一種智能溫控式單晶硅清洗裝置的制造方法
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種智能溫控式單晶硅清洗裝置。
【背景技術】
[0002]晶體硅作為太陽能電池的主要原料，在推動世界光伏產業的發展中起到了舉足輕重的作用。在硅片生產過程中，硅片表面的污染物來源主要有:加工器械帶來的污染，加工液的污染、環境污染、操作人員帶來的污染以及加工過程中硅片表面發生化學反應產生的污染等。隨著太陽能工業的發展，對硅片表面潔凈度的要求也越來越高，這在一定程度上促進了硅片清洗技術的發展，也促進了人們對硅片清洗工藝的研宄。當前，濕法化學清洗技術在硅片表面清洗中仍處于主導地位，但是該技術設備條件要求高，使用成本高，不利于廣泛推廣應用。
【實用新型內容】
[0003]針對上述技術問題，本實用新型公開一種智能溫控式單晶硅清洗裝置，包括依次設置的第一水槽、第二水槽、第三水槽、第四水槽、第五水槽以及烘干箱，所述第二水槽以及第三水槽內設置有溫度感應器和加熱器，每個加熱器上分別連接一溫度顯示板，所述第二水槽以及第三水槽上分別設置水循環裝置。
[0004]優選地，所述水循環裝置包括冷水循環管和貯水槽，所述冷水循環管與貯水槽相連接。
[0005]優選地，所述第二水槽以及第三水槽內加有清洗用的藥劑。
[0006]本實用新型的有益效果是所述智能溫控式單晶硅清洗裝置能夠自動調整水槽內的溫度，通過用戶預先設定的溫度值，溫度傳感器會實時感應并顯示出槽內的溫度，一旦超出溫度設定值就會加入冷水，從而及時降低溫度，滿足使用需要，提高清洗效果，且還設置烘干箱，清洗完畢后即進行烘干，進一步提高清洗質量。
【附圖說明】
[0007]圖1是本實用新型所述智能溫控式單晶硅清洗裝置的結構示意圖。
[0008]圖中，1-第一水槽；2-第二水槽；3_第三水槽；4_第四水槽；5_第五水槽；6-烘干箱；7_冷水循環管；8_貯水槽。
【具體實施方式】
[0009]下面結合附圖對本實用新型做進一步的詳細說明，以令本領域技術人員參照說明書文字能夠據以實施。
[0010]如圖所示，本實用新型公開一種智能溫控式單晶硅清洗裝置，包括依次設置的第一水槽1、第二水槽2、第三水槽3、第四水槽4、第五水槽5以及烘干箱6，所述第二水槽2以及第三水槽3內設置有溫度感應器和加熱器，每個加熱器上分別連接一溫度顯示板，所述第二水槽以及第三水槽上分別設置水循環裝置。所述水循環裝置包括冷水循環管7和貯水槽8，所述冷水循環管7與貯水槽8相連接。所述第二水槽2以及第三水槽3內加有清洗用的藥劑。所述智能溫控式單晶硅清洗裝置能夠自動調整水槽內的溫度，通過用戶預先設定的溫度值，溫度傳感器會實時感應并顯示出槽內的溫度，一旦超出溫度設定值就會加入冷水，從而及時降低溫度，滿足使用需要，提高清洗效果，且還設置烘干箱，清洗完畢后即進行烘干，進一步提高清洗質量。
[0011]盡管本實用新型的實施方案已公開如上，但其并不僅僅限于說明書和實施方式中所列運用，它完全可以被適用于各種適合本實用新型的領域，對于熟悉本領域的人員而言，可容易地實現另外的修改，因此在不背離權利要求及等同范圍所限定的一般概念下，本實用新型并不限于特定的細節和這里示出與描述的圖例。
【主權項】
1.一種智能溫控式單晶硅清洗裝置，其特征在于:包括依次設置的第一水槽、第二水槽、第三水槽、第四水槽、第五水槽以及烘干箱，所述第二水槽以及第三水槽內設置有溫度感應器和加熱器，每個加熱器上分別連接一溫度顯示板，所述第二水槽以及第三水槽上分別設置水循環裝置。
2.根據權利要求1所述的智能溫控式單晶硅清洗裝置，其特征在于:所述水循環裝置包括冷水循環管和貯水槽，所述冷水循環管與貯水槽相連接。
3.根據權利要求1所述的智能溫控式單晶硅清洗裝置，其特征在于:所述第二水槽以及第三水槽內加有清洗用的藥劑。
【專利摘要】本實用新型公開一種智能溫控式單晶硅清洗裝置，包括依次設置的第一水槽、第二水槽、第三水槽、第四水槽、第五水槽以及烘干箱，所述第二水槽以及第三水槽內設置有溫度感應器和加熱器，每個加熱器上分別連接一溫度顯示板，所述第二水槽以及第三水槽上分別設置水循環裝置。本實用新型所述智能溫控式單晶硅清洗裝置能夠自動調整水槽內的溫度，滿足使用需要，提高清洗效果。
【IPC分類】B08B3-08
【公開號】CN204307871
【申請號】CN201420780503
【發明人】張忠安
【申請人】江西豪安能源科技有限公司
【公開日】2015年5月6日
【申請日】2014年12月12日