用于形成透明被膜的涂布液以及具有透明被膜的基材的制造方法
【專利摘要】本發明的用于形成透明被膜的涂布液中，無機氧化物微粒和樹脂乳液分散于含有水和有機溶劑中的至少一種的分散介質中。涂布液的全部固體成分濃度為0.03～70重量％，涂布液中的無機氧化物微粒的濃度(CP)以固體成分計在0.0009～56重量％的范圍內，樹脂乳液的濃度(CR)以固體成分計在0.006～68重量％的范圍內。另外，無機氧化物微粒中所含有的堿金屬的固體成分濃度總量以氧化物(Me2O，Me＝Li、Na、K)計在1000ppm以下。即使將該涂布液涂布在基材上之后對基材進行拉伸、或是一邊拉伸基材一邊進行涂布，也能夠不出現斑點、膜不均(海島結構)地提供表面平坦的具有透明被膜的基材。
【專利說明】
用于形成透明被膜的涂布液以及具有透明被膜的基材的制造 方法
技術領域
[0001] 本發明涉及用于形成透明被膜的涂布液、和使用該涂布液的具有透明被膜的基材 的制造方法。
【背景技術】
[0002] 迄今，各種透明被膜形成在玻璃、塑料板、樹脂膜、塑料透鏡等的基材表面上而被 使用。例如，在基材表面上形成有有機樹脂膜或無機膜作為硬質涂層膜。進而，在有機樹脂 膜或無機膜中摻合樹脂粒子或二氧化硅等無機粒子來提高耐擦傷性。
[0003] 本
【申請人】公開了將僅由有機樹脂構成的硬質涂層膜、和含有被氧化銻被覆的多孔 二氧化硅微粒(或者內部具有空洞的二氧化硅微粒）的防反射?防帶電膜層疊在基材上的 結構（日本專利特開號公報;專利文獻1)，但是硬質涂層功能（耐擦傷性、膜強 度等)不足。另外，還已知在顯示裝置等的基材上形成含有金屬微粒、導電性氧化物微粒的 導電性被膜而賦予防帶電性能、電磁波遮蔽性能的方案（日本專利特開號公 報;專利文獻2)。此時，作為導電性氧化物微粒公開了氧化錫，摻雜有F、Sb或P的氧化錫，氧 化銦，摻雜有Sn或F的氧化銦，氧化銻，一氧化二鈦等。另外，本
【申請人】還公開了為了使硬質 涂層膜自身具有防帶電性能而摻合五氧化銻微粒的硬質涂層膜（日本專利特開2004-50810 號公報；專利文獻3)。還公開了摻合鏈狀五氧化銻微粒的透明被膜（日本專利特開號公報;專利文獻4)。
[0004] 另外，已知將含有二氧化硅微粒等低折射率微粒的涂布液涂布在基材表面而形成 防反射被膜（日本專利特開平7-133105號公報;專利文獻5)。另外，為了具有防帶電性能、電 磁波遮蔽性能而也在基材上形成的含有金屬微粒、導電性氧化物微粒的導電性被膜上形成 防反射膜。為了即使在這種設置有防反射膜、導電性被膜的場合下也能夠提高耐擦傷性，還 在基材與防反射膜和導電性被膜中的至少一種之間形成硬質涂層膜。本
【申請人】在例如日本 專利特開號公報(專利文獻6)、日本專利特開2008-19358號公報(專利文獻7)、 日本專利特開號公報(專利文獻8)等中公開了用于形成防反射膜的涂布液。
[0005] 特別是在基材為樹脂膜的場合下，以往是在被拉伸至規定厚度的膜基材上形成透 明被膜，但近年來從生產性、安全性、環境因素的觀點考慮，一直在尋求在拉伸前的膜上涂 布用于形成透明被膜的涂布液而形成涂膜、然后在拉伸后進行固化，或是一邊對拉伸前的 膜進行拉伸一邊涂布用于形成透明被膜的涂布液而形成涂膜、然后進行固化的方法。
[0006] 然而，在使用以往涂布液的場合下，由于拉伸時因摻合粒子而產生斑點，由于涂布 液的不穩定性或不均勻性等產生膜不均，從而形成平坦性受損、外觀惡化、透明性、霧度不 足的具有透明被膜的拉伸膜，需要改善這些問題。
[0007] 現有技術文獻
[0008] 專利文獻
[0009] 專利文獻1:日本專利特開號公報
[0010] 專利文獻2:日本專利特開號公報
[0011] 專利文獻3:日本專利特開2004-50810號公報
[0012] 專利文獻4:日本專利特開號公報
[0013]專利文獻5:日本專利特開平7-133105號公報 [0014] 專利文獻6:日本專利特開號公報
[0015] 專利文獻7:日本專利特開2008-19358號公報
[0016] 專利文獻8:日本專利特開號公報

【發明內容】

[0017]本發明所要解決的技術問題
[0018] 所以，本發明的目的在于實現能夠抑制涂布后的樹脂膜拉伸時斑點生成、膜不均 產生的用于形成透明被膜的涂布液、和具有透明被膜的基材的制造方法。
[0019] 解決技術問題所采用的技術方案
[0020] 本發明人發現，如果使用將無機氧化物微粒和樹脂乳液分散于含有水和有機溶劑 中的至少一種的分散介質中的涂布液，則能夠抑制涂布后的樹脂膜拉伸時斑點的生成、膜 不均的產生。此時，涂布液的全部固體成分濃度為0.03~70重量％，涂布液中的無機氧化物 微粒的濃度(&)以固體成分計為0.0009~56重量％，樹脂乳液的濃度(C R)以固體成分計為 0.006~68重量％。另外，無機氧化物微粒中所含有的堿金屬的固體成分濃度總量以氧化物 (Me2〇，Me = Li、Na、K)計在 lOOOppm以下。
[0021] 通過使用本發明的涂布液，即使在基材上涂布后再對基材進行拉伸、或是一邊拉 伸基材一邊進行涂布，也能夠不產生斑點或膜不均(海島結構)地提供表面平坦的具有透明 被膜的基材。
[0022] 這里，優選利用有機硅化合物和聚合物分散劑中的至少一種對無機氧化物微粒進 行表面處理。此時，對于有機硅化合物，以Rn-SiX(4- n)/2表示時相對于無機氧化物微粒以固體 成分計在1~100重量％的范圍內；對于聚合物分散劑，相對于無機氧化物微粒以固體成分 計在1~300重量％的范圍內。
[0023]而且，無機氧化物微粒是單分散的無機氧化物微粒(A)、和一次粒徑3~30個連接 成鏈狀的鏈狀無機氧化物微粒(B)中的至少一種，無機氧化物微粒(A)的平均粒徑(Dpa)在3 彡Dpa彡1 OOnm的范圍內，無機氧化物微粒(B)的平均一次粒徑(Dpb)在3彡Dpb彡50nm的范圍 內。
[0024]樹脂乳液的平均直徑優選在10~500nm的范圍內，所述無機氧化物微粒的濃度 (&)與樹脂乳液的濃度(CR)的濃度比(Cp/Cr )優選在0.03~4的范圍內。
【具體實施方式】
[0025]下面，首先對本發明的用于形成透明被膜的涂布液進行具體說明。
[0026][用于形成透明被膜的涂布液]
[0027]在本發明的用于形成透明被膜的涂布液中，無機氧化物微粒和樹脂乳液分散于含 有水和有機溶劑中的至少一種的分散介質中。此時，涂布液的全部固體成分濃度在〇. 〇 3~ 70重量％的范圍內，無機氧化物微粒的濃度(&)以固體成分計在0.0009~56重量％的范圍 內，樹脂乳液的濃度(CR)以固體成分計在0.006~68重量％的范圍內。此時，無機氧化物微 粒使用堿金屬的固體成分濃度以氧化物(Me2〇)的總量計在1 OOOppm以下的高純度無機氧化 物微粒。無機氧化物微粒中的堿金屬總量超過1 OOOppm時，無機氧化物微粒無法在涂布液中 均勻分散，穩定性不足。因此，透明被膜的強度、耐擦傷性下降，霧度值升高。
[0028] 進而，無機氧化物微粒優選經過采用有機硅化合物和聚合物分散劑中的至少一種 進行的表面處理。此時，有機硅化合物相對于無機氧化物微粒以固體成分換算、作為R n-SiX(4-nV2是1~100重量％。如果有機硅化合物的量少，則與后述的涂布液中的樹脂乳液或 分散介質的親和性低、穩定性不足而無法在涂布液中均勻地分散。聚合物分散劑相對于無 機氧化物微粒以固體成分計在1~300重量％的范圍內存在。如果聚合物分散劑的量小于1 重量％，則與后述的用于形成透明被膜的涂布液中的樹脂乳液或分散介質的親和性低、穩 定性不足而無法在涂布液中均勻地分散。聚合物分散劑的量超過300重量％時，分散性也無 法進一步提尚。
[0029] 在無機氧化物微粒中使用單分散的無機氧化物微粒(A)、和一次粒徑3~30個連接 成鏈狀的鏈狀無機氧化物微粒(B)中的至少一種。此時，無機氧化物微粒(A)的平均粒徑 (Dpa)為3彡Dpa彡100nm，無機氧化物微粒(B)的平均一次粒徑(Dpb )為3彡Dpb彡50nm。
[0030] 涂布后的被膜的狀態根據涂布液中無機氧化物微粒的濃度而變化，但在無機氧化 物微粒(A)的平均粒徑(Dpa)小于3nm時，無機氧化物微粒(A)不規則地凝集而排列，使透明被 膜的霧度值升高，膜的強度、耐擦傷性、劃痕強度等變得不足。如果平均粒徑（Dpa)超過 100nm，則透明性變得不足，由于透明被膜的膜厚而使膜的強度也變得不足。鏈狀無機氧化 物微粒(B)的平均一次粒徑(Dpb)小于3nm時，不連接成鏈狀而是變成凝集粒子。如果平均一 次粒徑(Dpb )超過50nm，則難以得到鏈狀粒子。
[0031]下面，對構成涂布液的要素進行詳細說明。
[0032] 無機氧化物微粒
[0033]本發明中所使用的無機氧化物微粒可根據用途從迄今公知的無機氧化物微粒中 選擇。但是，無機氧化物微粒中所含有的堿金屬的固體成分濃度以氧化物(Me20)的總量計 必須在lOOOppm以下。作為Me，可例示鈉(Na)或鉀(K)或鋰(Li)。
[0034]無機氧化物微粒中的堿金屬總量超過lOOOppm時，可能由于共雜離子（日文:共雑 彳才乂)增多，無法在涂布液中均勻地分散，存在穩定性變得不足、無機氧化物微粒凝集的 情況。因此，存在透明被膜的強度或耐擦傷性降低、霧度值升高及導電性、反射率等性能變 得不足的情況。作為減少堿金屬的方法，可例示使用超濾膜或離子交換樹脂等的迄今公知 的洗凈方法。
[0035] 作為無機氧化物微粒，可例示選自Ti02、Zr02、Si02、Sb 2〇5、Zn02、Sn02、In2〇 3、摻銻氧 化錫(AT0)、摻錫氧化銦（IT0)、摻F氧化錫(FT0)、摻磷氧化錫(PT0)、摻鋁氧化鋅(AZ0)中的 至少一種、或它們的復合氧化物或混合物。可根據透明被膜的用途，從上述無機氧化物微粒 中適當選擇。具體而言，在形成高折射率膜等的場合下，Ti〇2、Zr〇2、Sb2〇5、Zn〇2、Sn〇2、In2〇3等 是合適的。在形成硬質涂層膜、低折射率膜、易粘接膜、防結塊膜等的場合下，Si0 2是合適 的。
[0036]特別是在以防反射為目的的低折射率膜方面，本
【申請人】的日本專利特開號公報、日本專利特開號公報中公開的內部具有空洞的二氧化硅中空 微粒是合適的。這是因為二氧化硅中空微粒是折射率約為1.10~1.40那么低的膠體范疇的 微粒，其分散性等優異。另外，二氧化硅中空微粒也適合作為隔熱膜。另外，內部不具有空洞 的二氧化硅微粒(有時也稱為二氧化硅實心微粒）內，較小粒子(粒徑約在1 〇〇nm以下）的二 氧化硅微粒使硬度上升，粒徑比它大的二氧化硅微粒則適于賦予抗結塊性。
[0037] 在防止干涉條紋的場合下，形成高折射率膜的Ti02是合適的。另外，在形成防帶電 膜的場合下，Sb 2〇5、In2〇3、摻銻氧化錫(AT0)、摻錫氧化銦（IT0)、摻F氧化錫(FT0)、摻磷氧化 錫(PT0)、摻鋁氧化鋅(AZ0)等由于具有導電性而適合。
[0038] 無機氧化物微粒優選是單分散的無機氧化物微粒(A)、和一次粒子連接成鏈狀的 鏈狀無機氧化物微粒(B)中的至少一種。這里，所謂單分散，是指粒子呈非凝集狀態。
[0039]無機氧化物微粒(A)的平均粒徑（Dpa)根據透明被膜的種類而異，但在3<DPA< 100nm的范圍內，優選在5<DpA<80nm的范圍內，進一步優選在8<DpA<80nm的范圍內。
[0040]涂布后的被膜的狀態根據涂布液中無機氧化物微粒的濃度而變化，但是在無機氧 化物微粒(A)的平均粒徑(Dpa)小于3nm的場合下，無機氧化物微粒(A)不規則地凝集而排列， 存在透明被膜的霧度值升高的情況，及膜的強度、耐擦傷性、劃痕強度等變得不足的情況。 另外，在上述二氧化硅中空微粒的場合下，存在二氧化硅類中空微粒內部的空洞比例小、折 射率無法在1.40以下的情況，及防反射性能變得不足的情況。另外，在AT0或IT0等結晶性導 電粒子的場合下，結晶性會變得不充分，導電性會變得不足。如果平均粒徑(Dpa)超過lOOnm， 則透明性會變得不足。還存在膜的強度也會由于透明被膜的厚度而變得不足的情況。而且， 由于透明被膜的表面形成高密度的凹凸而存在霧度值升高的情況，及耐擦傷性、劃痕強度 變得不足的情況。
[00411另外，鏈狀無機氧化物微粒(B)的平均一次粒徑(Dpb )優選在3 < Dpb < 50nm的范圍 內，進一步優選在5<DpB<30nm的范圍內，這樣的一次粒子的平均連接數優選在3~30個的 范圍內，進一步優選在5~20個的范圍內。
[0042]涂布后的被膜的狀態根據涂布液中鏈狀無機氧化物微粒的濃度而變化，但是鏈狀 無機氧化物微粒(B)在平均粒徑(Dpb)小于3nm時不連接成鏈狀而是成為凝集粒子，存在透明 被膜的霧度值升高的情況，及膜的強度、耐擦傷性、劃痕強度等變得不足的情況。如果平均 一次粒徑(Dpb)超過50nm，則難以獲得鏈狀粒子，即使獲得了鏈狀粒子，也存在鏈狀粒子為長 鏈、透明被膜的霧度值升高的情況，及膜的強度、耐擦傷性、劃痕強度等變得不足的情況。
[0043] 用于形成透明被膜的涂布液中的無機氧化物微粒的濃度(CP)以固體成分計優選 在0.0009~56重量％的范圍內，進一步優選在0.03~40重量％的范圍內。濃度(C P)如果太 低，則與基材的密合性、膜強度、表面平坦性、耐擦傷性、劃痕強度等會變得不足。而且，存在 無法充分獲得所需效果(導電性能、防反射性能等）的情況。濃度(C P)如果太高，則由于粒子 過多，除了密合性、膜強度、耐擦傷性、劃痕強度等變得不足以外，還存在透明被膜的霧度值 升高的情況。而且，還會由于拉伸時涂膜的伸展追不上基材的拉伸而產生裂紋。
[0044] 涂布液中還可含有無機氧化物微粒(C)。另外，也可含有無機氧化物微粒(C)來取 代無機氧化物微粒(A)和鏈狀無機氧化物微粒(B)中至少一方的一部分。
[0045] 無機氧化物微粒(C)的平均粒徑(Dpc)在100<DP<500nm的范圍內，優選在100< Dpc<400nm的范圍內，進一步優選在100<Dpc$300nm的范圍內。通過添加無機氧化物微粒 (C)，能夠在透明被膜表面上形成凸部，因此可得到充分的抗結塊性。
[0046] 涂布后的被膜的狀態根據涂布液中無機氧化物微粒的濃度而變化，但在無機氧化 物微粒(C)的平均粒徑(DPC)小于100nm時，透明被膜的膜厚變得更薄，存在無法在透明被膜 表面上形成凸部的情況，在利用后文所述的具有透明被膜的基材的制造方法來對用于形成 透明被膜的涂布液進行涂布、干燥、然后固化后再卷取具有透明被膜的基材的場合下，透明 被膜的表面與之后卷取得到的具有透明被膜的基材的基材之間密合(有時也稱為結塊），存 在之后的使用中難以剝離的情況。如果平均粒徑(D PC)超過500nm，則除了膜的透明性會降 低、膜霧度值會升高、透射率會降低以外，表面的凹凸會變得過大導致耐擦傷性等膜的硬度 降低。
[0047] 用于形成透明被膜的涂布液中的無機氧化物微粒(C)的濃度(Cpc)以固體成分計優 選在0.000003~3重量％的范圍內，進一步優選在0.000015~1.5重量％的范圍內。濃度 (C PC)小于0.000003重量％時，在使用用于形成透明被膜的涂布液而得到的涂膜的表面上形 成的凸部的密度過低，存在無法得到充分的抗結塊性的情況。如果濃度(C PC)超過3重量％， 則在涂膜表面上形成的凸部的密度過高，存在透明性、耐擦傷性、防反射性能變得不足的情 況。
[0048] 這里，無機氧化物微粒優選經過采用有機硅化合物和聚合物分散劑中的至少一種 進行的表面處理。有機硅化合物能夠提高無機氧化物微粒與樹脂乳液之間的親和性。另一 方面，聚合物分散劑不僅能夠和上述一樣地提高親和性，還能夠抑制由于拉伸而在填料、粘 合劑之間產生空隙，在拉伸倍率高時特別適合。
[0049]在表面處理時使用水的場合下，優選在表面處理后置換成有機溶劑，形成經過表 面處理的無機氧化物粒子的有機溶劑分散液。籍此，可提高涂膜中無機氧化物微粒在樹脂 中的分散性。作為有機溶劑，優選使用與后文所述的用于形成透明被膜的涂布液相同的有 機溶劑。
[0050]下面，對使用（i)有機硅化合物、（i i)聚合物分散劑來對無機氧化物微粒進行表面 處理的場合進行說明。
[0051 ] (i)有機硅化合物
[0052] 可使用以下式（1)表示的有機硅化合物。
[0053] Rn-SiX4-n (1)
[0054] (式中，R為碳數1~10的非取代或取代的烴基，彼此可相同或不同。X:碳數1~4的 烷氧基、硅烷醇基、鹵素、氣，n:0~3的整數）
[0055] 式（1)中，在n為1~3的場合下，優選使用具有能與后述樹脂乳液的官能團發生反 應的有機官能團的有機硅化合物。例如，在使用具有環氧基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基、異氰 酸酯基等的樹脂作為樹脂乳液的場合下，作為有機硅化合物，優選使用具有環氧丙氧基、甲 基丙稀醜氧基、丙基醜氧基、乙烯基、異氛酸酯基、脈基、氣基等官能團的有機娃化合物。如 果使用利用這種有機硅化合物進行過表面處理的無機氧化物微粒，則能夠形成膜強度、耐 擦傷性、劃痕強度等方面優異的透明被膜。
[0056]無機氧化物微粒的表面處理可采用迄今公知的方法，例如，向無機氧化物微粒的 醇分散液中加入規定量的有機硅化合物，向其中加入水，根據需要加入作為水解用催化劑 的酸或堿而進行水解。此時，相對于無機氧化物微粒，有機硅化合物按固體成分換算、作為 Rn-SiX(4-n)/2在1~100重量％的范圍內，優選在2~80重量％的范圍內，進一步優選在5~70 重量％的范圍內。
[0057]如果有機硅化合物的量少，則與后述用于形成透明被膜的涂布液中的樹脂乳液或 分散介質之間的親和性低且穩定性不足，無法均勻地在涂布液中分散，根據場合存在無機 氧化物微粒凝集的情況，及透明被膜的強度、耐擦傷性降低且霧度值升高、導電性、反射率 等性能變得不足的情況。有機硅化合物的量即使過多，也不能進一步提高分散性，在二氧化 硅中空微粒的場合下存在折射率上升、防反射性能變得不足的情況，在導電性微粒的場合 下存在防帶電性能變得不足的情況。
[0058] (ii)聚合物分散劑
[0059] 作為本發明所使用的分散介質，只要是能夠不溶解樹脂乳液而維持乳液、能夠溶 解或分散后述交聯劑或聚合引發劑且能夠分散無機氧化物微粒的分散介質即可。
[0060] 具體而言，可使用聚乙烯、聚丙烯酸、聚羧酸、聚氨酯等公知的聚合物分散劑。更具 體而言，作為聚乙烯聚合物，可使用聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙酸乙烯酯、聚乙烯酯等 及其共聚物;作為聚丙烯酸聚合物，可使用聚丙烯酸、聚丙烯酸鈉、聚丙烯酸銨等及其共聚 物;作為聚羧酸聚合物，可使用聚羧酸、聚羧酸鈉、聚羧酸銨等及其共聚物;作為聚氨酯聚合 物，可使用聚氨酯等及其共聚物等;還可使用這些共聚物或磺酸聚合物的共聚物等。
[0061] 如果使用聚合物分散劑，則能夠降低拉伸后的霧度值。聚合物分散劑的量相對于 無機氧化物微粒以固體成分計優選為1~300重量％，進一步優選為1~100重量％。如果聚 合物分散劑的量小于1重量％，則與后述用于形成透明被膜的涂布液中的樹脂乳液或分散 介質之間的親和性低且穩定性不足，無法均勻地在涂布液中分散，根據場合存在無機氧化 物微粒凝集的情況，及透明被膜的強度、耐擦傷性降低且霧度值升高、導電性、反射率等性 能變得不足的情況。聚合物分散劑的量超過300重量％時，也不能進一步提高分散性，在二 氧化硅中空微粒的場合下存在折射率上升、防反射性能變得不足的情況，在導電性微粒的 場合下存在防帶電性能變得不足的情況。
[0062]另外，本發明的聚合物分散劑的分子量優選為1000~100000,進一步優選為5000 ~50000。分子量小于1000時，由于聚合物分散劑追不上拉伸，因此在拉伸倍率高時拉伸后 會產生空隙、霧度值升高。分子量超過100000時，無機氧化物微粒會凝集、膜的霧度值會上 升。
[0063] 樹脂乳液
[0064] 樹脂乳液是由有機樹脂以小液滴的狀態、即乳液狀態穩定地分散在分散介質中而 成的，樹脂可以是熱塑性樹脂、熱固型(包括電子束固化型)樹脂中的任一種，既可以是由親 油性樹脂分散在水或醇等親水性溶劑中而成的樹脂乳液，也可以是由與水具有親和性的親 水性樹脂分散在極性低的親油性溶劑中而成的樹脂乳液。這意味著這樣的樹脂乳液具有樹 脂不溶于分散介質中、而是形成乳液的非相容性。另外，乳液的小液滴狀態維持到形成被膜 時，在本發明中也維持到拉伸時。
[0065] 在親油性分散介質的場合下，使用與水具有親和性的親水性樹脂(A)，在親水性分 散介質的場合下，使用與水不具有親和性的親油性樹脂(B)。
[0066] 作為與水具有親和性的樹脂(A)，可例舉選自環氧樹脂、聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、 聚酰胺樹脂、聚苯醚樹脂、氯乙烯樹脂、氟樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、有機硅樹脂、聚氨酯樹脂、 三聚氰胺樹脂、丁縮醛樹脂、酚醛樹脂、不飽和聚酯樹脂、這些樹脂中的兩種以上的共聚物 或改性體中的至少一種;作為與水不具有親和性的樹脂(B)，可使用選自有機硅樹脂、聚氨 酯樹脂、熱塑性丙烯酸樹脂、熱固型丙烯酸樹脂、紫外線固化型丙烯酸樹脂中的至少一種。
[0067] 從環境負擔的觀點考慮，使用與水不具有親和性的樹脂(B)和親水性分散介質的 樹脂乳液為宜。
[0068] 另外，樹脂(B)為了形成乳液，其自身可以具有羧基、磺酰基、氨基、磷酰基、羥基以 及其它衍生物等的官能團，也可以具有用于在樹脂之間或樹脂與表面處理有機硅化合物進 行交聯的任意官能團，例如環氧基、碳二亞胺基、異氰酸酯基、丙烯酰基、乙烯基等。其中，聚 氨酯樹脂、PVA樹脂、丙烯酸樹脂由于制得的膜是透明的且這些樹脂是熱塑性樹脂，因而優 選使用。
[0069] 具體而言，優選使用ADEKA株式會社(ADEKA(株））制造的"ADEKA B0NTIGHTER(7x 力求^夕彳夕一)"系列、DIC株式會社制造的"B0NDIC(求'名/夕）"系列、"HYDRAN(/、彳K yW"系列、日本聚氨酯工業株式會社（日本工業(株））制造的"MIRACTRANG 7外歹系列、拜爾公司（八彳工少社）制造的"MPRANIL(彳^7°歹二一少)"系列、日本 Soflan株式會社（日本y 7(株））制造的"Soflanate( y 7歹專一卜)"系列、花王株式會 社（花王（株））制造的"P0IZ"系列、三洋化成工業株式會社（三洋化成工業（株））制造的 3八即1^呢（甘^7\^)"系列、保土谷化學工業株式會社（保土谷化學工業（株））制造的 "Ai ZeraX(ア彳七yックス）"系列、第一工業制藥株式會社（第一工業製薬（株））制造的 "SUPERFLEX(只一八一 7 只）"系列、"ELASTR0N(工歹只卜口 ^)"系列、Zeneca株式會社 (七氺力（株））制造的"NeoRez(氺才系列等以水為分散介質的聚氨酯樹脂乳液。
[0070] 這樣的樹脂乳液呈大致球狀，但其直徑優選在10~500nm的范圍內，進一步優選在 20~300nm的范圍內。樹脂乳液的徑小于10nm的乳液難以獲得，而且即使獲得，硬化時的收 縮也大，會產生裂紋。如果樹脂乳液的徑大于500nm，則無機氧化物微粒變得難以均勻分散， 面內反射率上會產生膜不均，外觀會變差。
[0071] 在樹脂乳液的徑(直徑)測定中使用動態散射粒徑測定裝置(FPAR-1000,大塚電子 株式會社(大塚電子社)制造）。
[0072] 用于形成透明被膜的涂布液中的樹脂乳液的濃度(CR)以固體成分計優選在0.006 ~68重量％的范圍內，進一步優選在0.2~49重量％的范圍內。如果以固體成分計的濃度 (C R)低，則由于樹脂少而無機氧化物微粒過多，存在膜強度、耐擦傷性、劃痕強度等變得不 足的情況。還存在拉伸時透明被膜的伸展不均而產生裂紋的情況。濃度(C R)太高，除了與基 材的密合性、膜強度、表面平坦性、耐擦傷性、劃痕強度等變得不足以外，還由于無機氧化物 微粒變少而存在無法得到充分的導電性能、防反射性能等的情況。
[0073] 涂布液中無機氧化物微粒的濃度(Cp )與樹脂乳液濃度(CR)的濃度比（Cp/Cr )根據 透明被膜的用途?用法而異，但優選在0.03~4的范圍內。另外，作為透明被膜的用途，可例 舉硬質涂層、防帶電、易粘接性、防反射、抗結塊性、隔熱性等，根據這些用途來設定合適的 優選范圍。
[0074] 具體而言，在硬質涂層膜的場合下，（Cp/Cr)優選在0.1~4的范圍內，進一步優選在 0.25~2.4的范圍內。如果在該范圍內，則能夠形成與基材的密合性、膜強度、表面平坦性、 耐擦傷性、劃痕強度等方面優異的透明性硬質涂層膜。
[0075]在防帶電膜的場合下，（Cp/Cr)優選在0.03~2.4的范圍內，進一步優選在0.05~1 的范圍內。如果在該范圍內，則能夠形成與基材的密合性、膜強度、防帶電性(導電性)方面 優異且表面平坦性、耐擦傷性、劃痕強度等方面優異的透明性防帶電膜。
[0076]在易粘接性層的場合下，（Cp/Cr)優選在0.03~1的范圍內，進一步優選在0.05~ 0. 25的范圍內。如果在該范圍內，則能夠在不損害設置于基材和上層上的其它功能性膜的 功能的條件下，形成與基材的密合性方面優異的易粘接性層。
[0077]另外，在易粘接性層的場合下，還可以進一步含有無機氧化物微粒(C)。另外，也可 用無機氧化物微粒(C)來取代無機氧化物微粒(A)和鏈狀無機氧化物微粒(B)中至少一方的 一部分。通過使用無機氧化物微粒(C)，能夠形成抗結塊性方面優異的易粘接性層。
[0078] 另外，作為無機氧化物微粒，如果在未用上述有機硅化合物對其進行表面處理的 條件下使用，則無機氧化物微粒呈現出適度的凝集狀態，能夠通過光的散射而抑制干涉條 紋。或者，也可通過對作為無機氧化物微粒的粒子進行選擇以使所得到的易粘接性層的折 射率與基材的折射率相接近來抑制干涉條紋。
[0079] 在防反射膜的場合下，（CP/CR)優選在0.1~4的范圍內，進一步優選在0.25~2.4的 范圍內。如果在該范圍內，則能夠形成與基材的密合性、膜強度、防反射性能方面優異的透 明性防反射膜。
[0080] 在抗結塊性膜的場合下，還可以進一步含有無機氧化物微粒(C)。另外，也可用無 機氧化物微粒(C)來取代無機氧化物微粒(A)和鏈狀無機氧化物微粒(B)中至少一方的一部 分。通過使用無機氧化物微粒(C)，能夠形成易粘接性層。在該場合下，如果(Cp/Cr)在0.03~ 1、 進一步在〇. 05~0.25的范圍內，則能夠形成與基材的密合性、膜強度等方面優異的透明 性抗結塊性膜。
[0081 ]在隔熱膜的場合下，（Cp/Cr)優選在0.1~4的范圍內，進一步優選在0.25~2.4的范 圍內。如果在該范圍內，則能夠形成與基材的密合性、膜強度、表面平坦性、耐擦傷性、劃痕 強度等方面優異的透明性隔熱膜。
[0082] 分散介質
[0083] 作為分散介質，必須是不溶解樹脂乳液而能夠使其以乳液狀態分散的溶劑。例如， 可使用水或有機溶劑。另外，只要能夠溶解或分散后文所述的交聯劑或聚合引發劑且能夠 分散無機氧化物微粒，就不作特別的限定。
[0084] 具體而言，可例舉:水，甲醇、乙醇、丙醇、2-丙醇（IPA)、丁醇、二丙酮醇、糠醇、四氫 糠醇、乙二醇、己二醇、異丙二醇等醇類，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯類，二乙醚、乙 二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、丙二醇單甲 醚等醚類，丙酮、甲乙酮、甲基異丁基酮、乙酰丙酮、丙酮酸酯等酮類，甲基溶纖劑、乙基溶纖 劑、丁基溶纖劑，甲苯，環己酮，異佛爾酮，N，N_二甲基甲酰胺等。其中，水和醇類是合適的。
[0085] 交聯劑
[0086] 涂布液中可根據需要添加交聯劑。交聯劑在樹脂乳液的樹脂為熱塑性樹脂的場合 下使用。作為交聯劑，只要是具有與樹脂乳液所具有的活性基團發生反應的官能團的化合 物就不作特別限定，可根據樹脂從迄今公知的交聯劑中進行適當選擇而使用，可使用以水 為分散介質的環氧化合物、氨基化合物、異氰酸酯化合物、碳二亞胺化合物等。
[0087] 交聯劑的添加量不作特別限定，交聯劑的添加量根據樹脂乳液的種類而異，但相 對于以固體成分計為1〇〇重量％的樹脂乳液，交聯劑以固體成分計優選在200重量％以下， 進一步優選在10~100重量％的范圍內。如果交聯劑的添加量少，則根據樹脂乳液的種類， 透明被膜的固化會變得不充分。如果交聯劑的添加量過多，則存在涂布液的穩定性變得不 足的情況，及所得到的透明被膜上產生裂紋的情況。
[0088] 聚合引發劑
[0089] 涂布液中在固化型樹脂的場合下可根據需要添加聚合引發劑。作為聚合引發劑， 只要能夠使樹脂乳液聚合、固化，就不作特別的限定，可根據樹脂進行適當選擇。
[0090] 例如，可例舉偶氮腈或偶氮酰胺等偶氮化合物、過氧化苯甲酰或過氧化甲乙酮等 有機過氧化物。
[0091] 聚合引發劑的添加量根據樹脂乳液的種類而異，但相對于以固體成分計為100重 量％的樹脂乳液，聚合引發劑以固體成分計優選在200重量％以下，進一步優選在10~100 重量％的范圍內。如果聚合引發劑的使用量少，則透明被膜的固化會變得不充分。如果聚合 引發劑的添加量過多，則存在涂布液的穩定性變得不足的情況，及所得到的透明被膜上產 生裂紋的情況。
[0092]用于形成透明被膜的涂布液的全部固體成分濃度優選在0.03~70重量％的范圍 內，進一步優選在1~50重量％的范圍內。
[0093] 如果涂布液的固體成分濃度過低，則難以調整膜厚，且容易在干燥狀態下產生不 均。另外，在涂布液涂布之后拉伸基材膜的場合下存在難以得到所需膜厚的情況，及伴有裂 紋產生的情況。如果用于形成透明被膜的涂布液的固體成分濃度過高，則由于穩定性降低、 涂布性降低，存在所得到的透明被膜與基材的密合性、膜強度、耐擦傷性、劃痕強度等變得 不足的情況。特別是由于涂布液的粘度升高，存在難以進行追上基材拉伸的均勻涂布、難以 在涂布后的拉伸時對涂膜進行均勻地拉伸的情況，及產生斑點或膜不均(海島結構）、產生 裂紋的情況。
[0094] 下面，對使用上述涂布液來制造具有膜的基材的方法進行說明。
[0095][具有透明被膜的基材的制造方法]
[0096] 本發明的具有透明被膜的基材的制造方法包括涂布涂布液的工序和拉伸基材膜 的工序。具體而言，只要是（1)在將涂布液涂布至基材上之后涂膜干燥之前對具有涂膜的基 材進行拉伸的方法、和(2) -邊拉伸基材一邊涂布涂布液的方法，就不對涂布液的涂布次數 或拉伸的方向或次數作特別規定。進一步具體地例舉方法，可舉出以下四種形態。
[0097] ?第一形態
[0098] 第一形態中，在涂布工序后進行雙軸拉伸工序。
[0099] 即，依次進行以下工序：
[0100] (a)在樹脂膜基材上涂布涂布液的工序；
[0101] (b)對具有涂膜的樹脂膜進行雙軸(縱和橫)拉伸的工序；
[0102] (c)去除(干燥)涂膜中所含有的分散介質的工序；
[0103] (d)進行固化的工序。
[0104] 工序(a)
[0105] 在樹脂膜基材上涂布上述涂布液。這里，使用拉伸前的基材。拉伸前的基材的厚度 通常在400~5000M1的范圍內。具體而言，可例舉:聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二 醇酯等聚酯基材，聚乙烯膜、聚丙烯膜、環狀聚烯烴膜等聚烯烴基材，尼龍-6、尼龍-66等聚 酰胺基材，以及聚丙烯酸膜、聚氨酯膜、聚碳酸酯膜、聚醚膜、聚醚砜膜、聚苯乙烯膜、聚甲基 戊烯膜、聚醚酮膜、丙烯腈膜等基材。特別是聚酯基材或聚丙烯酸膜由于耐熱性方面優異且 透明性高而可優選使用。
[0106]涂布液的涂布方法可采用噴霧法、旋涂法、輥涂法、棒涂法、狹縫涂布印刷法、凹版 印刷法、微凹版印刷法等公知方法。在本發明中推薦使用輥涂法、狹縫涂布印刷法、凹版印 刷法、微凹版印刷法。
[0107]此時的涂布量是涂布至拉伸后的透明被膜的厚度達到所需厚度。例如，在易粘接 層或抗結塊性膜的場合下，涂布至平均膜厚（Tf)達到10~2000nm、優選20~800nm為好。在 防反射膜的場合下，涂布至平均膜厚(Tf)達到80~400nm、優選90~300nm為好。在硬質涂層 膜的場合下，涂布至平均膜厚(Tf)達到0.5~30mi、優選1~lOym為好。在防帶電膜的場合 下，涂布至平均膜厚（Tf)達到1~20wii、優選3~15wii為好。在隔熱膜的場合下，涂布至平均 膜厚(Tf)達到1~300wii、優選5~lOOwii為好。
[0108] 工序(b)
[0109] 對具有涂膜的樹脂膜進行拉伸。拉伸方法可采用雙軸拉伸法。此時，拉伸后的基材 的厚度通常優選在20~200wii的范圍內。這里，所謂雙軸拉伸，是指對具有涂膜的基材沿著 卷取(輥)的方向進行拉伸(縱軸拉伸），同時還沿著與之垂直的方向進行拉伸(橫軸拉伸）。
[0110] 工序(c)
[0111] 作為干燥方法，只要能夠去除涂布液的分散介質就不作特別限定。例如，可進行風 干，但也可利用加熱對形成有涂膜的樹脂膜進行干燥。加熱溫度約為50~200°C，時間約為1 秒~1小時。
[0112] 工序⑷
[0113] 使涂膜固化的方法根據涂布液中所用的樹脂乳液的種類而異，但在使用熱固型樹 脂的場合下進行加熱固化，在使用紫外線固化型樹脂的場合下進行紫外線照射，可根據需 要采用加熱等迄今公知的方法。在熱塑性樹脂的場合下通過加熱后的冷卻來進行固化。
[0114] ?第二形態
[0115] 第二形態中，在對經過縱軸拉伸的基材進行涂布工序后進行橫軸拉伸工序。
[0116] 即，依次進行以下工序：
[0117] (a'）在經過縱軸拉伸的樹脂膜基材上涂布涂布液的工序；
[0118] (b'）對具有涂膜的樹脂膜進行橫軸拉伸的工序；
[0119] (c)去除(干燥)涂膜中所含有的分散介質的工序；
[0120] (d)進行固化的工序。
[0121] 工序(a，)
[0122] 在經過縱軸拉伸的樹脂膜基材上涂布上述用于形成透明被膜的涂布液。經過拉伸 的基材的厚度通常在40~500wii的范圍內。基材使用第一形態中所述的基材，涂布液的涂布 方法也使用相同的方法。此時的涂布量以涂布至最終得到的透明被膜的平均膜厚(Tf)達到 上述范圍為好。
[0123] 工序(b，）
[0124] 對具有涂膜的樹脂膜進行橫軸拉伸。此時，拉伸至拉伸后的基材的厚度達到通常 20~200iim的范圍。
[0125] 工序(c)和工序(d)與第一形態相同。
[0126] ?第三形態
[0127] 第三形態中，同時進行涂布工序和縱軸拉伸工序。
[0128] 即，依次進行以下工序：
[0129] (a"）一邊進行縱軸拉伸基材一邊在樹脂膜基材上涂布涂布液的工序；
[0130] (b"）對具有涂膜的樹脂膜進行橫軸拉伸的工序；
[0131] (c)去除(干燥)涂膜中所含有的分散介質的工序；
[0132] (d)進行固化的工序。
[0133] 工序(a，，)
[0134] -邊進行縱軸拉伸基材一邊在樹脂膜基材上涂布上述涂布液。
[0135] 基材的拉伸方法與第二形態的縱軸拉伸方法相同。基材使用第一形態中所述的基 材，涂布液的涂布方法也使用相同的方法。此時的涂布量是涂布至最終得到的透明被膜的 平均膜厚(Tf)達到上述范圍為好。
[0136] 工序(b，，)
[0137] 對具有涂膜的樹脂膜進行橫軸拉伸。此時，拉伸至拉伸后的基材的厚度達到通常 20~200iim的范圍。
[0138] 工序(c)和工序(d)與第一和第二形態相同。
[0139] ?第四形態
[0140] 第四形態中，同時進行涂布工序和雙軸拉伸工序。
[0141] 即，依次進行以下工序：
[0142] (a" '）一邊對基材進行雙軸(縱軸和橫軸)拉伸一邊在基材上涂布涂布液的工序；
[0143] (c)去除(干燥)涂膜中所含有的分散介質的工序；
[0144] (d)使涂膜固化的工序。
[0145] 工序(a，，，)
[0146] -邊對基材進行雙軸拉伸一邊在樹脂膜基材上涂布上述涂布液。拉伸方法采用雙 軸拉伸法。此時，拉伸后的基材的厚度在通常20~200wii的范圍內為好。基材使用第一形態 中所述的基材，涂布液的涂布方法也使用相同的方法。此時的涂布量是涂布至最終得到的 透明被膜的平均膜厚(Tf)達到上述范圍為好。
[0147] 工序(c)和工序(d)與第一~第三形態相同。
[0148] 籍此，可制造本發明的具有透明被膜的基材。
[0149] 所得到的透明被膜的平均膜厚（Tf)根據透明被膜的種類而異，優選在上述范圍 內。例如，在具有防反射膜的基材的場合下，防反射膜的平均膜厚(T F)小于80nm時，存在防 反射膜的強度、耐擦傷性變得不足的情況，還會無法得到所需的反射率。如果平均膜厚(Tf) 超過400nm，則防反射膜上容易產生裂紋，并因此存在防反射膜的強度變得不足的情況，及 由于膜太厚而防反射性能變得不足的情況。如果防反射膜的平均膜厚(Tf)在上述范圍內， 則能夠得到反射率(底部反射率、視覺反射率)低、且膜強度等方面優異的防反射膜。
[0150]本發明中，透明被膜的平均膜厚（Tf)可通過利用透射型電子顯微鏡(TEM)對透明 被膜的截面進行拍攝來測定。
[0151]透明被膜中無機氧化物微粒的含量優選在3~80重量％的范圍內，進一步優選在5 ~70重量％的范圍內。透明被膜中無機氧化物微粒的含量小于3重量％時，除了與基材的密 合性、膜強度、表面平坦性、耐擦傷性、劃痕強度等變得不足以外，在防反射膜的場合下還存 在折射率的降低不充分、防反射性能變得不足的情況。如果透明被膜中無機氧化物微粒的 含量超過80重量％，則除了由于粒子太多而使膜強度、耐擦傷性、劃痕強度等變得不足以 外，在防反射膜的場合下還存在霧度值升高的情況。還會由于拉伸時透明被膜的伸展追不 上基材的拉伸而產生裂紋。
[0152]來自透明被膜中樹脂乳液的樹脂的含量優選在20~97重量％的范圍內，進一步優 選在30~95重量％的范圍內。本發明人認為，其理由是樹脂乳液至少在干燥前為止在涂膜 中維持了小液滴狀，因此，即使基材在拉伸時受到拉扯，也能夠與之相應地在涂膜中進行移 動或形變。然后，該小液滴狀通過之后的干燥、固化處理而熔融、固化，從而整體成膜。
[0153] 如果以固體成分計的來自透明被膜中樹脂乳液的樹脂的含量低，則樹脂少，除了 膜強度、耐擦傷性、劃痕強度等變得不足以外，還由于粒子多而存在透明被膜的霧度值升高 的情況。還會由于拉伸時透明被膜的伸展追不上基材的拉伸而產生裂紋。如果來自透明被 膜中樹脂乳液的樹脂的含量過多，則粒子少，除了與基材的密合性、膜強度、表面平坦性、耐 擦傷性、劃痕強度等變得不足以外，還存在無機氧化物微粒少而透明被膜的功能變得不足 的情況。
[0154] 下面，通過實施例對本發明進行說明，但本發明并不局限于這些實施例。
[0155] [實施例1]
[0156] 用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-1P)的配制
[0157] 使用超濾膜將硅溶膠（日揮觸媒化成株式會社（日揮觸媒化成（株））制造： Cataloid-SN(力夕口彳K 一SN)，平均粒徑為12nm，Si02濃度為20重量％，分散介質為水）中 的分散介質置換為乙醇，配制成固體成分濃度為20重量％的二氧化硅微粒(H-1V)的醇分散 液。
[0158] 向100g固體成分濃度為20重量％的二氧化硅微粒(H-1V)的醇分散液中加入4g硅 烷偶聯劑（甲基三甲氧基硅烷，信越化學株式會社(信越化學(株））制造:KBM-13)，在50°C下 進行加熱處理，配制成固體成分濃度為20重量％的表面處理二氧化硅微粒(H-1VS)的醇分 散液。使用旋轉蒸發器將分散介質置換為水，配制成固體成分濃度為40.5重量％的表面處 理二氧化硅微粒(H-l VS)的水分散液。此時堿濃度為200ppm。
[0159] 接著，在10.0g表面處理二氧化硅微粒(H-1VS)的水分散液中混合11.4g聚氨酯樹 脂乳液(第一工業制藥株式會社:SUPERFLEX 210,樹脂濃度為35重量％，乳液直徑:50nm，分 散介質：水）、5.3g異丙醇而配制成固體成分濃度為30.0重量％的用于形成硬質涂層膜的涂 布液(H-1P)。
[0160] 具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-1F)的制造
[0161] 相對于100重量％的對苯二甲酸二甲酯，加入70重量％的乙二醇、和0.01重量％的 作為酯交換催化劑的乙酸鈣、0.03重量％的作為縮聚催化劑的三氧化銻，升溫至220°C，餾 去理論上的甲醇，完成酯交換反應。然后，向體系中添加0.04重量％的磷酸三甲酯。對體系 內進行減壓，在ImmHg的減壓下、于290°C的溫度進行4小時的縮聚反應，制得聚酯樹脂。
[0162] 在295°C下利用擠出機將所得到的聚酯樹脂制成片狀，制得基材用聚酯樹脂膜 (1)。聚酯樹脂膜（1)的厚度為1125wii。對該聚酯樹脂膜（1)進行縱軸拉伸（140°C，2.5倍拉 伸）之后，利用棒涂法(棒#60)涂布用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-1P)，在140°C下進行 120秒的干燥之后，進行橫軸拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有硬質涂層膜的拉伸膜基材 (H-1F)。此時，膜基材的厚度為lOOwii，硬質涂層膜的膜厚為5mi。
[0163] 對所得到的具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-1F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均（海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以及耐擦傷性進行測 定，結果示于表中。利用霧度計(須賀試驗機株式會社（只力'試験機(株））制造)來測定總光 線透射率和霧度。
[0164] 另外，僅將基材用聚酯樹脂膜（1)以相同的方式拉伸至lOOwii的厚度，總光線透射 率為93.14%，霧度值為0.27%。
[0165] 鉛筆硬度
[0166] 鉛筆硬度按照JISK 5400利用鉛筆硬度試驗器來測定。即，以相對于硬質涂層膜表 面呈45度的角度設置鉛筆，施加規定的負荷、以固定速度進行拉拽，觀察有無損傷。
[0167] 密合性
[0168] 用刀在具有硬質涂層膜的基材(H-1F)上以橫豎1mm的間隔劃刻出11條平行的傷痕 以形成100個網格，在其上黏貼玻璃紙膠帶，然后，將剝離玻璃紙膠帶時被膜未剝離而殘留 的網格數分成以下的三個等級，藉此對密合性進行評價。結果示于表中。
[0169] 殘留網格數在90個以上：◎
[0170] 殘留網格數在85~89個之間：〇
[0171] 殘留網格數在84個以下：A
[0172] 膜不均(海島結構)
[0173] 通過目視對表面進行觀察，按照以下的基準來進行評價。
[0174] 無法確認到表面上不均狀的外觀缺陷。：◎
[0175] 幾乎無法確認到表面上不均狀的外觀缺陷。：〇
[0176] 略微觀察到表面上不均狀的外觀缺陷。：A
[0177] 明顯觀察到表面上不均狀的外觀缺陷。：X
[0178] 盤
[0179] 利用電子顯微鏡對表面進行觀察，按照以下的基準來進行評價。
[0180] 完全沒有觀察到裂紋。：◎
[0181] 略微觀察到細微裂紋。：〇
[0182] 明顯觀察到細微裂紋。：A
[0183] 觀察到細微裂紋和大裂紋。：X
[0184] 膜表面的平坦性
[0185] 表面平坦性(Ra)利用日立高科技株式會社（（株）日立/、彳于夕甘彳工^只社）制 造的原子力顯微鏡(AFM)來測定，按照以下的基準來進行評價。
[0186] Ra 值小于 10nm:?
[0187] Ra值在10nm以上且小于20nm:〇
[0188] Ra值在20nm以上且小于50nm: A
[0189] Ra 值在 50nm 以上：X [0190] 耐擦傷性的測定
[0191] 使用#0000鋼絲絨以500g/cm2的負荷滑動50次，對膜的表面進行目視觀察，按照以 下的基準來進行評價，結果示于表中。
[0192] 未見線條傷痕:◎
[0193] 略見線條傷痕：〇
[0194] 見大量線條傷痕:A
[0195] 表面被整體刮削：X
[0196] [實施例2]
[0197] 用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-2P)的配制
[0198] 在5.9g按照與實施例1相同的方式配制成的表面處理二氧化硅微粒(H-1VS)的水 分散液中混入16.0g聚氨酯樹脂乳液(第一工業制藥株式會社:SUPERFLEX 210，樹脂濃度為 35重量％，乳液直徑:50nm，分散介質：水）、4.7g異丙醇，配制成固體成分濃度為30.0重量％ 的用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-2P)。 _9] 具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-2F)的制造
[0200]除了用(H-2P)替代(H-1P)作為用于形成硬質涂層膜的涂布液以外，按照與實施例 1相同的方式制得具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-2F)。此時，膜基材的厚度為lOOwii，硬質 涂層膜的膜厚為4.8wii。
[0201 ]對所得到的具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-2F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均（海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以及耐擦傷性進行測 定，結果不于表中。
[0202][實施例3]
[0203] 用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-3P)的配制
[0204]在13.8g按照與實施例1相同的方式配制成的表面處理二氧化硅微粒(H-1VS)的水 分散液中混入6.9g聚氨酯樹脂乳液(第一工業制藥株式會社：SUPERFLEX 210，樹脂濃度為 35重量％，乳液直徑:50nm，分散介質：水）、6.0g異丙醇，配制成固體成分濃度為30.0重量％ 的用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-3P)。
[0205] 具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-3F)的制造
[0206]除了在實施例1中用(H-3P)替代(H-1P)作為用于形成硬質涂層膜的涂布液以外， 按照相同的方式制得具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-3F)。此時，膜基材的厚度為lOOwii， 硬質涂層膜的膜厚為5.4wii。
[0207]對所得到的具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-3F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均（海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以及耐擦傷性進行測 定，結果不于表中。
[0208][實施例4]
[0209] 用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-4P)的配制
[0210]在10.0g按照與實施例1相同的方式配制成的表面處理二氧化硅微粒(H-1VS)的水 分散液中混入11.4g聚氨酯樹脂乳液(第一工業制藥株式會社:SUPERFLEX 210，樹脂濃度為 35重量％，乳液直徑:50nm，分散介質：水）、10.6g的純水、8.0g異丙醇，配制成固體成分濃度 為20.0重量％的用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-4P)。
[0211] 具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-4F)的制造
[0212] 除了在實施例1中用(H-4P)替代(H-1P)作為用于形成硬質涂層膜的涂布液以外， 按照與實施例1相同的方式制得具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-4F)。此時，膜基材的厚度 為100M1，硬質涂層膜的膜厚為3.2M1。
[0213] 對所得到的具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-4F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均（海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以及耐擦傷性進行測 定，結果不于表中。
[0214][實施例5]
[0215] 用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-5P)的配制
[0216]在10.Og按照與實施例1相同的方式配制成的表面處理二氧化硅微粒(H-1VS)的水 分散液中混入13.5g聚氨酯樹脂乳液(第一工業制藥株式會社:SUPERFLEX 150，樹脂濃度為 30重量％，乳液直徑:70nm，分散介質：水）、3.5g異丙醇，配制成固體成分濃度為30.0重量％ 的用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-5)。
[0217] 具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-5F)的制造
[0218] 除了在實施例1中用(H-5P)替代(H-1P)作為用于形成硬質涂層膜的涂布液以外， 按照與實施例1相同的方式制得具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-5F)。此時，膜基材的厚度 為lOOwn，硬質涂層膜的膜厚為4.9M1。
[0219] 對所得到的具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-5F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均（海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以及耐擦傷性進行測 定，結果不于表中。
[0220] [實施例6]
[0221] 用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-6P)的配制
[0222]在10.0g的將實施例1的固體成分濃度調至60重量％而成的表面處理二氧化硅微 粒(H-6VS)中混入17. lg聚氨酯樹脂乳液(第一工業制藥株式會社:SUPERFLEX 210,樹脂濃 度為35重量％，乳液直徑:50nm，分散介質:水）、6.8g異丙醇，配制成固體成分濃度為35.3重 量％的用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-6P)。
[0223] 具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-6F)的制造
[0224] 利用棒涂法(棒#72)在按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜（1)上 涂布用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-6P)，接著，在140°C加溫下以使縱軸方向上達到2.5 倍、橫軸方向上達到4.5倍的條件進行拉伸，然后，在140°C下進行120秒的干燥，制得具有硬 質涂層膜的拉伸膜基材(H-6F)。此時，基材的厚度為lOOwn，硬質涂層膜的膜厚為2wii。
[0225] 對所得到的具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-6F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均（海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以及耐擦傷性進行測 定，結果不于表中。
[0226] [實施例7]
[0227] 具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-7F)的制造
[0228] -邊在140°C加溫下對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜（1)以 使縱軸方向上達到2.5倍的條件進行拉伸，一邊利用棒涂法(棒#60)涂布按照與實施例1相 同的方式配制成的用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-1P)，接著，在140°C加溫下以使橫軸方 向上達到4.5倍的條件進行拉伸，然后，在140°C下進行120秒的干燥，制得具有硬質涂層膜 的拉伸膜基材(H-7F)。此時，基材的厚度為IOOmi，防反射膜的膜厚為5. lwii。
[0229] 對所得到的具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-7F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均（海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以及耐擦傷性進行測 定，結果不于表中。
[0230] [實施例8]
[0231] 具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-8F)的制造
[0232] -邊在140°C加溫下對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜（1)以 使縱軸方向上達到2.5倍、橫軸方向上達到4.5倍的條件進行拉伸，一邊利用棒涂法(棒#16) 涂布按照與實施例1相同的方式配制成的用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-1P)，然后，在 140°C下進行120秒的干燥，制得具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-8F)。此時，膜基材的厚度 為1 OOym，防反射膜的膜厚為5mi。
[0233] 對所得到的具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-8F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均（海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以及耐擦傷性進行測 定，結果不于表中。
[0234] [實施例9] _5] 用于形成硬質涂層膜的涂布液(H-9P)的配制
[0236] 向100g實施例1中得到的固體成分濃度為20重量％的二氧化硅微粒(H-1V)的醇分 散液中添加2g聚丙烯酸分散劑（東亞合成株式會社(東亜合成(株））制造:Aron SD-10)，在 50 °C下進行加熱處理，再次使用超濾膜將分散介質置換成乙醇而配制成固體成分濃度為20 重量％的二氧化硅微粒(H-9VS)的醇分散液。使用旋轉蒸發器將分散介質置換為水，配制成 固體成分濃度為40.5重量％的表面處理二氧化硅微粒(H-9VS)的水分散液。此時堿金屬的 濃度為200ppm。
[0237] 接著，在10.0g表面處理二氧化硅微粒(H-9VS)的水分散液中混合11.4g聚氨酯樹 脂乳液(第一工業制藥株式會社:SUPERFLEX 210,樹脂濃度為35重量％，乳液直徑:50nm，分 散介質：水）、5.3g異丙醇，配制成固體成分濃度為30.0重量％的用于形成硬質涂層膜的涂 布液(H-9P)。
[0238] 具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-9F)的制造
[0239] 在140°C加溫下對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜(1)以使縱 軸方向上達到2.5倍的條件進行拉伸，接著，利用棒涂法(棒#60)涂布用于形成硬質涂層膜 的涂布液(H-9P)，在80 °C下干燥120秒后，照射600mJ/cm2的紫外線使其固化，之后在140 °C 加溫下以使橫軸方向上達到4.5倍的條件進行拉伸，然后，在140°C下進行120秒的干燥，制 得具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-9F)。此時，基材的厚度為lOlwii，防反射膜的膜厚為5y m〇
[0240] 對所得到的具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(H-9F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均（海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以及耐擦傷性進行測 定，結果不于表中。
[0241] [比較例1]
[0242] 用于形成硬質涂層膜的涂布液(RH-1P)的配制
[0243]將53g二季戊四醇六丙烯酸酯（共榮社化學株式會社（共栄社化學（株））制造： LIGHT ACRYLATE DPE-6A)、5.9g的1，6-己二醇二丙烯酸酯（日本化藥株式會社（日本化薬 (株））制造:KAYARAD KS-HDDA)、0.4g單鏈端甲基丙烯酸有機硅油(信越化工株式會社(信越 化學工業(株））制造4-22-1740乂）、75.58丙二醇單甲醚、和3.5 8光聚合引發劑2,4,6-三甲 基苯甲酰二苯基氧化膦（BAS日本株式會社（tf 一工一工只"十(株））制造：Lucirin TPO)進行混合，配制成固體成分濃度為44重量％的基質形成成分溶液(1)。
[0244]然后，將30.0g固體成分濃度為44重量％的基質形成成分溶液（1)與30.0g按照與 實施例1相同的方式配制成的固體成分濃度為40重量％的二氧化硅微粒(H-1VS)的醇分散 液和22.6g異丙醇混合，配制成固體成分濃度為30重量％的用于形成透明被膜的涂布液 (RH-lP)〇
[0245] 具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(RH-1F)的制造
[0246] 在140°C加溫下對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜(1)以使縱 軸方向上達到2.5倍的條件進行拉伸，接著，利用棒涂法(棒#60)涂布用于形成硬質涂層膜 的涂布液(RH-1P)，在80°C下干燥120秒后，照射600mJ/cm 2的紫外線使其固化，之后在140°C 加溫下以使橫軸方向上達到4.5倍的條件進行拉伸，然后，在140°C下進行120秒的干燥，制 得具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(RH-1F)。此時，基材的厚度為lOOwii，防反射膜的膜厚為如 m〇
[0247] 對所得到的具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(RH-1F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均（海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以及耐擦傷性進行測 定，結果不于表中。
[0248] [比較例2]
[0249] 用于形成硬質涂層膜的涂布液(RH-2P)的配制
[0250] 將3.8g聚氨酯樹脂乳液(第一工業株式會社制造:SUPERFLEX 210，樹脂濃度為35 重量％，粒徑:50nm，分散介質：水）、17.4g異丙醇、1.8g甲基異丁基酮、和1.7g異丙二醇進行 混合，調制成乳狀稀釋液。
[0251 ] 對乳狀稀釋液進行觀察，結果是目視下呈透明，另外，由于無法測得粒徑，因此推 測樹脂乳液已消失。
[0252] 然后，添加3.28g按照與實施例1相同的方式配制成的表面處理二氧化硅微粒(H-1VS)的水分散液，配制成固體成分濃度為9.5重量％的用于形成硬質涂層膜的涂布液(RH-2P)〇
[0253] 具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(RH-2F)的制造
[0254] 在140°C加溫下對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜(1)以使縱 軸方向上達到2.5倍的條件進行拉伸后，利用棒涂法(棒#50)涂布用于形成硬質涂層膜的涂 布液(RH-2P)，然后，在140 °C下進行120秒的干燥后，在140 °C加溫下以使橫軸方向上達到 4.5倍的條件進行拉伸，制得具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(RH-2F)。此時，基材的厚度為 lOOwn，硬質涂層膜的膜厚為5ym。
[0255] 對所得到的具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(RH-2F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均（海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以及耐擦傷性進行測 定，結果不于表中。
[0256] [比較例3]
[0257] 具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(RH-3F)的制造
[0258] 對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜(1)進行雙軸拉伸，制得厚 度為100M1的聚酯樹脂膜基材。
[0259] 然后，利用棒涂法(棒#18)涂布按照與比較例1相同的方式配制成的固體成分濃度 為30.0重量％的用于形成硬質涂層膜的涂布液(RH-1P)，接著，在80°C下進行120秒的干燥， 之后照射600mJ/cm 2的紫外線使其固化，制得具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(RH-3F)。此時， 基材的厚度為lOOwn，硬質涂層膜的膜厚為5wii。
[0260] 對所得到的具有硬質涂層膜的拉伸膜基材(RH-3F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均（海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以及耐擦傷性進行測 定，結果不于表中。
[0261][實施例10]
[0262] 用于形成易粘接層的涂布液(P-10P)的配制
[0263] 在33.2g實施例1中得到的二氧化硅微粒(H-1VS)的水分散液中混入1.4g二氧化硅 有機溶膠（日揮觸媒化成株式會社制造:ELCOM V-8901，平均粒徑為120nm，Si02濃度為20重 量％，分散介質：甲醇）、88.5g聚氨酯樹脂乳液(第一工業株式會社制造:SUPERFLEX 210，樹 脂濃度為35重量％，乳液直徑:50nm，分散介質：水）、89. lg異丙醇、233.2g純水，配制成固體 成分濃度為10.0重量％的用于形成易粘接層的涂布液(P-10P)。
[0264] 具有易粘接層的拉伸膜基材(P-10F)的制備
[0265] 對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜(1)進行縱軸拉伸（140°C， 2.5倍拉伸）之后，利用棒涂法(棒#4)涂布用于形成易粘接層的涂布液0-1〇?)，在14〇°(：下 進行120秒的干燥之后，進行橫軸拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有易粘接層的拉伸膜基 材(P-10F)。此時，膜基材的厚度為lOOwii，易粘接層的膜厚為O.lMi。
[0266] 對所得到的具有易粘接層的拉伸膜基材(P-10F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性、耐擦傷性、抗結塊性以 及粘接性進行測定，還對干涉條紋進行觀察，結果示于表中。另外，利用以下方法對抗結塊 性、粘接性和干涉條紋進行評價。
[0267] 抗結塊性
[0268] 將具有易粘接層的拉伸膜基材(P-10F)的一部分切斷成兩塊，在其中的一塊具有 易粘接層的拉伸膜基材(基材+易粘接層)上重疊另一塊具有易粘接層的拉伸膜基材(基材+ 易粘接層），按照每lcm 2上10kg的負荷施加負重，對放置24小時后的剝離的難易程度按照以 下基準進行評價。
[0269] 非常容易剝離:◎
[0270] 能夠容易地剝離：〇
[0271] 稍微難以剝離:A
[0272] 無法剝離或難以剝離：X
[0273] 干涉條紋
[0274] 在使具有易粘接層的拉伸膜基材(P-10F)的背景為黑色的狀態下，使熒光燈的光 線在透明被膜的表面反射，目視觀察由于光的干涉而形成的彩虹圖案，按照以下基準進行 評價。
[0275] 完全未見彩虹圖案:◎
[0276] 略見彩虹圖案：〇
[0277] 顯見彩虹圖案:A
[0278] 見鮮明彩虹圖案：X [0279] 粘接性的評價
[0280]利用棒涂法(棒#12)在具有易粘接層的拉伸膜基材(P-10F)上涂布硬質涂層涂料 (日揮觸媒化成株式會社制造:ELCOM HP-1004)，在80°C下干燥1分鐘后，利用搭載有高壓汞 燈（120W/cm)的紫外線照射裝置（日本電池株式會社（日本電池）制造:UV照射裝置CS30L21-3)對其進行600mJ/cm 2的照射使其固化，制得具有硬質涂層膜?易粘接性層的基材。此時的 硬質涂層膜的厚度為5wii，總膜厚為5.6wii。
[0281] 利用上述方法對所得到的硬質涂料膜的密合性進行測定，對粘接性進行評價。
[0282] [比較例4]
[0283]用于形成易粘接層的涂布液(RP-10P)的配制
[0284] 將38.0g聚氨酯樹脂乳液(第一工業株式會社制造:SUPERFLEX 210，樹脂濃度為35 重量％，粒徑:50nm，分散介質：水）、170.4g異丙醇、18.0g甲基異丁基酮、和17.0g異丙二醇 進行混合，調制成乳狀稀釋液。
[0285] 對乳狀稀釋液進行觀察，結果是目視下呈透明，另外，由于無法測得粒徑，因此推 測樹脂乳液已消失。
[0286] 然后，添加33.2g按照與實施例1相同的方式配制成的二氧化硅微粒(H-1VS)的水 分散液、和〇. 6g二氧化硅有機溶膠（日揮觸媒化成株式會社制造:ELCOM V-8901，平均粒徑 為12011!11，5102濃度為20重量％，分散介質：甲醇），配制成固體成分濃度為7.4重量％的用于 形成易粘接層的涂布液(RP-4P)。
[0287] 具有易粘接層的拉伸膜基材(RP-1)的制備
[0288] 對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜(1)進行縱軸拉伸（140°C， 2.5倍拉伸）之后，利用棒涂法(棒#6)涂布用于形成易粘接層的涂布液(1^-4?)，在140°(：下 進行120秒的干燥之后，進行橫軸拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有易粘接層的拉伸膜基 材(RP-4F)。此時，膜基材的厚度為lOOwn，易粘接層的膜厚為O.lMi。
[0289] 對所得到的具有易粘接層的拉伸膜基材(RP-4F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性、耐擦傷性以及抗結塊 性進行測定，結果示于表中。還通過按照與實施例9相同的方式形成硬質涂層膜來對粘接性 進行評價。
[0290][實施例11]
[0291] 用于形成防帶電膜的涂布液(AS-11P)的配制
[0292] 使60g摻Sb氧化錫(AT0)微粒（日揮觸媒化成株式會社制造:ELCOM TL-30HK，Sb2〇5 含量為16重量％，平均粒徑為8nm)分散于140g濃度為4.3重量％的氫氧化鉀水溶液中，一邊 將該分散液保溫在30°C，一邊用砂磨機進行3小時的粉碎以配制成溶膠。
[0293]然后，利用離子交換樹脂對該溶膠進行脫堿金屬離子處理直至pH為3.0，然后加入 純水而配制成固體成分濃度為20重量％的摻Sb氧化錫微粒分散液(AS-11V)。該AT0微粒分 散液的pH為3 ? 3。另外，平均粒徑為8nm 〇
[0294] 然后，將lOOg濃度為20重量％的八?微粒分散液(AS-11V)調整至25°C，用3分鐘來 添加l.Og硅烷偶聯劑（甲基三甲氧基硅烷）（信越化學株式會社制造:KBM-13)，之后進行30 分鐘的攪拌。然后用1分鐘來添加l〇〇g乙醇，用30分鐘升溫至50°C，進行15小時的過熱處理。 此時的固體成分濃度為10重量％。
[0295] 然后，利用超濾膜將分散介質從水、乙醇的混合溶劑置換成水，配制成固體成分濃 度為30重量％的經過表面處理的AT0微粒水分散液（43-11￥3)。此時堿金屬的濃度為 lOOppm。
[0296] 接著，在5.0g經過表面處理的AT0微粒水分散液(AS-11VS)中混入38.6g聚氨酯樹 脂乳液(第一工業制藥株式會社:SUPERFLEX 210，樹脂濃度為35重量％，粒徑:50nm，分散介 質：水）、6.4g異丙醇，配制成固體成分濃度為30.0重量％的用于形成防帶電膜的涂布液 (AS-11P)。
[0297] 具有防帶電膜的拉伸膜基材(AS-11F)的制造
[0298]對按照與實施例1相同的方式制得的聚酯樹脂膜（1)進行縱軸拉伸（140°C，2.5倍 拉伸)之后，利用棒涂法(棒#42)涂布用于形成防帶電膜的涂布液(AS-11P)，在140°C下進行 120秒的干燥之后，進行橫軸拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有防帶電膜的拉伸膜基材 (AS-11F)。此時，膜基材的厚度為lOOwii，防帶電膜的膜厚為3mi。
[0299] 對所得到的具有防帶電膜的拉伸膜基材(AS-11F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性、耐擦傷性以及表面電 阻值進行測定，結果示于表中。還利用表面電阻計（三菱化學株式會社（三菱化學（株））制 造:Hiresta)來測定表面電阻值。
[0300] [比較例5]
[0301] 用于形成防帶電膜的涂布液(RAS-5P)的配制
[0302] 將38.0g聚氨酯樹脂乳液(第一工業株式會社制造:SUPERFLEX 210，樹脂濃度為35 重量％，粒徑:50nm，分散介質：水）、170.4g異丙醇、18.0g甲基異丁基酮、和17.0g異丙二醇 進行混合，調制成乳狀稀釋液。
[0303] 對乳狀稀釋液進行觀察，結果是目視下呈透明，另外，由于無法測得粒徑，因此推 測樹脂乳液已消失。
[0304]然后，添加4.9g按照與實施例10相同的方式配制成的固體成分濃度為30重量％的 經過表面處理的AT0微粒水分散液(AS-11VS)，配制成固體成分濃度為5.9重量％的用于形 成防帶電膜的涂布液(RAS-5P)。
[0305] b有防帶電膜的拉伸膜基材(RAS-5F)的制造
[0306]對按照與實施例1相同的方式制得的聚酯樹脂膜（1)進行縱軸拉伸（140°C，2.5倍 拉伸)之后，利用棒涂法(棒#48)涂布用于形成防帶電膜的涂布液(RAS-5P)，在140°C下進行 120秒的干燥之后，進行橫軸拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有防帶電膜的拉伸膜基材 (RAS-5F)。此時，膜基材的厚度為lOOwii，防帶電膜的膜厚為3 ? lwii。
[0307]對所得到的具有防帶電膜的拉伸膜基材(RAS-5F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性、耐擦傷性以及表面電 阻進行測定，結果示于表中。
[0308][實施例12]
[0309] 用于形成隔熱膜的涂布液(HI-12P)的配制
[0310]在98.0g中空二氧化硅有機溶膠（日揮觸媒化成株式會社制造：只少一盯4110，固 體成分濃度:20.5%，平均粒徑為60nm，分散介質：異丙醇）中混入24.0g聚氨酯樹脂乳液(第 一工業株式會社制造:SUPERFLEX 210，樹脂濃度為35重量％，粒徑:50nm，分散介質：水），然 后利用旋轉蒸發器除去溶劑，配制成固體成分濃度為50.0重量％的用于形成隔熱膜的涂布 液(HI-12P)。此時堿金屬的濃度為5ppm。
[0311] 具有隔熱膜的拉伸膜基材(HI-12F)的制造
[0312]對按照與實施例1相同的方式制得的聚酯樹脂膜⑴進行縱軸拉伸（140°C，2.5倍 拉伸)之后，利用噴霧法涂布45wii用于形成隔熱膜的涂布液(HI-12P)，在140°C下進行120秒 的干燥之后，進行橫軸拉伸（140°C，1.5倍拉伸），制得具有隔熱膜的拉伸膜基材(HI-12F)。 此時，膜基材的厚度為300mi，隔熱膜的膜厚為30mi。
[0313] 對所得到的具有隔熱膜的拉伸膜基材(HI-12F)的總光線透射率、霧度值、密合性、 鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性、耐擦傷性以及熱導率進行 測定，結果示于表中。另外，通過以下方法來測定熱導率。
[0314] 熱導率的測定
[0315]使用熱線探針式熱導率測定裝置（京都電子株式會社（京都電子）制造:QTM-500) 來對具有隔熱膜的拉伸膜基材(HI-12F)的熱導率進行測定。
[0316][比較例6]
[0317] 用于形成隔熱膜的涂布液(RHI-6P)的配制
[0318] 將38.0g聚氨酯樹脂乳液(第一工業株式會社制造:SUPERFLEX 210，樹脂濃度為35 重量％，粒徑:50nm，分散介質：水）、50.2g異丙醇、18.0g甲基異丁基酮、和17.0g異丙二醇進 行混合，調制成乳狀稀釋液。
[0319] 對乳狀稀釋液進行觀察，結果是目視下呈透明，另外，由于無法測得粒徑，因此推 測樹脂乳液已消失。
[0320]然后，添加151.2g中空二氧化硅有機溶膠（日揮觸媒化成株式會社制造：只少一口 74110,固體成分濃度:20.5%，平均粒徑為60nm，分散介質：異丙醇），配制成用于形成隔熱 膜的涂布液(RHI-6P)。
[0321] 具有隔熱膜的拉伸膜基材(RHI-6F)的制造
[0322]對按照與實施例1相同的方式制得的聚酯樹脂膜（1)進行縱軸拉伸（140°C，2.5倍 拉伸)之后，利用噴霧法涂布45wii用于形成隔熱膜的涂布液(RHI-6P)，在140°C下進行120秒 的干燥之后，進行橫軸拉伸（140°C，1.5倍拉伸），制得具有隔熱膜的拉伸膜基材(RHI-6F)。 此時，膜基材的厚度為300mi，隔熱膜的膜厚為30mi。
[0323]對所得到的具有隔熱膜的拉伸膜基材(RHI-6F)的總光線透射率、霧度值、密合性、 鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性、耐擦傷性以及熱導率進行 測定，結果示于表中。
[0324][實施例13]
[0325] 二氧化硅中空微粒(AR-13VS)分散液的配制
[0326] 向100g二氧化硅?氧化鋁溶膠（日揮觸媒化成株式會社制造:USBB-120,平均粒徑 為25nm，Si02 ? Al2〇3濃度為20重量％，固體成分中Al2〇3的含量為27重量％ )中加入3900g純 水后加熱至98°C，在保持該溫度的同時，用6小時來添加1750g以Si02計的濃度為1.5重量％ 的硅酸鈉水溶液和1750g以Al2〇3計的濃度為0.5重量％的鋁酸鈉水溶液，得到Si0 2 ? Al2〇3- 次粒子分散液。此時反應液的pH為11.8，固體成分濃度為0.7%。另外，平均粒徑為40nm。然 后，用6小時來添加1530g以Si0 2計的濃度為1.5重量％的硅酸鈉水溶液和500g以Al2〇3計的 濃度為0.5重量％的鋁酸鈉水溶液，得到9500g固體成分濃度為0.8重量％的二氧化硅?氧 化鋁被覆復合氧化物粒子分散液。另外，平均粒徑為60nm。
[0327] 然后，向500g利用超濾膜洗凈的固體成分濃度為13重量％的二氧化硅?氧化鋁被 覆復合氧化物粒子(1)的分散液中加入1125g純水，再滴加濃鹽酸(濃度為35.5重量％)使pH 為1.0，進行脫鋁處理。然后，一邊加入10L pH為3的鹽酸水溶液和5L純水，一邊對利用超濾 膜對溶解了的鋁鹽進行分離?洗凈，得到固體成分濃度為20重量％的二氧化硅粒子（1)的 水分散液。
[0328] 然后，將包含150g二氧化硅微粒（1)的水分散液、500g純水、1750g乙醇和626g濃度 為28重量％的氨水的混合液加熱至35°C后，添加80g硅酸乙酯（Si0 2濃度為28重量％)以形 成二氧化硅被覆層，一邊加入5L純水一邊用超濾膜洗凈，得到形成有固體成分濃度為20重 量％的二氧化硅被覆層的二氧化硅類中空微粒的水分散液。
[0329] 然后，向形成有二氧化硅被覆層的二氧化硅中空微粒分散液中添加氨水而將分散 液的pH調節至10.5,接著，在150°C下熟成1小時后，冷卻至常溫，使用400g陽離子交換樹脂 (三菱化學株式會社(三菱化學(株））制造:DIAION SK1B)進行3小時的離子交換，接著，使用 200g陰離子交換樹脂(三菱化學株式會社制造:DIAION SA20A)進行3小時的離子交換，再用 200g陽離子交換樹脂(三菱化學株式會社制造:DIAION SK1B)在80°C下進行3小時的離子交 換后洗凈，得到固體成分濃度為20重量％的二氧化硅中空微粒(13T)的水分散液。
[0330]然后，再次在150 °C下對二氧化硅中空微粒（13T)分散液進行11小時的水熱處理 后，冷卻至常溫，使用400g陽離子交換樹脂(三菱化學株式會社制造:DIAION SK1B)進行3小 時的離子交換，接著，使用200g陰離子交換樹脂(三菱化學株式會社制造:DIAION SA20A)進 行3小時的離子交換，再用200g陽離子交換樹脂(三菱化學株式會社制造:DIAION SK1B)在 80 °C下進行3小時的離子交換后洗凈，得到固體成分濃度為20重量％的二氧化硅中空微粒 (AR-13V)的水分散液。
[0331]使用超濾膜將分散介質置換成乙醇，配制成固體成分濃度為20重量％的二氧化硅 中空微粒(AR-13V)的醇分散液。
[0332]向100g固體成分濃度為20重量％的二氧化硅中空微粒(AR-13V)的醇分散液中加 入2g甲基硅烷偶聯劑（甲基三甲氧基硅烷，信越化學株式會社制造:KBM-13)，在50°C下進行 加熱處理，配制成固體成分濃度為20重量％的表面處理二氧化硅類中空微粒(AR-13VS)的 醇分散液。使用旋轉蒸發器將分散介質置換為水，配制成固體成分濃度為20重量％的表面 處理二氧化硅中空微粒(AR-13VS)的水分散液。此時堿金屬的濃度為5ppm。
[0333] 用于形成防反射膜的涂布液(AR-13P)的配制
[0334]在10.0g固體成分濃度為20重量％的表面處理二氧化硅中空微粒(AR-13VS)的水 分散液中混入3.8g聚氨酯樹脂乳液(第一工業制藥株式會社：SUPERFLEX 210，樹脂濃度為 35重量％，粒徑:50nm，分散介質：水）、18g純水、1.53g異丙醇，配制成固體成分濃度為10.0 重量％的用于形成防反射膜的涂布液(AR-13P)。
[0335] 具有防反射膜的拉伸膜基材(AR-1)的制造
[0336] 對按照與實施例1相同的方式制得的聚酯樹脂膜（1)進行縱軸拉伸（140°C，2.5倍 拉伸)之后，利用棒涂法(棒M)涂布用于形成防反射膜的涂布液(AR-13P)，在140°C下進行 120秒的干燥之后，進行橫軸拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有防反射膜的拉伸膜基材 (AR-13F)。此時，膜基材的厚度為lOOwn，防反射膜的膜厚為100M1。
[0337] 對所得到的具有防反射膜的拉伸膜基材(AR-13F)的總光線透射率、霧度值、反射 率、膜的折射率、密合性、鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以 及耐擦傷性進行測定，結果示于表中。
[0338] [比較例7]
[0339] 用于形成防反射膜的涂布液(RAR-7P)的配制
[0340] 將3.8g聚氨酯樹脂乳液(第一工業株式會社制造:SUPERFLEX 210，樹脂濃度為35 重量％，粒徑:50nm，分散介質：水）、17.4g異丙醇、1.8g甲基異丁基酮、和1.7g異丙二醇進行 混合，調制成乳狀稀釋液。
[0341 ] 對乳狀稀釋液進行觀察，結果是目視下呈透明，另外，由于無法測得粒徑，因此推 測樹脂乳液已消失。
[0342]然后，添加 10.0g按照與實施例13相同的方式配制成的經過表面處理的二氧化硅 中空微粒(AR-13VS)的水分散液，配制成用于形成防反射膜的涂布液(RAR-7P)。
[0343] 具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-7F)的制造
[0344] 在140°C加溫下對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜(1)以使縱 軸方向上達到2.5倍的條件進行拉伸后，利用棒涂法(棒#18)涂布用于形成防反射膜的涂布 液(1^1?-1?)，然后，在140°(：下進行120秒的干燥后，在140°(：加溫下以使橫軸方向上達到4.5 倍的條件進行拉伸，制得具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-1F)。此時，基材的厚度為lOOwn， 防反射膜的膜厚為1 〇〇nm 〇
[0345] 對所得到的具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-1F)的總光線透射率、霧度值、反射 率、膜的折射率、密合性、鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以 及耐擦傷性進行測定，結果示于表中。
[0346][實施例14](中空二氧化硅的聚合物分散劑的使用）
[0347]向100g與實施例13相同的固體成分濃度為20重量％的二氧化硅中空微粒(AR-13V)的醇分散液中加入2g聚丙烯酸分散劑（東亞合成株式會社制造:Aron SD-10)，在50°C 下進行加熱處理，配制成固體成分濃度為20重量％的二氧化硅中空微粒(AR-2)的醇分散 液。使用旋轉蒸發器將分散介質置換為水，配制成固體成分濃度為20重量％的表面處理二 氧化硅中空微粒(AR-14VS)的水分散液。此時，pH為9.0。此時堿金屬的濃度為5ppm。
[0348] 用于形成防反射膜的涂布液(AR-14P)的配制
[0349]在10.0g固體成分濃度為20重量％的表面處理二氧化硅中空微粒(AR-14VS)的水 分散液中混入3.8g聚氨酯樹脂乳液(第一工業制藥株式會社：SUPERFLEX 210，樹脂濃度為 35重量％，粒徑:50nm，分散介質：水）、18g純水、1.53g異丙醇，配制成固體成分濃度為10.0 重量％的用于形成防反射膜的涂布液(AR-14P)。
[0350] 具有防反射膜的拉伸膜基材(AR-14F)的制造
[0351]對按照與實施例1相同的方式制得的聚酯樹脂膜（1)進行縱軸拉伸（140°C，2.5倍 拉伸)之后，利用棒涂法(棒M)涂布用于形成防反射膜的涂布液(AR-14P)，在140°C下進行 120秒的干燥之后，進行橫軸拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有防反射膜的拉伸膜基材 (AR-14F)。此時，膜基材的厚度為lOOwn，防反射膜的膜厚為100nm。
[0352]對所得到的具有防反射膜的拉伸膜基材(AR-14F)的總光線透射率、霧度值、反射 率、膜的折射率、密合性、鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以 及耐擦傷性進行測定，結果示于表中。
[0353][比較例8]聚合物分散劑過多
[0354] 用于形成防反射膜的涂布液(RAR-8P)的配制
[0355]除了在實施例14中添加80g聚丙烯酸分散劑以外，按照與實施例14相同的方式配 制成表面處理二氧化硅中空微粒(RAR-8VS)的水分散液，添加10 . Og該二氧化硅中空微粒 (RAR-8VS)的水分散液，配制成用于形成防反射膜的涂布液(RAR-8P)。
[0356] 具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-8F)的制造
[0357]在140°C加溫下對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜(1)以使縱 軸方向上達到2.5倍的條件進行拉伸后，利用棒涂法(棒#18)涂布用于形成防反射膜的涂布 液(RAR-8P)，然后，在140°C下進行120秒的干燥后，在140°C加溫下以使橫軸方向上達到4.5 倍的條件進行拉伸，制得具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-8F)。此時，基材的厚度為lOOwii， 防反射膜的膜厚為1 〇〇nm 〇
[0358]對所得到的具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-8F)的總光線透射率、霧度值、反射 率、膜的折射率、密合性、鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以 及耐擦傷性進行測定，結果示于表中。
[0359][比較例9]聚合物分散劑過少 _〇] 用于形成防反射膜的涂布液(RAR-9P)的配制
[0361]除了在實施例14中添加O.lg聚丙烯酸分散劑以外，按照與實施例14相同的方式配 制成表面處理二氧化硅中空微粒(RAR-9VS)的水分散液，添加10 . Og該二氧化硅中空微粒 (RAR-9VS)的水分散液，配制成用于形成防反射膜的涂布液(RAR-9P)。
[0362] 具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-9F)的制造
[0363]在140°C加溫下對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜(1)以使縱 軸方向上達到2.5倍的條件進行拉伸后，利用棒涂法(棒#18)涂布用于形成防反射膜的涂布 液(RAR-9P)，然后，在140°C下進行120秒的干燥后，在140°C加溫下以使橫軸方向上達到4.5 倍的條件進行拉伸，制得具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-9F)。此時，基材的厚度為lOOwii， 防反射膜的膜厚為1 〇〇nm 〇
[0364]對所得到的具有防反射膜的拉伸膜基材(RAR-9F)的總光線透射率、霧度值、反射 率、膜的折射率、密合性、鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以 及耐擦傷性進行測定，結果示于表中。
[0365][實施例15]
[0366] 二氧化鈦微粒(T-l 5VS)分散液的配制
[0367] 向100.0 g二氧化鈦有機溶膠（日揮觸媒化成株式會社制造：才7°卜P <夕1130Z(S_ 25 ?A8)，固體成分濃度:30%，平均粒徑為20nm，分散介質：甲醇）中添加3g甲基硅烷偶聯劑 (甲基三甲氧基硅烷）（信越化學株式會社制造:KBM-13 )，在50 °C下進行加熱處理，再利用超 濾膜將分散介質置換成乙醇，配制成固體成分濃度為20重量％的表面處理二氧化鈦微粒的 醇分散液。在使用旋轉蒸發器將分散介質置換為水之后，用離子交換樹脂進行脫堿金屬離 子處理直至pH為3.0,然后加入純水而配制成固體成分濃度為20重量％的表面處理二氧化 鈦微粒(T-l 5VS)的水分散液。此時堿金屬的濃度為50ppm。 _8]用于形成易粘接層的涂布液(T-15P)的配制
[0369]在1.4g二氧化硅有機溶膠（日揮觸媒化成株式會社制造:ELCOM V-8901，平均粒徑 為120nm，Si02濃度為20重量％，分散介質：甲醇）中混入33.2g表面處理二氧化鈦微粒(T-15VS)、88.5g聚氨酯樹脂乳液(第一工業株式會社制造：SUPERFLEX 210,樹脂濃度為35重 量％，乳液直徑:50nm，分散介質：水）、10 . lg異丙醇，配制成固體成分濃度為10重量％的用 于形成易粘接層的涂布液(T-15P)。
[0370] 具有易粘接層的拉伸膜基材(T-15F)的制備
[0371]對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜(1)進行縱軸拉伸（140°C， 2.5倍拉伸）之后，利用棒涂法(棒#6)涂布用于形成易粘接層的涂布液(1'-15?)，在140°(：下 進行120秒的干燥之后，進行橫軸拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有易粘接層的拉伸膜基 材(T-15F)。此時，膜基材的厚度為lOOwii，易粘接層的膜厚為0.6mi。
[0372]對所得到的具有易粘接層的拉伸膜基材(T-15F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性、耐擦傷性、抗結塊性以 及粘接性進行測定，還對干涉條紋進行觀察，結果示于表中。
[0373][比較例 10]
[0374]用于形成易粘接層的涂布液(RT-10P)的配制
[0375] 將38.0g聚氨酯樹脂乳液(第一工業株式會社制造:SUPERFLEX 210，樹脂濃度為35 重量％，粒徑:50nm，分散介質：水）、170.4g異丙醇、18.0g甲基異丁基酮、和17.0g異丙二醇 進行混合，調制成乳狀稀釋液。
[0376] 對乳狀稀釋液進行觀察，結果是目視下呈透明，另外，由于無法測得粒徑，因此推 測樹脂乳液已消失。
[0377] 然后，添加0.6g二氧化硅有機溶膠（日揮觸媒化成株式會社制造:ELCOM V-8901， 平均粒徑為120nm，Si02濃度為20重量％，分散介質：甲醇）、14.3g表面處理二氧化鈦微粒 (T-15VS)，配制成固體成分濃度為7.4重量％的用于形成易粘接層的涂布液(1^-10?)。 [0378] 具有易粘接層的拉伸膜基材(RT-10F)的制造
[0379]對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜（1)進行縱軸拉伸（140°C， 2.5倍拉伸)之后，利用棒涂法(棒#40)涂布用于形成易粘接層的涂布液(1?1'-10?)，在1401€ 下進行120秒的干燥之后，進行橫軸拉伸（140°C，4.5倍拉伸），制得具有易粘接層的拉伸膜 基材(RT-10F)。此時，膜基材的厚度為lOOwn，易粘接層的膜厚為0.6mi。
[0380]對所得到的具有易粘接層的拉伸膜基材(RT-10F)的總光線透射率、霧度值、密合 性、鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性、耐擦傷性、抗結塊性以 及粘接性進行測定，還對干涉條紋進行觀察，結果示于表中。
[0381] [比較例11]
[0382] 二氧化鈦微粒(RT-11VS)分散液的配制
[0383] 除了在實施例15中不添加離子交換樹脂以外，按照與實施例15相同的方法配制成 表面處理二氧化鈦微粒(RT-11 VS)的水分散液。此時堿金屬的濃度為1500ppm。
[0384]用于形成易粘接層的涂布液(RT-11P)的配制
[0385]添加10.0g表面處理二氧化鈦微粒(RT-11VS)的水分散液，配制成用于形成防反射 膜的涂布液(RT-11P)。
[0386] 具有易粘接層的拉伸膜基材(RT-11F)的制造
[0387] 在140°C加溫下對按照與實施例1相同的方式制得的基材用聚酯樹脂膜(1)以使縱 軸方向上達到2.5倍的條件進行拉伸后，利用棒涂法(棒#18)涂布用于形成防反射膜的涂布 液(訂_11?)，然后，在140°(：下進行120秒的干燥后，在140°(：加溫下以使橫軸方向上達到4.5 倍的條件進行拉伸，制得具有防反射膜的拉伸膜基材(RA-11F)。此時，基材的厚度為lOOwn， 防反射膜的膜厚為1 〇〇nm 〇
[0388] 對所得到的具有防反射膜的拉伸膜基材(RT-11F)的總光線透射率、霧度值、反射 率、膜的折射率、密合性、鉛筆硬度、斑點、膜不均(海島結構）、有無裂紋、膜表面的平坦性以 及耐擦傷性進行測定，結果示于表中。
[0389] 在上述實施例或比較例中，以式（1)表示的有機硅化合物可使用甲基三甲氧基硅 烷，其它還可例舉四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷、苯基三甲氧 基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、異丁基三甲氧基硅烷、丁基三甲氧基硅烷、 丁基三乙氧基硅烷、異丁基三乙氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、癸基三 乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、辛基三甲氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基 硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三⑴甲氧基乙氧基)硅烷、3，3，3_三氟丙基三甲氧基硅 烷、甲基-3，3，3-三氟丙基二甲氧基硅烷、(3，4-環氧基環己基）乙基三甲氧基硅烷、二甲 基^甲氧基硅烷、^甲基^乙氧基硅烷、^苯基^甲氧基硅烷、^苯基^乙氧基硅烷、y _環 氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、y -環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、y -環氧丙氧基丙基 三乙氧基硅烷、y -環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、y -⑴-環氧丙氧基乙氧基）丙基三 甲氧基硅烷、y-(甲基）丙烯酰氧基甲基三甲氧基硅烷、y-(甲基）丙烯酰氧基甲基三乙氧 基硅烷、y-(甲基）丙烯酰氧基乙基三甲氧基硅烷、y-(甲基）丙烯酰氧基乙基三乙氧基硅 烷、y-(甲基）丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、y-(甲基）丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、 脲基異丙基丙基三乙氧基硅烷、全氟辛基乙基三甲氧基硅烷、全氟辛基乙基三乙氧基硅 烷、全氟辛基乙基三異丙氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、N-P(氨基乙基）y-氨基丙基甲 基二甲氧基硅烷、N-P(氨基乙基）y -氨基丙基三甲氧基硅烷、N-苯基-y -氨基丙基三甲氧 基硅烷、y -巰基丙基三甲氧基硅烷、三甲基硅烷醇、甲基三氯硅烷、y -異氰酸酯丙基三乙 氧基硅烷、y-脲基丙基三乙氧基硅烷等。
[0390] [表 1-1]

【主權項】
1. 一種用于形成透明被膜的涂布液，該涂布液是無機氧化物微粒和樹脂乳液分散于含 有水和有機溶劑中的至少一種的分散介質中的涂布液， 所述涂布液的全部固體成分濃度為0.03~70重量％，所述無機氧化物微粒的濃度(Cp) 以固體成分計在0.0009~56重量％的范圍內，所述樹脂乳液的濃度(Cr)以固體成分計在 0.006~68重量％的范圍內， 所述無機氧化物微粒中所含有的堿金屬的固體成分濃度總量以氧化物(Me20，Me = Li、 Na、K)計在 lOOOppm以下。2. 如權利要求1所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，所述無機氧化物微粒 經過采用有機硅化合物和聚合物分散劑中的至少一種進行的表面處理， 所述有機娃化合物相對于所述無機氧化物微粒以固體成分計、作為Rn-SiX(4-n)/2在1~ 1〇〇重量％的范圍內存在， 所述聚合物分散劑相對于所述無機氧化物微粒以固體成分計在1~300重量％的范圍 內存在。3. 如權利要求1或2所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，所述無機氧化物 微粒是單分散的無機氧化物微粒(A)、和一次粒子3~30個連接成鏈狀的鏈狀無機氧化物微 粒(B)中的至少一種， 所述無機氧化物微粒(A)的平均粒徑(Dpa )在3 < Dpa< 1 OOnm的范圍內， 所述無機氧化物微粒(B)的平均一次粒徑(Dpb)在3<DpB<50nm的范圍內。4. 如權利要求3所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，還含有平均粒徑(DPC) 為100<Dpc$500nm的無機氧化物微粒(C)，所述無機氧化物微粒(C)的濃度(Cpc)以固體成 分計在0.000003~5重量％的范圍內。5. 如權利要求1~4中任一項所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，所述無 機氧化物微粒選自1102、2抑 2、3丨02、313205、21102、3110 2、111203、摻銻氧化錫以1'0)、摻錫氧化銦 (IT0)、摻F氧化錫(FT0)、摻磷氧化錫(PT0)、摻鋁氧化鋅(AZ0)中的至少一種、或它們的復合 氧化物或混合物。6. 如權利要求1~5中任一項所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，所述樹 脂乳液的樹脂選自環氧樹脂、聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酰胺樹脂、聚苯醚樹脂、氯乙烯樹 月旨、氟樹脂、乙酸乙烯酯樹脂、有機硅樹脂、聚氨酯樹脂、三聚氰胺樹脂、丁縮醛樹脂、酚醛樹 月旨、不飽和聚酯樹脂、丙烯酸樹脂、或這些樹脂的兩種以上的共聚物或改性體中的至少一 種。7. 如權利要求1~6中任一項所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，所述樹 脂乳液的平均直徑在10~500nm的范圍內。8. 如權利要求1~7中任一項所述的用于形成透明被膜的涂布液，其特征在于，所述無 機氧化物微粒的濃度(&)與樹脂乳液的濃度(C R)的比值(Cp/Cr)在0.03~4的范圍內。9. 一種具有透明被膜的基材的制造方法，該制造方法依次進行以下工序(a)~(d): (a) 在基材上涂布權利要求1~8中任一項所述的用于形成透明被膜的涂布液的工序； (b) 對具有涂膜的基材進行雙軸(縱軸和橫軸)拉伸的工序； (c) 去除(干燥)所述涂膜中所含有的分散介質的工序； (d) 使所述涂膜固化的工序。10. -種具有透明被膜的基材的制造方法，該制造方法依次進行以下工序(a'）~(d): (a'）在經過縱軸拉伸的基材上涂布權利要求1~8中任一項所述的用于形成透明被膜 的涂布液的工序； (b'）對具有涂膜的基材進行橫軸拉伸的工序； (c) 去除(干燥)所述涂膜中所含有的分散介質的工序； (d) 使所述涂膜固化的工序。11. 一種具有透明被膜的基材的制造方法，該制造方法依次進行以下工序(a"）~(d): (a"）一邊對基材進行縱軸拉伸，一邊在基材上涂布權利要求1~8中任一項所述的用于 形成透明被膜的涂布液的工序； (b"）對具有涂膜的基材進行橫軸拉伸的工序； (c) 去除(干燥)所述涂膜中所含有的分散介質的工序； (d) 使所述涂膜固化的工序。12. -種具有透明被膜的基材的制造方法，該制造方法依次進行以下工序(a"'）~(d): (a" '）一邊對基材進行雙軸(縱軸和橫軸)拉伸，一邊在基材上涂布權利要求1~8中任 一項所述的用于形成透明被膜的涂布液的工序； (c) 去除(干燥)所述涂膜中所含有的分散介質的工序； (d) 使所述涂膜固化的工序。
【文檔編號】C09D201/00GK106029798SQ201580008556
【公開日】2016年10月12日
【申請日】2015年2月12日
【發明人】二神涉, 松田政幸, 村口良
【申請人】日揮觸媒化成株式會社