專利名稱：高溫回轉真空爐及在真空下加熱固體顆粒材料的方法
背景技術：
本發明涉及一種回轉真空爐及在高溫和高真空度條件下處理固體顆粒材料的方法。
有時，固體顆粒材料必須在真空、高溫下處理以提供希望的產品。例如，在生產用于電容器的鉭粉末時，加工粉末的一個或者多個步驟是在真空爐中進行熱處理。這種處理可以用來分離出殘余雜質并提供可流動的粉末。現有的加工系統包括將裝有鉭粉末的大量盤架放入真空爐中并加熱整個盤架組件。在相對較短的熱處理之后，在這種分批處理中，整個盤架組件冷卻并且少量空氣進入直到在粉末顆粒表面上形成一層氧化鉭為止，以阻止隨后粉末在暴露于空氣中時自燃。這種處理費時、消耗能量并且需要昂貴的設備。另外，這種處理的固定爐底幾何形狀導致靠近爐底外側的材料比在爐底中部或者盤架上的材料加熱得早和熱。傳熱也很慢。另外，由于在爐底外部的材料加熱的程度比在爐底內部的材料大，故會產生不均勻的燒結。彼此具有不同物理性質的爐料的不同部分可以導致非均勻的產品。如果內部材料沒有充分燒結，那么形成的產品是脆性的而且該材料的很大部分在隨后的產品處理中變成粉屑。這些粉屑或塵粒必須回收用于再加工。
本發明的一個目的是提供一種用于在高溫、真空下采用可提供熱處理均勻的產品的回轉爐來處理固體顆粒材料的裝置。
本發明的另一個目的是提供一種用于在高溫、真空下采用可提供熱處理均勻的產品的回轉爐來連續高溫處理固體顆粒材料(例如鉭粉末)的方法。
發明概述回轉真空爐具有回轉耐火金屬圓柱容器，其包括冷入口區、熱中間區和冷出口區。排氣管通過圓柱容器的端壁延伸經過冷出口區進入熱中間區。在圓柱容器中鄰近冷入口區的熱中間區有第一組內輻射防護屏，在鄰近冷出口區的熱中間區有第二組內輻射防護屏。
第一真空罩封閉了輸入槽，輸入槽引導固體顆粒材料在真空下進入圓柱容器的冷入口區，而第二真空罩封閉了排出槽，排出槽用于也在真空下從圓柱罩排出已處理的材料。固體顆粒材料通過利用連接到容器壁內表面的螺紋齒移動通過耐火金屬圓柱容器或者通過傾斜容器使之因重力流出。
圓柱容器的熱中間區通過電阻加熱帶間接加熱，該電阻加熱帶沿著熱中間區設置并彼此間隔并，而外防輻射屏沿著熱中間區圍繞加熱帶和圓柱容器。使用加熱帶、防輻射屏以及第一和第二組內防輻射屏，使熱量集中在圓柱容器的熱中間區并且將冷入口區、冷出口區和相關的機械裝置(諸如驅動裝置和支撐裝置)與熱中間區的高溫屏蔽開。
將固體顆粒材料加熱到高溫的方法包括提供具有冷入口區、熱中間區和冷出口區的回轉耐火金屬圓柱容器，在鄰近冷入口區的熱中間區有第一組內防輻射屏，在鄰近冷出口區的熱中間區有第二組防輻射屏。固體顆粒材料在真空下從冷入口區移動通過回轉耐火金屬圓柱容器，在熱中間區加熱到溫度1000°-1700℃之間，并隨后從回轉耐火金屬圓柱容器的冷出口區排出。
附圖的簡要說明通過結合下列對實施例和附圖的說明將對本發明有更好的理解，其中

圖1是本發明回轉真空爐的回轉耐火金屬圓柱容器的縱向剖視圖；圖2是本發明回轉真空爐的另一個實施例的縱向剖視圖；圖3是圖2沿剖線Ⅲ-Ⅲ剖開的視圖；圖4是圖2沿剖線Ⅳ-Ⅳ剖開的視圖；和圖5是圖1回轉真空爐的示意圖，說明了用于在真空下輸入并排出材料的系統。
發明的詳細說明本發明的回轉真空爐能夠使固體顆粒材料加熱達到高溫，用于在高真空度的條件下熱處理或者燒結。
現參考附圖，圖1說明了本發明回轉真空爐1的一個實施例，其包括具有內壁3和外壁4的回轉圓柱容器2，耐火金屬圓柱容器2具有冷入口區5、熱中間區6和冷出口區7。用于充入固體顆粒材料的裝置8(諸如輸入槽9)位于圓柱容器2的冷入口區5，其將材料輸入進連接到圓柱容器2的混合加料管10，混合加料管10與冷入口區5連通，輸入槽9及混合加料管10封閉在第一真空罩11中。混合加料管10包括在圓柱容器2上的傾斜壁12，傾斜壁作為阻止固體顆粒材料從混合加料管10跑出而不是朝向圓柱容器2的冷入口區5移動的屏障，傾斜壁12接收并封閉輸入槽9的排出端13。輸入槽9還在上端具有向外擴張的部分14以接收固體顆粒材料。圓柱容器2的冷出口區7具有端壁15，排氣管16經過端壁15，并且排出槽17與圓柱容器2在冷出口區7連通，排出槽17在冷出口區7中具有開放的接收端18和排出端19，接收端18用于接收來自容器的固體材料，排出端19用于排出來自容器的固體材料。排出槽17的排出端19封閉在第二真空罩20中。
排氣管16通過圓柱容器2的端壁15延伸，接收來自圓柱容器2的氣體，并將該氣體輸送到排氣管21，而排氣管21連接到真空管道22，而真空管道接下來連接到真空泵23上。排氣管16優選與圓柱容器2的軸a同軸，延伸通過冷出口區7，并且具有位于圓柱容器2的熱中間區6中的開口端24。
第一組內防輻射屏25位于鄰近圓柱容器2的冷入口區5的熱中間區6中，從而減少熱量從熱中間區6流動到圓柱容器2的冷入口區5。第一組內防輻射屏25固定到內壁3上，(諸如通過朝向內壁延伸的幅條27(圖2))并且(諸如在28處)焊接到內壁3上。
第二組內防輻射屏29位于鄰近圓柱容器2的冷出口區7的熱中間區6，從而減少熱量從中間區6向冷出口區7的流動。第二組內防輻射屏29諸如通過焊接點32固定到排氣管16的外壁。第二組內防輻射屏29將冷出口區7與圓柱容器2的熱中間區6的高溫屏蔽開。可以在冷入口區5、熱中間區6和冷出口區7中設置一組短螺紋齒33(諸如通過焊接點34固定到內壁3)，移動固體材料通過耐火金屬容器。
圓柱容器2的熱中間區6采用間接熱源加熱，諸如采用環繞圓柱容器2的外壁4并間隔開的的電阻加熱帶35。加熱帶35沿著熱中間區6的長度延伸，并且從由電源(未示出)通過電線36輸入的電流獲取能量。為了將熱量從電加熱器35集中并導向圓柱容器2的外壁4，使至少一個防輻射屏37和最好一組防輻射屏37a-37f圍繞電加熱帶35和圓柱容器2的熱中間區6同心設置并間隔開來，并且環繞并封閉電加熱帶35和圓柱容器2的熱中間區6。防輻射屏37a-37f封閉在屏蔽罩38中。
圓柱容器2的冷入口區5可以具有一組固定到(諸如由焊接點34)內壁3的短入口螺紋齒33，其從內壁3伸出并起到將固體顆粒材料從混合加料管10移到熱中間區的作用，而多個向內引導的混合凸緣39可以設在混合加料管10的內壁40，來混合輸入到其中的固體顆粒材料并將該材料加入到短入口區螺紋齒33中。
由于圓柱容器2的熱中間區6、加熱帶35和防輻射屏37均包含在屏蔽罩38中，并且第一組內防輻射屏25和第二組內防輻射屏29保持熱中間區的熱量，水冷卻卷筒部41可以用于環繞冷入口區5和冷出口區7的外壁4，該卷筒部可以由較便宜的鐵合金制成而不是如圓柱容器2所需的耐火金屬。圓柱容器2可以諸如使用電機42來轉動，電機具有與圓柱容器2所帶的環形齒圈45嚙合的齒輪44的軸43，齒輪44在第一真空罩11中，并且軸43經過固定在罩壁中的密封件46。
圓柱容器2的端壁15和排氣管16的外壁47均封閉在第三真空罩48中，排出槽19經過第三真空罩48的下壁49進入第二真空罩20。排氣管16優選具有多個(諸如通過沿著水平軸a彼此偏移并間隔開的焊接點52)連接到內壁51上的阻擋件50，從而為氣體流過其中提供一條曲折的路徑。
為了保持圓柱容器2的內部i在真空下，同時處理其中的顆粒材料，下述內容均是本領域中的技術人員所公知的真空源(真空泵23)通過真空管路22、排出管21、排氣管16、圓柱容器2的內部i、第二真空罩20和第一真空罩11抽真空，在需要的地方設置密封件和軸承以將泄漏保持在可接受的范圍內。如圖5所示，為了幫助保持系統中的真空，并且特別是保持圓柱容器2的內部i的真空設置了一組密封的輸入給料器和密封的排出給料器。如示意性說明的，為給圓柱容器2加料，將要處理的固體顆粒材料通過輸入管路53輸入通過密封的入口閥54到容納在第一輸入罩56內的初始輸入槽55，第一輸入罩56具有與第二密封閥58相配合的輸入器57。從第二密封閥58輸入到在第一粗面真空輸入罩60中的第二輸入槽59，該粗面真空罩60通過管路61連接到真空源(諸如泵62)，并具有與第三密封閥64相配合的輸入器63。從第三密封閥64輸入到在中間輸入罩66中的中間轉移輸入槽65，中間輸入罩66具有一個與第四密封閥68相配合的中間輸入器67。從第四密封閥68輸入到在罩70中的進一步輸入槽69中，罩70通過管路71連接到真空源(諸如泵72)，并具有與密封閥74相配合的輸入器73，而密封閥74與第一罩11相配合，從而將其中固體顆粒材料通過外擴張部分14輸入輸入槽9并然后輸入圓柱容器2的冷入口區5。為了將已處理的固體材料從圓柱容器2排出，將已處理的材料由回轉圓柱容器2輸入排放槽17的開口端18進入第二真空罩20，并且通過第一密封排出閥75進入罩77中的中間排出槽76，罩77具有與第二密封排出閥79相配合的中間排出輸入器78。從第二密封排出閥79輸入到在粗面排出罩81中的第二排出槽80，粗面排出罩81具有用于通過降壓閥83降低粗面排出罩81中真空的排出管路82，并具有與最終排出密封閥85相配合的排出輸入器84，以將材料排出系統。
本發明回轉爐1的操作如下所述。隨著電機42發動，圓柱容器2通過與環形齒圈45嚙合的齒輪44被轉動，真空泵啟動后，包括真空管路22、排氣管21、罩50的內部、排氣管16、排出槽17、第二排出罩20的內部、圓柱容器2的內部I、混合加料管10以及第一真空罩8的內部的系統處于特殊處理所需要的真空中。啟動電加熱帶35加熱圓柱容器2的熱中間區6達到所需的溫度，防輻射屏31保持該熱量。在該階段，將要處理的固體顆粒材料放在進一步輸入槽69中，密封閥68和74關閉，罩70內部通過真空泵72而受到與圓柱容器2中的真空相差不大的真空。在打開密封閥74時，固體顆粒材料由輸入器73通過向外擴張的部分14輸入到輸入槽9中，并由于重力經過輸入槽9到混合加料管10中。在連接到圓柱容器2上并隨其旋轉的混合加料管10中，固體顆粒材料通過接觸內壁40上的凸緣39并被其翻滾而混合，而傾斜壁12阻止材料脫離并促使材料進入圓柱容器2的冷入口區5。冷入口區5中的固體顆粒材料由短入口螺紋齒33移到并通過熱中間區6，同時將材料加熱到所需的溫度。然后由短中間螺紋齒33朝向排出槽17的開口的接收端18轉移熱材料，隨后將熱材料通過排出槽17輸入到罩20而從系統中排出。在操作回轉爐的過程中，第一組內防輻射屏25將冷入口區5與熱中間區6的高溫屏蔽開，而第二組內防輻射屏29將冷出口區7與該高溫屏蔽開。
本方法在熱處理固體顆粒材料中采用了上述的耐火金屬圓柱容器2。固體顆粒材料在真空下被加入到回轉耐火金屬圓柱容器2的冷入口區5(該圓柱容器具有冷入口區5、熱中間區6和冷出口區7)，在鄰近冷入口區5的熱中間區6有第一組內防輻射屏25，以及在鄰近冷出口區7的熱中間區6中有第二組內防輻射屏29。固體顆粒材料在真空下并在熱中間區6加熱到大約1000°到1700℃之間的溫度通過回轉耐火金屬圓柱容器2移動，并隨后從冷出口區7排出。
本發明的固體顆粒材料的熱處理在真空條件下進行并且可以在低于大約0.001乇的真空度下和低至大約10-4乇或者更低的真空下進行，在熱中間區6中的滯留時間大約為0.3到2.0小時之間。采用第一組防輻射屏25和第二組防輻射屏29時，熱中間區6的溫度在大約1000°-1700℃之間，優選在1400°-1600℃之間，冷入口區5和冷出口區7中的溫度約為300℃或更低。
例如，當熱處理鉭粉末時，熱中間區6中需要溫度為1500℃量值，而且耐火金屬圓柱容器2由耐火金屬制成，諸如鉬、鉭、鎢，或者諸如含有少量鉭和鋯的鉬合金的耐火金屬合金。在此所用的術語耐火金屬用于表明一種在溫度達到大約1700℃量值時能夠持續足夠長時間而無有害影響的一種金屬。例如在處理鉭時，圓柱容器可以由含有少量鉭和鋯的鉬合金形成并帶有鉭的內襯和鉭螺紋齒，鉭內襯接觸處理通過圓柱容器的熱顆粒材料，鉭螺紋齒焊接到圓柱容器壁的內襯上并且彼此跳焊(stitch-welded)，從而避免不同程度的膨脹問題。優選的實施例是“TEM”，其是鉬合金，其中有大約0.5％重量的鉭和0.08％重量的鋯。加工鉭粉末時，優選的內襯材料是鉭。
根據本發明，其它粉末也可以在回轉真空爐中加工。例如，其它閥(valve)金屬粉末可以以與加工鉭粉末相同的方式加工。根據本發明的方法，鈮粉末也可以以與加工鉭粉末相同的方法加工在回轉真空爐中加工。
根據本發明，添加劑或者摻雜劑可以在本發明回轉真空爐中處理材料之前、之中和/或之后添加到顆粒材料中。優選的是，用于控制顆粒材料燒結和/或聚結的摻雜劑在引進回轉真空爐之前摻和進或者混合進材料中。取而代之的是，一種或者多種摻雜劑可以直接添加到回轉爐中，與顆粒材料進入到回轉爐的過程分開。如果將摻雜劑直接添加到回轉爐中，用于摻雜劑的輸入裝置最好在與回轉爐中相同的高真空條件下操作。例如，摻雜劑可以由重力輸入系統直接添加到加熱器中。
可以用于控制用回轉真空爐處理的顆粒材料的燒結和/或聚結的摻雜劑包括磷、氮、碳、硅、硼和硫等等。這些摻雜劑和將這些摻雜劑引入顆粒材料中的方法在授予Chang的美國專利5448447中有所描述，其在此引用作為參考。對于鉭、鈮以及其它將要在本發明真空爐中燒結和聚結的閥金屬粉末，磷是優選的摻雜劑。摻雜劑可以用各種方式施加，根據本發明的一些實施例，液體形式是優選的。如果磷用作摻雜劑，則最好以磷酸或者以NH4PF6粉末形式施加。
在燒結之前或者之后添加到顆粒材料中的摻雜劑的量優選足以控制顆粒材料的燒結和聚結，并且提供可流動的顆粒材料而對由經處理的材料制成的電容器的性能無有害影響。例如，優選所用磷添加劑的含量能達到在處理的材料中最終的磷含量為磷元素重量占處理材料總重量的大約百萬分之50或者低于大約百萬分之200(ppm)或者更多。磷和氮摻雜劑的其它量值在美國專利5448447中有所描述。
如果用氮作摻雜劑，則摻雜劑可以在本發明回轉真空爐中顆粒材料處理之前、之中和/或之后添加。如果以氮氣的形式提供，則優選氣體相對于顆粒材料通過回轉真空爐的流向逆流引入。優選的是，在燒結過程中，沒有氣體摻雜劑引入到回轉真空爐中，從而保持了爐中的高真空條件。在燒結顆粒材料之后，可以在氧鈍化的同時進行氮的添加。
在圓柱容器2中處理的顆粒材料的滯留時間可以根據需要通過螺距、高度和圓柱容器旋轉速度調整。在一些例子中，如圖1所示，如果圓柱容器位于從冷入口區5到冷出口區7向下的角度，并且材料在旋轉中呈現其自然的細紋(rill)角度，則可以免于使用螺紋齒33，并且材料將通過圓柱容器移動相同細紋角度。
通過在大氣壓力下使固體顆粒材料通過輸入管路53并通過打開的閥54輸入到初始輸入給料器或槽55中而向圓柱容器2進行輸入。然后閥54關閉并且材料由輸入器57通過打開的閥58轉移到第二輸入槽。在閥58和閥64處于關閉位置時，在罩59中通過啟動真空泵62經管路61提供部分真空。當達到所需的部分真空時，閥64打開，輸入器63將材料輸入到中間轉移輸入槽65中。然后閥64關閉，閥68打開，材料在部分真空下由中間輸入器67輸入進一步輸入槽69中。閥和真空泵72啟動時，施加圓柱容器中所需的接近高真空度的真空，用輸入器73將材料通過擴張部分14排入輸入槽9中。在鉭粉末熱處理過程中，提供給耐火金屬圓柱容器的真空為0.001乇或者更低。在將處理的材料從圓柱容器中排出時，進行相反的過程，來自圓柱容器中的已處理的固體通過排出槽排出進入到第二真空罩20。第二排出閥79關閉時，第一排出閥打開，材料輸入到中間排出槽76。然后第一排出閥75關閉、第二排出閥79打開，材料由中間排出輸入器78輸入到第二排出槽80。最終排出閥85處于關閉位置，然后第二排出閥79關閉，通過管路82和降壓閥83排出真空。可以將材料在大氣壓力下排入另一個旋轉缸(未示出)中，在此實現冷卻和鈍化。隨著真空的釋放，以及少量空氣注入，在材料上形成氧化涂層，然后最終排出閥可以打開并且將已處理的材料移出以備用。
權利要求
1．一種回轉真空爐，具有回轉耐火金屬圓柱容器，其具有內壁和外壁、冷入口區、熱中間區和冷出口區；用于在真空下將要加熱的固體顆粒材料加入所述冷入口區的裝置；用于在真空下將所述固體材料在加熱后從所述冷出口區排出的裝置；用于在從加料裝置到排出裝置的方向上移動固體顆粒的裝置；在圓柱容器中鄰近所述冷入口區的所述熱中間區的第一組內防輻射屏，以及在鄰近所述冷出口區的所述熱中間區的第二組內防輻射屏；延伸進入所述冷出口區和至少部分延伸進入所述熱中間區的排氣管，用于排出氣體和氣化的材料；用于間接加熱所述熱中間區的裝置；和沿著所述熱中間區圍繞耐火金屬圓柱容器的防輻射屏。
2．如權利要求1所述的回轉真空爐，其特征在于，所述第一組內防輻射屏轉換成所述耐火金屬圓柱容器的內壁。
3．如權利要求1所述的回轉真空爐，其特征在于，所述第二組內防輻射屏連接到所述排氣管的外表面。
4．如權利要求1所述的回轉真空爐，其特征在于，用于在從加料裝置到排出裝置的方向上移動顆粒材料的所述裝置包括一組連接到圓柱容器內壁的螺紋齒。
5．如權利要求1所述的回轉真空爐，其特征在于，所述排氣管延伸進入所述熱中間區并且第二組螺紋齒從所述圓柱容器的內壁延伸到與所述排氣管的外壁緊密相鄰的位置。
6．如權利要求1所述的回轉真空爐，其特征在于，用于加熱所述熱中間區的所述裝置包括圍繞所述圓柱容器的外壁并間隔開的電阻加熱器。
7．如權利要求6所述的回轉真空爐，其特征在于，所述防輻射屏是多個彼此間隔的防輻射屏，并且與所述電阻加熱器間隔并圍繞和封閉電阻加熱器。
8．如權利要求1所述的回轉真空爐，其特征在于，所述圓柱容器的內部通過真空泵維持在真空下，該真空泵通過罩與所述排氣管相配合。
9．如權利要求1所述的回轉真空爐，其特征在于，包括封閉了連接到所述圓柱容器的加料管的第一罩，第一罩將固體顆粒材料輸入到所述圓柱容器的冷入口區。
10．如權利要求9所述的回轉真空爐，其特征在于，包括在圍繞輸入槽的排出端的所述入口區處的所述加料管上的傾斜壁，以及在所述傾斜壁和所述冷入口區之間的所述加料管的內壁上的多個向內引導的混合凸緣。
11．如權利要求1所述的回轉真空爐，其特征在于，用于在加熱后從所述冷出口區排出所述固體材料的所述裝置包括具有開口接收端以及排出端的排出槽，接收端在所述冷出口區中，排出端將所述固體材料排入排出罩中。
12．如權利要求1所述的回轉真空爐，其特征在于，包括多個密封互連的輸入給料器，在固體顆粒材料加入到所述圓柱容器的輸入槽之前，將要處理的固體顆粒材料供給輸入給料器，并通過輸入給料器，同時受到增高的真空度。
13．如權利要求1所述的回轉真空爐，其特征在于，包括多個密封互連的排出給料器，在固體顆粒材料從中排出之前，從所述圓柱容器排出的材料通過排出給料器，同時經受降低的真空度。
14．如權利要求1所述的回轉真空爐，其特征在于，圓柱容器的所述耐火金屬為含有少量鉭和鋯的鉬合金。
15．如權利要求14所述的回轉真空爐，其特征在于，在所述圓柱容器的內壁上設置鉭內襯，并且由鉭構成的螺紋齒焊接到所述鉭內襯上。
16．一種回轉真空爐，具有回轉耐火金屬圓柱容器，其具有內壁和外壁、冷入口區、熱中間區和冷出口區；用于在真空下將要加熱的固體顆粒材料加入所述冷入口區的裝置；用于在真空下將所述固體材料在加熱后從所述冷出口區排出的裝置；一組內防輻射屏，在鄰近所述冷出口區的所述熱中間區處連接到圓柱容器的內壁上；第二組內防輻射屏，位于圓柱容器中鄰近所述冷出口區的所述熱中間區；一組連接到圓柱容器的內壁上的螺紋齒，適于在從加料裝置到所述排出裝置的方向上移動固體顆粒材料；延伸進入所述冷出口區和至少部分進入所述熱中間區的排氣管，以排出其中的氣體和氣化的材料；電阻加熱器沿著熱中間區圍繞所述圓柱容器的外壁并間隔開；和多個彼此間隔開的外防輻射屏，圍繞且徑向封閉所述電阻加熱器并與其間隔開。
17．一種在真空下加熱固體顆粒材料到溫度1000°-1700℃的方法，包括制造具有下列部分的回轉耐火金屬圓柱容器內壁和外壁、冷入口區、熱中間區和冷出口區、在鄰近所述冷入口區的所述熱中間區的第一組內防輻射屏以及在鄰近所述冷出口區的所述熱中間區的第二組內防輻射屏；在真空下移動固體顆粒物質通過所述回轉耐火金屬圓柱容器；在所述熱中間區加熱所述固體顆粒金屬達到1000°-1700℃；并且從所述冷出口區排出所述加熱的固體顆粒材料。
18．如權利要求17所述的方法，其特征在于，所述真空是0.001乇或者更低。
19．如權利要求17所述的方法，其特征在于，所述固體顆粒材料是鉭粉末。
20．如權利要求19所述的方法，其特征在于，所述真空是0.001乇或者更低。
21．如權利要求19所述的方法，其特征在于，所述鉭粉末在熱中間區的滯留時間為大約0.3到2.0小時之間。
22．如權利要求19所述的方法，其特征在于，所述溫度在1400°-1600℃之間。
全文摘要
用于在真空條件下熱處理固體顆粒材料的回轉真空爐(1)及方法,使用具有冷入口區(3)、熱中間區(6)和冷出口區(7)的回轉耐火金屬圓柱容器(2)。第一組內防輻射屏(25)位于鄰近冷入口區(5)的熱中間區,第二組內防輻射屏(29)位于鄰近冷出口區(7)的熱中間區(6),以防止這兩個區受到熱中間區的高溫。圓柱容器的熱中間區的熱量由電阻加熱帶(35)間接提供,電阻加熱帶(35)圍繞容器并且外防輻射屏(37、38)圍繞加熱器設置以將熱量引導到圓柱容器中。
文檔編號F27D99/00GK1312903SQ99809421
公開日2001年9月12日 申請日期1999年6月21日 優先權日1998年6月22日
發明者阿倫·C·摩根 申請人:卡伯特公司