一種工業污廢水超聲波降解凈化處理設備的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及環保設備的技術領域，特別是工業污廢水處理設備的技術領域。
【背景技術】
[0002]學需氧量(C0D)表示在強酸性條件下重鉻酸鉀氧化一升污水中有機物所需的氧量，可大致表示污水中的有機物量。
[0003]現有的污廢水采用化工、生化處理或臭氧處理來降解有機物含量，化工處理方法會產生二次污染，生化池占地面積大、成本高昂，菌種對污廢水要求高，所以化工和生化處理方法對環境影響大；
[0004]臭氧氧化性強，對污水中的有機物具有一定的處理能力，但臭氧水處理工藝現在并未大范圍投入應用，究其原因主要是臭氧水處理工程一次性投資大、運行費用較高等，根據目前的臭氧制取技術，每制取1kg臭氧約耗電在20kW.]!，按照每分解lkgCOD需要3kg的臭氧計算，則每處理lkgCOD大概需要30元電費成本。

【發明內容】

[0005]本實用新型的目的就是為了解決傳統工藝對污廢水處理過程中產生二次污染或能耗高的問題，提出一種工業污廢水超聲波降解凈化處理設備，能夠使工業污廢水處理過程無二次污染，處理效率高，能耗低。
[0006]為實現上述目的，本實用新型提出了一種工業污廢水超聲波降解凈化處理設備，包括基礎支架、超聲波發生器、超聲波電控箱、綜合水池、高壓反應罐、臭氧發生器、臭氧控制器、氧氣瓶和高壓空氣水栗；所述氧氣瓶與所述臭氧發生器之間設置有輸氧管，所述超聲波發生器設置在所述高壓反應罐的頂部，所述高壓反應罐的底部與所述高壓空氣水栗之間設置有高壓進水管，所述臭氧發生器與所述臭氧控制器之間設置有第一臭氧管，所述臭氧控制器與所述高壓空氣水栗之間設置有第二臭氧管，所述超聲波發生器和所述超聲波電控箱導線連接；所述超聲波發生器、超聲波電控箱、綜合水池、高壓反應罐、臭氧發生器、臭氧控制器和高壓空氣水栗均設置在所述基礎支架上；所述綜合水池具有三個倉，具體包括位于綜合水池一側的第一水倉、位于綜合水池另一側并與第一水倉共有一個壁面的第二水倉和第三水倉，所述第二水倉和第三水倉之間設置有一個水倉隔板，所述第一水倉的一端設置有污廢水入口，所述第二水倉的側邊設置有凈化水出口，所述第三水倉的端部設置有高壓水入口 ；所述第一水倉的另一端與所述高壓空氣水栗之間設置有高壓抽水管，所述高壓反應罐的上部與所述高壓水入口之間設置有高壓水導管；所述第二水倉的外端頂部設置有電機驅動的水泡沫刮板。
[0007]作為優選，所述第一水倉的底部設置有回流孔，所述回流孔處設置有回流管，所述回流管一端經回流孔與第一水倉連通，另一端與所述第二水倉相連通。
[0008]作為優選，所述污廢水入口、高壓抽水管、凈化水出口和高壓水導管上均設置有閥門。
[0009]作為優選，所述水倉隔板的高度低于所述第二水倉和第三水倉的側邊高度。
[0010]本實用新型的有益效果:本實用新型進行污廢水凈化處理所采用的原理是臭氧處理與超聲波處理相結合的方式，通過超聲波高頻振動將臭氧與污廢水在壓力環境下進行混合溶解，提高了污廢水處理中臭氧的利用效率和反應時效，通過在綜合水池的第二水倉上部設置水泡沫刮板，可將位于水表面帶有顆粒雜物的氣泡去除干凈；本實用新型提供的設備在處理污廢水時不使用化工原料，不存在二次污染的問題；設備采用基礎支架來架設整體，整套設備占地面積小，方便移動。
[0011]本實用新型的特征及優點將通過實施例結合附圖進行詳細說明。
[0012]【【附圖說明】】
[0013]圖1是本實用新型工業污廢水超聲波降解凈化處理設備前側整體結構示意圖；
[0014]圖2是本實用新型工業污廢水超聲波降解凈化處理設備后側整體結構示意圖；
[0015]圖3是本實用新型中綜合水池的俯視結構示意圖。
[0016]圖中:1_基礎支架、2-超聲波發生器、3-超聲波電控箱、4-綜合水池、5-高壓反應罐、6-臭氧發生器、7-氧氣瓶、8-高壓空氣水栗、401-水泡沫刮板、402-污廢水入口、403-凈化水出口、404-高壓水入口、405-回流管、406-回流孔、407-第二水倉、408-第三水倉、409-第一水倉、410-水倉隔板、501-高壓水導管、502-高壓進水管、601-臭氧控制器、602-第一臭氧管、603-第二臭氧管、701-輸氧管、801-高壓抽水管。
[0017]【【具體實施方式】】
[0018]參閱圖1、圖2和圖3，本實用新型一種工業污廢水超聲波降解凈化處理設備，包括基礎支架1、超聲波發生器2、超聲波電控箱3、綜合水池4、高壓反應罐5、臭氧發生器6、臭氧控制器601、氧氣瓶7和高壓空氣水栗8 ;所述氧氣瓶7與所述臭氧發生器6之間設置有輸氧管701，所述超聲波發生器2設置在所述高壓反應罐5的頂部，所述高壓反應罐5的底部與所述高壓空氣水栗8之間設置有高壓進水管502，所述臭氧發生器6與所述臭氧控制器601之間設置有第一臭氧管602，所述臭氧控制器601與所述高壓空氣水栗8之間設置有第二臭氧管603，所述超聲波發生器2和所述超聲波電控箱3導線連接；所述超聲波發生器2、超聲波電控箱3、綜合水池4、高壓反應罐5、臭氧發生器6、臭氧控制器601和高壓空氣水栗8均設置在所述基礎支架1上；所述綜合水池4具有三個倉，具體包括位于綜合水池4 一側的第一水倉409、位于綜合水池4另一側并與第一水倉409共有一個壁面的第二水倉407和第三水倉408，所述第二水倉407和第三水倉408之間設置有一個水倉隔板410，所述第一水倉409的一端設置有污廢水入口 402，所述第二水倉407的側邊設置有凈化水出口 403，所述第三水倉408的端部設置有高壓水入口 404 ;所述第一水倉407的另一端與所述高壓空氣水栗8之間設置有高壓抽水管801，所述高壓反應罐5的上部與所述高壓水入口 404之間設置有高壓水導管501 ;所述第二水倉407的外端頂部設置有電機驅動的水泡沫刮板401。
[0019]所述第一水倉409的底部設置有回流孔406，所述回流孔406處設置有回流管405，所述回流管405 —端經回流孔406與第一水倉409連通，另一端與所述第二水倉407相連通。
[0020]所述污廢水入口 402、高壓抽水管801、凈化水