一種偏二甲肼動態吸附裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種偏二甲肼動態吸附裝置，所述吸附裝置包括：流量控制部分、吸附部分和溫控裝置；所述流量控制部分包括儲存罐和流量注射泵，所述儲存罐與所述流量注射泵相通；所述吸附部分內嵌在加熱裝置的外套上構成一套吸附部分；所述溫控裝置連接在所述吸附柱的兩端。本實用新型采用升流式單床吸附柱吸附裝置，儲存罐頂部設置進氣口和出氣口，底部側面設出液口，并與流量注射泵相通。通過流量注射泵與儲存罐液面上部壓力的雙重控制，確保動態吸附過程的連續性和穩定性。
【專利說明】
一種偏二甲肼動態吸附裝置
技術領域
[0001]本實用新型涉及吸附技術領域，尤其涉及一種偏二甲肼動態吸附裝置。
【背景技術】
[0002]偏二甲肼是一種高毒、具有強腐蝕性、強吸濕性的危險性液體，作為燃料對其能量性能要求很高，但在使用過程中由于極易吸收空氣中水分而產生純度下降等情況，使偏二甲肼的能量性能發生變化，不能滿足使用要求，如果能將這部分偏二甲肼再生為合格產品，不僅消除了環境污染，而且還會有很高的經濟效益。
[0003]目前，國內外對于偏二甲肼水分超標問題，大量論文是關于低濃度偏二甲肼的脫水技術，在這些文獻中要處理的偏二甲肼溶液濃度都是比較低的，而對于90%以上的偏二甲肼溶液進一步精制則不適用。
[0004]在脫水處理中常用固定床吸附裝置，固定床吸附裝置實際上是在圓筒體內填充吸附劑的吸附柱。固定床，顧名思義，它是將吸附劑固定在某一部位上，在其靜止不動的情況下進行吸附操作的。它多為圓柱形設備，把選定的粒狀吸附劑裝在固定床吸附柱中，使處理的氣體(液體)通過它，進行動態吸附實驗。吸附時吸附劑固定不動，水流穿過吸附層。根據水流的方向可分為升流式和降流式兩種。采用降流式固定床吸附，出水水質較好，但水頭損失較大。而在升流式固定床吸附中，水流由下往上流動，這種床型水頭損失增加較慢，運行時間較降流式長。根據處理水量、原水水質及處理要求，固定床可分為單床和多床系統。在處理規模很小時采用單床，多數情況下采用多床。多床又分為并聯和串聯兩種，前者適合大規模處理，出水要求較低，后者適宜處理量較小，出水要求較高的場合。

【發明內容】

[0005]為解決上述技術問題，本實用新型的目的是提供一種偏二甲肼動態吸附裝置。
[0006]本實用新型的目的通過以下的技術方案來實現:
[0007]—種偏二甲肼動態吸附裝置，包括:流量控制部分、吸附部分和溫控裝置；
[0008]所述流量控制部分包括儲存罐和流量注射栗，所述儲存罐與所述流量注射栗相通；
[0009]所述吸附部分內嵌在加熱裝置的外套上構成一套吸附部分；
[0010]所述溫控裝置連接在所述吸附柱的兩端。
[0011 ]與現有技術相比，本實用新型的一個或多個實施例可以具有如下優點:
[0012]本實用新型采用升流式單床吸附柱吸附裝置，儲存罐頂部設置進氣口和出氣口，底部側面設出液口，并與流量注射栗相通。通過流量注射栗與儲存罐液面上部壓力的雙重控制，確保動態吸附過程的連續性和穩定性。
【附圖說明】
[0013]圖1是偏二甲肼動態吸附裝置結構示意圖。
【具體實施方式】
[0014]為使本實用新型的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合實施例及附圖對本實用新型實施方式作進一步詳細的描述。
[0015]如圖1所示，為偏二甲肼動態吸附裝置結構，包括:流量控制部分、吸附部分和溫控裝置；
[0016]所述流量控制部分包括儲存罐I和流量注射栗2，所述儲存罐與所述流量注射栗相通；
[0017]所述吸附部分內嵌在加熱裝置3的外套上構成一套吸附部分；
[0018]所述溫控裝置4連接在所述吸附柱5的兩端。
[0019]上述流量控制部分、吸附部分和溫控裝置集中安裝在一個機箱內。
[0020]根據吸附過程原理，吸附是放熱反應，吸附溫度越高，吸附劑飽和吸附量越小，為保證吸附劑有較高的濕容量，吸附溫度一般不超過50°C。因此溫控裝置溫度范圍為:5-50°C，控制精度±0.1°C，主要是控制吸附溫度，該裝置帶有PID控制軟件，智能無極調溫，雙向溫度控制，該“半導體制冷控制器”是專門為驅動半導體制冷片(熱電制冷片)而設計的高性能溫度控制系統(風冷)，其特點是高精度和高穩定度。輸出負載為半導體制冷片(熱電制冷片)。半導體制冷是利用帕爾帖效應原理工作的，具有高精度、長壽命、體積小、無噪聲、無磨損、無振動、無污染、既可制冷又可加熱等優點。
[0021]溫度控制精度為±0.TC;工作溫度可任意設置，工作溫度超過上限/下限(軟件設定)時報警;可以修改溫度PID反饋參數;恒溫模式:雙向冷熱恒溫;具有過流、過壓、過熱等保護;具有硬件過溫、欠溫等保護電路。
[0022]偏二甲肼存放在儲存罐內，偏二甲肼從注入口注入儲存罐內，通過注射栗控制流量，儲存罐內的空氣用高純氮氣置換的方法清除。
[0023]上述儲存罐包括罐體、液面視窗、注入口及注入口塞、氮氣入口及出口；所述注入口、氮氣入口及出口位于罐體的頂部，在罐體底部側面設有出液口。
[0024]上述吸附部分包括吸附柱和吸附柱連接設置的風機;所述吸附柱與所述注射栗相連通；
[0025]所述吸附部分底部接口為偏二甲肼注入口，頂部設置有回收口和采樣口。
[0026]所述風機包含有多個。
[0027]所述回收口和采樣口分別連接設置有回收閥6和采樣閥7。
[0028]上述裝置還包括觸摸操作屏。
[0029]雖然本實用新型所揭露的實施方式如上，但所述的內容只是為了便于理解本實用新型而采用的實施方式，并非用以限定本實用新型。任何本實用新型所屬技術領域內的技術人員，在不脫離本實用新型所揭露的精神和范圍的前提下，可以在實施的形式上及細節上作任何的修改與變化，但本實用新型的專利保護范圍，仍須以所附的權利要求書所界定的范圍為準。
【主權項】
1.一種偏二甲肼動態吸附裝置，其特征在于，所述吸附裝置包括:流量控制部分、吸附部分和溫控裝置； 所述流量控制部分包括儲存罐和流量注射栗，所述儲存罐與所述流量注射栗相通； 所述吸附部分內嵌在加熱裝置的外套上構成一套吸附部分； 所述溫控裝置連接在所述吸附柱的兩端。2.如權利要求1所述的偏二甲肼動態吸附裝置，其特征在于，所述儲存罐包括罐體、液面視窗、注入口、注入口塞、氮氣入口及出口；所述注入口、氮氣入口及出口均位于罐體的頂部，且在罐體底部側面設有出液口。3.如權利要求1所述的偏二甲肼動態吸附裝置，其特征在于，所述吸附部分包括吸附柱和吸附柱連接設置的風機;所述吸附柱與所述注射栗相連通； 所述吸附部分底部接口為偏二甲肼注入口，頂部設置有回收口和采樣口。4.如權利要求3所述的偏二甲肼動態吸附裝置，其特征在于，所述風機包含有多個。5.如權利要求3所述的偏二甲肼動態吸附裝置，其特征在于，所述回收口和采樣口分別連接設置有回收閥和采樣閥。6.如權利要求1所述的偏二甲肼動態吸附裝置，其特征在于，所述裝置還包括觸摸操作屏。
【文檔編號】B01D15/10GK205435058SQ201620257636
【公開日】2016年8月10日
【申請日】2016年3月30日
【發明人】韓卓珍, 張光友, 叢繼信, 王建營, 王力, 范春華, 謝珊珊
【申請人】中國人民解放軍總裝備部衛生防疫隊