5月19日
【發明人】倪自飛, 華欣, 何廣仁, 王威
【申請人】江蘇興達鋼簾線股份有限公司